現在晶片領域似乎迎來大洗牌，臺積電一路領先，三星不惜花重金追趕臺積電，就連業內的老霸主Intel都望塵莫及，可見臺積電有多強。目前臺積電7nm產能滿載，正處於不斷爬坡階段，5nm量產進展順利，3nm、2nm晶片量產也逐漸被提上日程，三星勉強能跟得上臺積電的步伐，而Intel卻剛剛實現10nm製程工藝的突破，就問問還有誰能夠超越臺積電？

實際上，臺積電取得今天的成績離不開ASML高階光刻機裝置的支援。要知道，在整個晶片製造流程中，光刻機的作用是不言而喻的，中國產晶片之所以遲遲沒有進展，就是因為中國自主研發的光刻機裝置十分落後，現在國內最強的光刻機還停留在90nm晶片製造水平階段，可以說這是全球最低端的晶片製造水準，別人都是10nm、7nm、5nm，我們確實90nm，可以說即使晶片生產出來也拿不出手，拿到市場上也被啪啪啪地打臉。

經過幾年的發展，近日中國產光刻機終於有一點進步了，中國產企業正在攻克65nm工藝的光刻機裝置，已經取得一定的進展，順利實現生產後中國中國產光刻機也將進入中端市場領域，中國產晶片也將從90nm向65nm過渡，逐步縮小和國際廠商之間的差距。

儘管65nm晶片能夠實現量產，也不能高興的太早，要知道65nm工藝中國產光刻機依然處於嚴重落後的地步，還需在技術、人才方面加大投入。當然，中國產光刻機落後也是因為中國的研究起步較晚，技術人才經驗積累不足，再加上技術封鎖等導致中國產光刻機長期處於落後狀態。而ASML起步較早，最初憑藉著以水為介質的浸潤式光刻機一舉打敗當時的的競爭對手，逐步發展成為全球最強的晶片裝置製造企業，在ASML的關照下，臺積電晶片霸主的地位也逐步得到穩固。

光刻機裝置廠商和晶片代工廠商之間的關係是相輔相成的關係，能夠為雙方未來的合作和發展提供新的思路和靈感，中國產光刻機裝置技術長期沒有進展或許也和國內沒有先進的晶片製造企業有關係。現如今中芯國際取得14nm製程工藝晶片的突破，逐步縮小和臺積電之間的差距，或許也能夠助中國產光刻機裝置一臂之力，推動中國產光刻機裝置的技術獲得質的突破，日後打造出真正強大的中國芯。

    中國最先進的中國產光刻機90nm製程工藝，世界最先進的光刻機7nm製程工藝，並且很快會實現5nm量產。光刻機領域的差距客觀反映了中國和西方精密製造領域的差距，一臺7nm製程的光刻機，關鍵零件來自於不同的發達國家，美國的光柵、德國的鏡頭、瑞典的軸承等等，最關鍵的是，這些頂級零件對中國是禁運的。

    目前，光刻機領域的龍頭老大是荷蘭的ASML，佔據了高達80%的市場份額。其中，最先進的EUV光刻機，全球只有ASML能夠生產。光刻機是生產手機處理器不可缺少的裝置，華為麒麟處理器、高通驍龍處理器、包括intel、amd的處理器都離不開ASML的光刻機。

    7nm的極紫外線光刻機，分為13個系統，3萬個分件，90%的關鍵裝置來自外來，有德國的光學裝置和超精密機械、美國的計量裝置和光源裝置，ASML要做的就是精明控制，作動時每一分都要精準，將誤差分散到13個分系統中，如果德國的蔡司鏡頭不準、美國的光源不精，那麼ASML瞬間失去了精神。

    ASML還有一個奇特的規定，只有投資了ASML才能獲取優先供貨權，三星、臺積電、intel、海力士都是ASML的大股東，大部分的高階光刻機被這些廠商“優先”採購。中國的中芯國際2018年採購的7nm光刻機，至今也沒有收到貨。

    中國生產研發光刻機的企業是上海微電子，目前製造出來的光刻機主要集中在90nm及其以下晶片工藝製造商。

    資料顯示，上海微電子成立於2002年，當年到荷蘭ASML參觀學習，被ASML刺激了一把“即便把全套圖紙給你們，你們也造不出來”，上海微電子能夠穩定量產的時90nm製程工藝的光刻機，與ASML的7nm差距還是有點遠。

    上海微電子的光刻機，佔據了90nm中低端光刻機市場，80%的市場份額，未來幾年也只能是利用低端市場所賺取的利潤，持續投入高階市場的研發，只能一步一步的突破，不可能直接跨越到7nm、甚至5nm。

    總之，ASML在高階光刻機領域，具有“壟斷”地位，同時由於技術封鎖等原因，中國也無法從ASML那裡買到最先進的7nm製程工藝的EUV光刻機。

　　眾所周知，一直以來中國對於晶片領域是非常重視，但由於起步較晚，導致中國的晶片技術要比其他國家落後，這一點是毋庸置疑的。可時至今日隨著華為海思晶片的研發成功後，終於將中國”無芯“狀態無情打破。

與此同時，也需要知道的是能稱得上是全球最主流的晶片，那麼製造方面的要求必然也非常嚴苛，特別是用來製造晶片的裝置更是重中之重。而今天我們所要講述的就是關於製造晶片的裝置-光刻機。當然，如今中國在晶片領域所取得的成就與其他國家的差距正在明顯減少，但不可否認的是，在晶片製造與生產方面依舊需要依賴於其他國家。