光刻機複雜程度之高，彙集了大量國際頂尖科技公司通力協作生產。當前不是以一國之力就能造出來的，如果沒有國際大合作的前提下要達到國際水平至少30年以上。

我們國家現在90奈米以量產，荷蘭光刻機以能生產7奈米，要趕上必須有高科技人才，和國家大力支援，有望在5至10年。

追不上。

其一，艾斯麥爾的光刻機本身是國際大合作的結果，中國一個國家不可能完全重建整個生產。

其二，這種高精尖產品不僅在設計上有很多獨到的經驗，在生產裝配上也依賴於長期培養的技工，這個是我們短期內也無法具備的

但是我們也沒必要追。

其一，現在3奈米已經接近物理極限，再小就攔不住電子了，所以這種技術已經基本發展到頭，我們穩穩佔領七奈米，然後爭取攻克5奈米就可以了，真正需要突破的是在量子技術上面。真正花很大功夫和很長時間攻克光刻機，估計這個技術到時候已經淘汰了。

其二，說到底，微電子產品投入大，研發週期長，必須加入全球大協作，在這方面，我們的思路不應該是包打所有領域，而是一方面擁有自己的強項，保證在產業鏈中，在市場上有自己的一席之地，另一方面是儘量維護一個開放協作的全球市場。

攻克所有技術問題，既不經濟也不可能，反而會拖累我們自己的後腿和造成極大浪費，最終阻礙我們的發展。

很難追上主流。

ASML是獨角獸，而且是舉全世界頂尖龍頭企業之力，才引流主流光刻機技術。德國鏡頭，美國鐳射，都是專門配合ASML研發的。

中國要靠一己之力，攻克所有技術，難度很大。

人才是第一要素。中芯國際從三星挖來了梁孟松，一下子把量產技術提高到16nm，但是光刻機還是進口的。

目前世界頂級積體電路生產商臺積電和三星，都造不了光刻機，但他們都是ASML的股東，所以都是頂級陣營的。

中國是目前這個世界上最強大的國家，雖然還不算富裕，可我們的制度使我們變成了執行力最強的國家。相信我們遲早有一天，會造出來最先進的光刻機。

光刻機的難度不會超過航空發動機，asml也不過是從1990年代以後一舉超越日本成為世界領先。這個東西叫做難者不會會者不難。中國從兩彈一星開始的高科技實踐也證明這個規律。過去有一句話“事非經過不知難”，中國的空間人員搞過“兩彈一星”之後發現另一個規律“事非經過不知易”，當你跨過一個技術臺階之後回頭看這個技術也並沒有什麼了不起的。會當凌絕頂，一覽眾山小。

按我的感覺，還差20年左右，我國才能夠生產7奈米左右的光刻機。

因為光刻機的極紫外光源、鏡頭、迅速移動而達到奈米級精度的裝載晶片的機器平臺，都是一座座大山，我們都得一一去翻越…

目前，我們國家才能夠生產90奈米左右的光刻機。

光刻機和航空發動機，都是兩個工業領域上面的皇冠上的明珠，中國已經入門。經過這次新冠肺炎疫情，氣運在我們中國這一邊。

加油！中國…

光刻機首先並不取決於資金，而取決於頭腦中的創新思想! 而很遺憾現狀是，中國的科技人員幾乎在各個領域的創新中缺席！

中國人號稱智商第一，卻沒有創新思想，簡直是咄咄怪事!

