晶片離不開，設計，製造，封裝，頭釣尾釣，中間老虎釣，它就是製造這關，光刻膠，在晶片製造起作非常重要的作用，純度，透光性，以及反光效果，有些較微小的晶園體，又需反謝某種特殊頻率的電磁光波，該膠反射光譜不同，簡單講有些膠吸收紅外線，反射紫外線，這需要特殊工藝與配方去淨化提純光刻膠的化學成份，目前只有日韓兩國擁有光刻膠的頂尖技術，我們呢連園珠筆芯的用鋼，也是去年才研發出來，就連家家戶戶都用的那把菜刀，需要三合鋼也要從日本我德國進口，光刻膠與光刻機我看太難了。

光刻膠行業市場規模不斷增加 仍有很大發展空間

　　光刻膠是利用光化學反應，經光刻工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移介質，被廣泛應用於光電資訊產業的微細圖形線路的加工製作，是微細加工技術的關鍵性材料，是積體電路和平板顯示兩大產業光刻工藝的重要部分。按曝光波長不同，光刻膠又可以分為g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠和EUV光刻膠等。

　　從全球市場來看，自2010年以來，全球光刻膠市場始終保持著持續發展趨勢。從2010年的58億美元發展到2018年，全球光刻板市場規模已經達到了85億美元，與上一年81億美元的市場規模相比，增長了約4.9個百分點。未來隨著市場需求的進一步擴大，全球光刻膠市場規模仍將得到持續增長，預測發展到2020年市場規模將達到90億美元以上。

　　從中國市場來看，根據新思界產業研究中心釋出的《2019-2024年光刻膠行業市場深度調研及投資前景預測分析報告》顯示，自2012年以來，中國光刻膠行業市場規模呈現出不斷上升的發展趨勢。從2012年的35億元發展到2018年，中國光刻膠行業市場規模達到將近65億元，與上一年60億元的市場規模相比，增長了約8.3個百分點。可以看出，中國光刻膠市場正呈現出良好的發展勢頭

。 　　從市場格局來看，由於生產光刻膠的所需技術水平相對較高，而國內本土企業所具備的技術尚不成熟，導致國內光刻膠企業所佔市場份額相對較小，外資企業佔據著市場的主導地位，市面上的光刻膠產品也大多出自於日本、美國以及南韓等企業。近年來，隨著中國市場需求的不斷增加和相關技術水平的逐漸提升，國內光刻膠產量有所增長。從2012年的4萬噸發展到2018年，中國光刻膠產量達到8萬噸以上，與上一年7.5萬噸的產量相比，增長了約6.25個百分點，其中本土企業所產產品數量達到5.2萬噸，與上一年4.5萬噸的本土企業產量相比，增長了約15.5個百分點。從這些資料可以看出，中國本土企業生產能力已有很大提升，未來具有較大發展空間。

　　新思界行業分析人士表示，隨著經濟的持續發展，國內積體電路市場需求的不斷增加，光刻膠作為其光刻工藝的重要部分，市場也得到了快速增長。但目前國內光刻膠市場的整體技術水平與國際先進水平相比仍存在較大差距，產品多集中於技術含量相對較低的PCB領域，而在技術含量相對較高的領域上，中國本土企業仍有很大的發展空間。

光刻膠是半導體生產中光刻工藝的核心材料，通常以薄膜形式均勻覆蓋於基材表面，其是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。目前全球光刻膠生產基本上被德日韓壟斷，近年來複雜的國際形勢下，中中國產光刻膠也在發力。