我國的晶片製造到底是受哪些技術制約，光刻機哪些技術受制約？積體電路這一塊我們目前水平和西方國家還是有不小差距，受制於地方主要這兩方面影響大一點，其它方面也是有。第一就是這個晶片的架構都是由ARM公司提供授權，設計晶片需要它這個架構。第二就是這個設計晶片所需要的輔助EDA軟體，這些基本也是西方國家佔據優勢。我們國內也是有一些EDA軟體，但是因為國外的一些EDA盜版軟體在國內橫行，這些國內廠商也是難以翻身。從實際使用來看，國內軟體與國外還是有部分差距。

其實這種放任盜版策略就像微軟公司放任Windows系統盜版橫行一個樣，它的目的就是限制你的國產系統和軟體的發展。國內也是可以做光刻機，例如上海微電子裝置有限公司也是可以生產光刻機，但是與光刻機巨頭荷蘭ASML技術不是一個級別。

目前來說國產光刻機還是以90nm為主，中微半導體做的蝕刻機達到了比較高的水平5nm，而在早兩年前ASML的光刻機就可以做7nm手機處理器。光刻機所需要關鍵部件就是鏡頭，這個鏡頭是由德國蔡司公司提供。蔡司的鏡頭不對我們出售，它的鏡頭技術得到了幾十年的技術沉澱，同時它也是ASML大股東，給荷蘭ASML提供頂尖的鏡頭。

而我們得不到這些鏡頭，國內的鏡頭生產工藝目前也是達不到蔡司的水平，想要做像ASML一樣的光刻機自然是比較困難。同時還有一個西方制定的《瓦森納協定》簡單來說就是限制我們晶片的發展。不單單鏡頭一個問題，光源、軸承、以及程式控制、高精度的對準系統等等都是我們國內目前工藝達不到的。ASML能做出頂尖的光刻機也是靠著全球很多家頂尖公司提供的技術進行整合，因此想要做出頂尖光刻機是非常的難，首先你的一些部件生產工藝就得達到頂尖的水平。

現在又有報道說美方開始全球範圍內限制華為晶片生產，西方國家一直是想盡一切方法打壓我們國內晶片生產。從中芯國際前幾年訂購的EUV光刻機一直被推遲發貨，現在也是沒什麼資訊。再到現在的打壓華為公司，無不透露著西方國家懼怕我們國內科技企業強大。而在晶片設計生產以及光刻機方面，我們仍需要努力，加大科研投入，不斷進行技術積累，才能早日有所突破。

根據最近輿論的發酵，我們可以知道荷蘭的ASML佔據了幾乎所有的高階光刻機的份額，日本的佳能和尼康佔據了中端的光刻機市場，中國上海微電子佔據低端光刻機市場。但是光刻機它是一種集光學、流體力學、高分子物理與化學、機械自動化、軟體等多個學科融合的頂尖技術產物。ASML只是其中的整合者，一臺光刻機裡包括掩膜版，測量臺，曝光臺，物鏡等等，這每一個零部件都要最優異的才能產出最好的光刻機，有了這些基礎的發展，ASML的研發才能有新的進展。正式因為ASML在當年賭對了浸潤式光刻機是未來發展之路，這也將之前的老大佳能給趕下榜首，從此佔據了高階光刻機的舞臺。根據中國02專項最新進展，預計今年年底我們國家28nm的光刻機就會亮相，雖然距離ASML的EUV光刻機還有所差距，但是路只有自己走，指望誰也成功不了。

光刻機的內部分解圖

目前來講肯定是荷蘭光刻機枝術， 世界三大巨頭都不敢得罪 ，主要合作商英特爾 ，富士，三星 ，臺積電， 可以說 是壟斷性技術。

光刻機，應該是荷蘭比日本的好。荷蘭研製的時間早些。不知道兩國誰賣的更便宜？我國進口了嗎？聽說是不賣給我國的，那我們的光刻機在何時能研製出來呢？

荷蘭的深藍紫光光科技是壟斷市場的唯一產品。美國更是把軍事機密級的鐳射發射機轉讓給他來完成產品。美國資本也是佔了很大比分的。日本也具備製造初級產品但是日本的產品沒有很大銷量更沒有美國的技術支援跟荷蘭的產品比起來差距還是在20年的差距的。短時間很難達到荷蘭光刻機的水平。中國和日本其實可以聯合生產中國有市場中國和日本積極開發中高光刻機

荷蘭毋庸置疑，ASML光刻機前身是飛利浦旗下子公司，嚴格來說它不是荷蘭獨有，它凝聚了美國英特爾，韓國三星，臺灣台積電等世界頂級公司的最高結晶，這些公司佔有主要股份，其上萬個精密零件由全球頂級供應商所提供，中高階市場佔有率80%以上，放眼全球，還沒實力相當的對手。