最近剛好寫了一些關於光刻機的文章，比較合適回答一下這個問題。

先說我的看法，假設我們以目前最先進的EUV光刻機為目標，如果以舉國之力來做的話，10年內我們可能有機會做出來，如果光靠目前的一些企業（例如SMEE）來做的話，很長一段時間都沒有希望

原因如下:

第一: ASML從第一臺EUV概念機（2006年左右）到第一臺量產型EUV光刻機（2016年左右），就花了差不多10年。

第二:雖然相比15年之前，很多之前EUV相關的問題現在已經有了解決方案，但是還有更多秘而不宣的技術秘密以及各種坑我們不得不去排雷和克服

第三:由於瓦森納協定的限制，不關EUV光刻機不能進口，很多相關的零部件也是被嚴格管控的，這部分要突破封鎖需要時間

但是我們國家也有優勢，具有全世界最強大的供應鏈和生產能力，有世界上最多的工程師群體，如果再有強大而且系統的組織，我相信我們可以做到

大家看看下面光刻機的歷史發展，也基本是以10年為一個階段……

什麼是國際主流。ASML公司光刻機水平就是目前的高標準、主流標準，擁有全球最先進的光刻機制造技術，已經佈局2nm製程。ASML佔據了全球高階光刻機超過90%的市場份額，臺積電等晶片代加工知名企業的光刻機，全部使用ASML公司產品。

光刻機很難複製。光刻機的原理不展開了，不是自己想做就能做出來的，需要產業鏈幾百家頂級供應商提供先進的1萬多個元器件，是頂級技術深度整合，是技術和成本投入的產物，一個光刻機裝置造價要上億元，例如德國蔡司的反光鏡等光學部件，沒有任何公司能模仿造出來。ASML公司非常放心將光科技賣給我國，是因為不擔心技術被複制。

國產光刻機還需努力。紫光集團融資萬億元，研發光刻機，這給了我們希望。但是國產光刻技術與ASML國際主流水平相差甚遠，現在預測趕上實在無從談起。而且，比起光刻機國產化，目前最要緊的是晶片在2025年基本自給自足，所以引入國外的光刻機先用著，這是現實之舉。換句話說，至少在2025年前，我們還需要依賴國外的光刻機，慢慢來吧。歡迎關注，批評指正。

辦法總比困難多，功夫不負有心人，只要通力合作，持之以恆，勇於嘗試，思路清晰，科學嚴謹，多路並舉，趕超是遲早的事！晶片之於資訊時代，重要性不言而喻，高效能的光刻機更是重中之重，不可或缺！能買到當然是好事，買不到怎麼辦呢？如有網友評論就乾脆放棄，何必當真？正如朋友們所議，EUV光刻機高度複雜精尖，費時費工，整合度高，難度奇大，所涉極廣，物理化學，精密加工，精細控制，材料苛刻，工序緊扣，零件眾多……管理必須非常科學嚴謹，如此複雜的系統工程，如此重要又極具挑戰的領域，就是失敗也獲益良多，中國人不去做，有何顏立世！——前人栽樹後人乘涼，有些朋友，希望是一時糊塗，不要再犯渾，不識字也終歸吃糧食長大，量子應用難道不是系統工程，高度整合，又豈是一時半會就能實現，少壯不努力老大徒傷悲，無數前車，還不汲取教訓，重點在於通力合作，積思廣益，勇於衝鋒，敢於嘗試，鍛鍊了隊伍，培養了人才，何懼失敗！廣結善緣，國際合作，總不能一廂情願自欺欺人，還得硬核，需要大智慧大擔當！預測時間本來就是一個偽命題，我國科研工作者的拼博奉獻值得尊敬與肯定，前進路上必定困難重重，需要大家的理解和鼓勵，與其自我否定不如多建言獻策，落後就要捱打，這輩的難不要留給後輩，刀架脖子豈能自刎！

哪天中國機床是世界第一最高階機床，就可能！另外，光學鏡頭及鐳射光源也要世界第一！～荷蘭阿美斯自己都說，它是一個整合商，它把許多世界第一的技術整合在一起！這也是日本尼康佳能幹不過阿美斯的原因！

不一定按現有思路去搞，可以搞另類的光刻，另外可以從材料上直接拋棄矽片，以其它物質代替，當然這個也不是一時半會就能達到的，我相信國家早己佈局了，只是還不到揭蓋的時候。

