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1 # 誰有雞湯
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2 # 鼎玉閣
我們可以模擬製作一個光刻機試試就會發現，光刻機涉及到很多問題，需要多次曝光才能獲得清晰圖案，這就涉及到曝光鏡頭元件精度，材料學耐磨，歸零再曝光，聚焦，鏡頭抗摩爾效應，鏡頭解析度光學特性，鏡頭抗逆光鍍膜效果，電路驅動伺服精度涉及到電源線性電源波紋諧波干擾，驅動模組精度jitter失真度，最後帶來的鏡頭抖動精度，如果不夠純淨，那麼抖動出來的必然不清晰，還涉及到光源純度聚焦度，衰減率，一致性，色溫特性，抗輻射外部干擾能力，被燒錄元器件軌道精度，動態對焦歸零精度，我只說了冰山一角，太多需要解決的，
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3 # 浩子哥科技賦能
全球光刻機發展史，光刻機是荷蘭阿斯麥ASML首創的嗎？
很多人都以為光刻機是由全球最先進的光刻機制造商荷蘭阿斯麥ASML首次生產製造的？
甚至，還有人認為，光刻機這種極其複雜的光刻機，難道不是外星科技的產物嗎？
其實，並非如此！
阿斯麥ASML是全球第一家，也是唯一一家研製出EUV極紫外光刻機的廠商；
只有EUV光刻機（採用了波長為13.4nm的紫外線）才能夠用於7nm製程及更先進製程晶片的製造！
阿斯麥ASML也是站在眾多前人巨人的肩上成長起來的！
那麼全球第一臺光刻機到底是怎麼來的呢？
1947年12月，大名鼎鼎的美國貝爾實驗室的肖克利（“電晶體之父”）、巴丁和布拉頓共同研製出了一種點接觸型的鍺電晶體！（三人因此獲得了1956年的諾貝爾物理學獎）
自此以後，光刻技術才有了發展的契機！
……
1958年，德州儀器的傑克·基爾比（積體電路的兩位發明人之一）提出併發明瞭鍺基底擴散工藝的積體電路！（2000年，傑克·基爾比因積體電路的發明被授予諾貝爾物理學獎，這是一個“遲到”了42年的諾貝爾物理學獎）
如果沒有傑克·基爾比，就很難有如今的半導體產業盛況，電腦、手機等電子產品不知道牛年馬月才能進入每一個家庭！
1959年，快捷半導體的羅伯特·諾伊斯（英特爾創始人之一）發明了矽基底平面工藝的積體電路！
由於矽積體電路變成了積體電路市場的主流，羅伯特·諾伊斯與傑克·基爾比，一起被譽為“積體電路之父”！
……
1956年，美國貝爾實驗室用電晶體代替電子管，製成了世界上第一臺全電晶體計算機！
隨後，快捷半導體研製出了世界上第一個適用單結構矽晶片。
20世紀60年代，快捷半導體提出了CMOS IC（積體電路）製造工藝；
IBM研製出了第一臺IC（積體電路）計算機IBM360；
美國GCA公司（美國地球物理學公司）開發出了光學圖形發生器和分佈重複精縮機！
……
20世紀70年代，GCA開發出第一臺分佈重複投影曝光機（光刻機）！
20世紀80年代，SVGL（美國矽谷集團光刻系統公司）開發出了第一代步進掃描投影曝光機（光刻機）！
1995年，日本佳能Cano研製出了300mm晶圓曝光機（光刻機）！
隨後，阿斯麥ASML推出步進掃描曝光機（光刻機），採用的是193nm的波長！
2012年，為了推進EUV極紫外光刻機等先進裝置的研製，阿斯麥ASML推出了“客戶聯合投資專案”，英特爾、臺積電、三星成為了股東，分別持有15%、5%、3%左右的股權！
當阿斯麥ASML搞定EUV光刻機之後，英特爾、臺積電、三星享有了優先採購權！
咱們國內的上海微電子，研製的光刻機已經能夠滿足90nm光刻工藝需求！
光刻機研製之路，難如上青天！
哪怕它再難，咱們也要將它征服！
……
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4 # 天高雲淡10769
最先是做電晶體，一氣做幾千只，一隻幾元，後來想到把各管子連成一塊功能電路，再後來縮小管子面積成了大規模整合塊，這個階段，中國開始只想掙快錢，做基礎辛苦了。最後密度太高跟不上就把大量工廠都廢了。軍方還是堅持了自制，要求比民用低，所以光刻機沒有跟上密度的。要按民間做法，買晶片，什麼中芯國際，上海微電早就沒了。
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5 # 使用者範工
我相信中國科學家的智慧，別人能造出來的東西，華人也能造出來，相信在不久後，7nm的光刻機華人將會造出來
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1820 年，奧斯特從實驗時發現了電流對磁針有力的作用，揭開了電學理論的新的一頁。雅可比在 1834 年製造出世界上第一臺電動機，從而證明了實際應用電能的可能性。1883 年美國發明家愛迪生髮現了熱電子效應，隨後在1904年弗萊明利用這個效應制成了電子二極體，並證實了電子管具有“閥門”作用，他首先將其用於無線電檢波。1906 年美國的德弗雷斯在弗萊明的二極體中放進了第三個電極——柵極而發明了電子三極體，從而建樹了早期電子技術上最重要的里程碑
後面才是生產和材料工藝的逐漸迭代！