空洞騎士》中的輻輝級無上輻光可以說是本作中難度較大的BOSS之一，那麼應對無上輻光需要注意哪些問題呢？今天就為大家分享一篇“uton”講解的《空洞騎士》輻輝級無上輻光打法詳解，一起來了解一下吧。 無上輻光大致可以分成五個階段。第一階段： 基本上就是各種不同的彈幕攻擊，只能見招拆招。1.追蹤光彈 在隨機位置放出大約3~5顆不等的追蹤光彈，在熟悉如何誘導彈道後，最好能讓光彈早早撞到地面消失。 不然光彈飛越久越危險，因為有可能和其他攻擊重疊，如果閃躲技巧高超，可以把握機會攻擊。2.放射光束 射出三波光束，第一發比較吃反應時間，不過後續二三發不會射在前一波的相同位置上，利用這點來閃躲。3.放射劍幕 射出兩波劍幕，站遠一點的話反應時間應該會比較多。 要注意的是射出來的劍會稍微偏上或偏下的弧線移動。4.垂直或水平的劍幕 垂直的劍幕有四波，就靠小心左右移動進劍之間的空隙閃躲。 水平的劍幕有三波，用暗影衝刺或選擇寬大的空隙衝過，得注意衝刺的冷卻時間。 如果覺得靈魂充足的話也可以用俯衝法術的無敵時間閃過，不過我通常會等到第三階段再用法術閃躲...理由後述。5.光之壁 從畫面左或右邊出現的光之壁，有可能會出現假動作，光之壁移動到一半突然消失並從相反方像移動而來。 而且似乎有低機率出現兩次以上的假動作，只能用暗影衝刺或俯衝法術閃躲，不過我一樣會等到第三階段才開始用俯衝法術。6.地刺 在前期時血量消到一定程度時會在地面召喚覆蓋左半或右半場地的尖刺，限制玩家的行動範圍，每隔一段時間換邊。第二階段： 當血量消夠時，半個場地的尖刺會變成固定在平臺兩端的尖刺，輻光會瞬移到場地中間，召喚無數波垂直劍幕。 需要小心在他開始上面的動作前可能還會持續幾次第一階段的攻擊，儘量保持在差不多中間的位置，一邊微調左右位置一邊上斬輻光。第三階段： 是第一階段的變化版，但因為場地變成小平臺，不像第一階段好閃躲，所以在這階段，特別是橫向攻擊（劍幕、光之壁）和其他攻擊同時施展的話危險度大增，只要有疑慮，儘量用俯衝法術閃躲。 另外可以儘量待在下層的平臺，光彈在那裡容易先撞平臺而消失，這階段比較需要耐心，輻光有可能在瞬移後立刻開始光束或劍幕攻擊，所以不建議立刻衝上去砍，也不能貪刀，等他傳送到方便打的地方再開打。1.追蹤光彈 因為閃躲空間受限，多多利用二段跳來引光彈去撞小平臺。2.放射光束 閃躲絕竅和第一階段差不多，不過這階段平臺有些寬有些窄。 可以的話避免在窄平臺上閃光束，因為能左右移動的空間很有限。3.放射劍幕 和第一階段差不多，記得保持距離。4.水平劍幕 這階段只有水平劍幕，而且只有兩波，不過和其他攻擊（如光之壁）一起搭配時更致命，建議法術砸地板。5.光之壁 大致上同第一階段，和其他攻擊（如水平劍幕）一起搭配時更致命，建議法術砸地板。第四階段： 爬天梯，進入這階段後輻光會向上飛，左右兩側的平臺消失，新的平臺向高處延伸。 攀登時輻光會不斷射光束，攀越高時瞄的越準，小心控制攀登的節奏，避免一跳就想上下個平臺，保留一點點距離，確定光束沒有射準再移動。 必要時別吝嗇使用暗影衝刺來閃躲光束。第五階段： 最後階段只剩兩個小平臺，輻光會在左中右三個位置瞬移，同時用在隨機位置生成的追蹤光彈攻擊。 多用二段跳將光彈引向螢幕上方，飛出去差不多就等於不見了，同時用下斬攻擊輻光，總之儘可能保持在高處，我甚至看過有人乾脆完全不站平臺了。
