光刻機屬於整合電路板塊。光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光來製作一個圖形（工藝）；

在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“複製”到矽片上的過程。

光刻機實際上就是一臺高精度照相機，屬於精密機械裝置製造行業。

目前，能夠生產最先進光刻機裝置的企業是荷蘭ASML，但之前佔世界市場份額最大的企業還有兩家日本公司，分別是佳能和尼康。目前，日本公司已在技術上被荷蘭公司拉開距離。

從表面來看，光刻機屬於機械行業，從技術層面來說屬於微電子行業等各種高精尖行業。 光刻機是晶片的“魂”，晶片是電子產品所必不可少的元件，晶片製造商要想成功地製造出晶片來，必須用到光刻機。對晶片製造商來說，光刻機就是核心的生產裝置。

那麼光刻機是什麼？光刻機是世界工業體系百年積累的結晶，整個機器需要三萬餘個零件，每一個零件都不能有絲毫偏差，一點點的偏差都會對光刻機的電路產生影響。是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵裝置，可以說是半導體晶片之魂。光刻機的精度直接決定了晶片的製程，只有最先進的 EUV 光刻機才能生產 7nm 晶片，此外，最先進的各種感測器的製造也離不開光刻機。

先透過對基底塗覆感光膠曝光，顯影后形成原始圖形；而後透過薄膜、刻蝕、注入等形成一層結構；再透過塗膠和套準曝光、顯影和薄膜、刻蝕、注入等工藝形成第二層結構直至N層結構。複雜的晶片需要上百次套刻和數千道工藝、幾百種裝置才能完成，可以說工藝極複雜，結構超微細。

       光刻機屬於一個各學科整合的產品，泛泛而言，設計到光學、機械加工、電子電路、化學等多個學科知識，它的研發製造歸類為綜合性的半導體加工業。在全世界範圍內，能夠做出光刻機的公司只有少數幾家。而且，目前來說，全世界能生產出最先進的光刻機的企業只有一家——ASML。

光刻機所屬的半導體加工業，目前基本屬於荷蘭和日本所壟斷。

光刻機又叫掩模對準曝光機，光刻系統等，屬於一個各學科整合的產品，包括光學、機械、電子、軟體、演算法、物理、化學、微電子等多個學科。

一臺頂級的光刻機需要，美國的光柵，德國的鏡頭，瑞典的軸承，法國的閥門等等。而這些都對中國禁運。

中國的光刻機廠家上海微電子同樣也是一家整合商，自己不生產關鍵部件，所以目前做不出22奈米以下的光刻機真不是他的責任。

目前國家的政策是讓上海微電子最好中低端的光刻機，畢竟大部分晶片並不需要高階和頂級光刻機。

做好中低端生存下來慢慢培養國內零部件供應商，一點點做大做強。

但是沿著別人的腳步很難超越對方。我們也從其他地方突破，比如武漢光電國家研究中心另闢蹊徑，透過雙光束超衍射極限光刻技術完全不同於目前主流積體電路光刻機不斷降低光刻波長，從193奈米波長的深紫外（DUV）過渡到13.5奈米波長的極紫外（EUV）的技術路線。

問題有點不太嚴謹哦，本質上跟其他工業產品沒什麼區別，只是光刻機屬於精密製造業。其製造太精密、技術太尖端了，沒有幾個國家能玩得起。