中國近幾十年基礎材料及加工技術具突飛猛進態勢，相信不久的將來就會有大家期待的驚喜。

另外，就是現有光刻機技術國內肯定也是會有很大進步的。眾多科技公司的大佬們也不完全就是吃素的。

我認為10年之內是追不上的，至於10年之後，那就誰知道呢

一、目前的差距有多大

先上圖，目前ASML的技術是7nm/5nm，中國的技術是最後那一個，90nm，不要談什麼國內能產10nm光刻機，那都是假的，實驗室的，離量產還10萬8千里呢。

而90nm的光刻機，ASML在10多年前就可以生產了，所以這個差距至少是10年以上。

二、差距體現在哪裡

那麼差距差距體現在哪裡？光刻機的原理其實就是放大的單反，光刻機就是將光罩上的設計好積體電路圖形透過光線的曝光印到光感材料上，形成圖形，其中最核心的就是鏡頭。

其次就是解析度，光刻機的解析度是光刻機最重要的技術指標之一，決定了光刻機能夠被應用於的工藝節點水平。

最後是套刻精度，也就是指前後兩道光刻工序之間彼此圖形的對準精度，如果對準的偏差過大，就會直接影響產品的良率。

鏡頭假設能買到的話，後續的解析度、套刻精度需要大量的經驗才能夠提高，而中國人才缺少，經驗不足，是制約光刻機發展的重要原因之一。

三、這些差距怎麼才能追上來

目前我國生產出來的光刻機處於低端，只能生產90nm的晶片，而在90nm之後，還有65nm，45nm，32nm，22nm，14nm，10nm，7nm，5nm。

而這些節點技術，有好幾個臺階要上，首先是45nm的以階，再到22nm的臺階，再到10nm臺階，再到7nm的臺階，真的是一步一個坎，有些坎幾年都未必能夠更新出一代來。

所以我們不僅一方面是要資金投入，另外就是培養眾多的技術人才，積累經驗才行的。

以目前的投入，國產光刻機還需要多久才能追上目前國際主流？國產光刻機要想追上ASML高階光刻機的水平，還有相當長的路。不只是光刻機本身的技術問題，還有產業鏈的發展，人才經驗的聚集，沒有一、二十年光景很難追上。

光刻機市場玩兒得最為瀟灑的就是荷蘭ASML，其幾乎壟斷了整個高階光刻機市場，而且單價相當不菲，高達上億美元。而中端市場由日本尼康和佳能還能佔據一部分份額，而中國國產光刻機主要是集中在低端光刻機市場。其中最為有代表性的國產光刻機企業，就是具有國產最好的90nm光刻機生產能力的上海微電子集團、具有200nm光刻機生產能力的合肥芯碩半導體和無錫影幻半導體。

當我們還在90nm上奮鬥時，荷蘭ASML已經在向5nm、3nm上挺進了，可見我們與國際高階之間的距離。為了縮短或者追上這樣的距離，我們是否大量投入金錢就可以達到目的呢？可能還未必。

首先，高階光刻機所需要的零部件產業鏈條，並不是在短期內就一定能夠發展起來。高階光刻機高達3萬甚至更多的零部件，之所以ASML能夠發展起來，是其可以利用全球頂尖的零部件。比如來自於美國最為頂尖的光源、來自德國最頂尖的鏡頭、瑞典的軸承、法國的閥件等等。而這些最精密的零部件卻對我們是關閉了大門的，這來源於西方對我們的封鎖，最為出名的封鎖就是《瓦森納協議》。如果我們要發展整個產業鏈條，即使投入再大，沒有一、二十年之力，要達到頂尖水平是相當困難的。

其次，高階光刻機技術並非簡單投錢就能夠發展得起來。這些技術除了ASML自身研發之外，還與各大製造商家成為股東聯合綁在一起，提供資金之外，還共同提供諸如製造工藝、製造技術、以及技術迭代等等，使得ASML能夠一直保持在頭部頂端。