空洞騎士》中的輻輝級無上輻光可以說是本作中難度較大的BOSS之一，那麼應對無上輻光需要注意哪些問題呢？今天就為大家分享一篇“uton”講解的《空洞騎士》輻輝級無上輻光打法詳解，一起來了解一下吧。 無上輻光大致可以分成五個階段。第一階段： 基本上就是各種不同的彈幕攻擊，只能見招拆招。1.追蹤光彈 在隨機位置放出大約3~5顆不等的追蹤光彈，在熟悉如何誘導彈道後，最好能讓光彈早早撞到地面消失。 不然光彈飛越久越危險，因為有可能和其他攻擊重疊，如果閃躲技巧高超，可以把握機會攻擊。2.放射光束 射出三波光束，第一發比較吃反應時間，不過後續二三發不會射在前一波的相同位置上，利用這點來閃躲。3.放射劍幕 射出兩波劍幕，站遠一點的話反應時間應該會比較多。 要注意的是射出來的劍會稍微偏上或偏下的弧線移動。4.垂直或水平的劍幕 垂直的劍幕有四波，就靠小心左右移動進劍之間的空隙閃躲。 水平的劍幕有三波，用暗影衝刺或選擇寬大的空隙衝過，得注意衝刺的冷卻時間。 如果覺得靈魂充足的話也可以用俯衝法術的無敵時間閃過，不過我通常會等到第三階段再用法術閃躲...理由後述。5.光之壁 從畫面左或右邊出現的光之壁，有可能會出現假動作，光之壁移動到一半突然消失並從相反方像移動而來。 而且似乎有低機率出現兩次以上的假動作，只能用暗影衝刺或俯衝法術閃躲，不過我一樣會等到第三階段才開始用俯衝法術。6.地刺 在前期時血量消到一定程度時會在地面召喚覆蓋左半或右半場地的尖刺，限制玩家的行動範圍，每隔一段時間換邊。第二階段： 當血量消夠時，半個場地的尖刺會變成固定在平臺兩端的尖刺，輻光會瞬移到場地中間，召喚無數波垂直劍幕。 需要小心在他開始上面的動作前可能還會持續幾次第一階段的攻擊，儘量保持在差不多中間的位置，一邊微調左右位置一邊上斬輻光。第三階段： 是第一階段的變化版，但因為場地變成小平臺，不像第一階段好閃躲，所以在這階段，特別是橫向攻擊（劍幕、光之壁）和其他攻擊同時施展的話危險度大增，只要有疑慮，儘量用俯衝法術閃躲。 另外可以儘量待在下層的平臺，光彈在那裡容易先撞平臺而消失，這階段比較需要耐心，輻光有可能在瞬移後立刻開始光束或劍幕攻擊，所以不建議立刻衝上去砍，也不能貪刀，等他傳送到方便打的地方再開打。1.追蹤光彈 因為閃躲空間受限，多多利用二段跳來引光彈去撞小平臺。2.放射光束 閃躲絕竅和第一階段差不多，不過這階段平臺有些寬有些窄。 可以的話避免在窄平臺上閃光束，因為能左右移動的空間很有限。3.放射劍幕 和第一階段差不多，記得保持距離。4.水平劍幕 這階段只有水平劍幕，而且只有兩波，不過和其他攻擊（如光之壁）一起搭配時更致命，建議法術砸地板。5.光之壁 大致上同第一階段，和其他攻擊（如水平劍幕）一起搭配時更致命，建議法術砸地板。第四階段： 爬天梯，進入這階段後輻光會向上飛，左右兩側的平臺消失，新的平臺向高處延伸。 攀登時輻光會不斷射光束，攀越高時瞄的越準，小心控制攀登的節奏，避免一跳就想上下個平臺，保留一點點距離，確定光束沒有射準再移動。 必要時別吝嗇使用暗影衝刺來閃躲光束。第五階段： 最後階段只剩兩個小平臺，輻光會在左中右三個位置瞬移，同時用在隨機位置生成的追蹤光彈攻擊。 多用二段跳將光彈引向螢幕上方，飛出去差不多就等於不見了，同時用下斬攻擊輻光，總之儘可能保持在高處，我甚至看過有人乾脆完全不站平臺了。