再次，整機研發製造人才、產業鏈人才、特別是工匠精神的缺失，也制約了光刻機和產業鏈的發展。比如鏡片的磨製，像德國產業鏈上的工人，是窮其一生幹一件事，甚至祖孫幾代人幹這一件事，把鏡片做到了極致。另外光刻機的組裝，要把幾萬個零部件組裝起來控制在極小的誤差，不只是技術問題，一樣還有組裝工人的工匠精神。技術可以傳授，精神需要影響，單飛短時之功可以達到。

不過雖有極大距離極大困難，但研發製造我們自己的高階光刻機是刻不容緩的事。光刻機研發一直在進行，並且實驗上取得了不錯的成績，比如武漢廣電國家技術研究中心採用二束鐳射及遠場光學辦法，成功刻出9nm線寬線段。另外在製造工藝及技術上，中芯國際也已經搞出了自己接近7nm的技術，中國的光刻機和晶片製造技術雖然艱難，但終究在進步。

有很多基礎技術需要我們慢慢去研究攻克，它不是說有錢就能解決的，這需要時間，我估計最少要20年左右吧，才能達到歐美的技術高度。

技術不是問題，這是容量很小的市場，全世界的消費也只能養活一兩家光刻機生產商，後來者因為沒有什麼技術積累，天然處於劣勢，所以從商業角度來看，沒有介入的價值。因為就算用幾年的時間，投入一筆不菲的資金，把荷蘭公司的生意全搶了，一年也沒多少利潤。這不是一個好的投資選項。

所以光刻機目前的狀況，不是技術壁壘的問題，是商業問題。

如果不靠慮商業問題，不靠慮資金回報，做出一流的光刻機，幾年時間足夠了。

用ASML總裁的話——因為阿麥斯是系統整合商，我們將數百家公司的技術整合在一起，為客戶服務。

這種光刻機擁有80000個零件，他還舉例說，以蔡司公司為例，為我們的生產鏡頭，各種反光鏡和其他光學部件，世界上沒有一家公司能模仿他們。

荷蘭ASML有什麼執行模式呢？能夠讓它有決對性呢？

我們首先要知道荷蘭的ASML的執行方式，荷蘭ASML的聰明之處，讓許多技術類企業都成了它的股東，技術能夠共享，但是在我國很難！一些技術的封鎖。一方面我們屬於瓦森納條約的清單中被阻止一員，另一方面，也是因為我們技術所限制，我們確實在光刻機中發現，在技術領域我們還是有所缺乏。

這兩個方面的內容就決定著我們在光刻機技術方面，想要做到突破就非常的困難。確實，中芯國際宣佈的N＋1，而且非常接近7nm工藝所帶來的技術，它本身還是有一定的缺陷，它和真正的7nm光刻機提供的工藝還是有一段距離。

我們如何能夠解決這個問題？我覺得可以打破這種束縛嗎？我覺得可能——

一方面，我們只有打破這方面的限制，突破光刻機技術的束縛，才有可能獲得成功。另外一方面，我們也需要不斷的增強我們的創新能力。有訊息，中科院成功研製出了世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻機，其光刻分辨力達到22奈米，多重曝光技術後，可用於製造10奈米級別的晶片，未來我們可能會有更多的機會超越ASML！

別急當你看到大批光刻機雖便買時，而很便宜，定是我們己鞏克難題出了中國造製造，越是國外卡我們脖子越緊時證明這天快到了。

光刻機是分類的，在當前的半導體晶片應用中，高製程晶片畢竟是少數，大量的晶片應用是28nm以下的。所以大量的晶片製造用DUV光刻機足矣！而DUV浸沒式深紫外光刻機已沒有難度，ASML也可以放開賣，並不需要美國許可！再說光刻機本身，非美製造的零部件我國都可以買到，在EUV光刻機中，只有EUV鐳射頭是美國製造的，而EUV鐳射頭中科院長光所已攻克。所以說EUV的所有零部件都可以購買到或研製出！現在僅是系統整合和工藝調教。只要有錢這並不難，只要設計生產出相應的工裝夾具，檢具，偵錯程式具，檢測儀器，問題都可迎刃而解！兩年！國產高製程光刻機問世，五年之內下餃子！