磁控濺射技術自問世後就獲得了迅速的發展和廣泛的應用，有力地衝擊了其它鍍膜方法的地位，北京金源新材科技公司透過大量的實踐，總結出磁控濺射主要有以下優點和缺點：

　　1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小；

　　2、對於大部分材料，只要能製成靶材，就可以實現濺射；

　　3、濺射所獲得的薄膜與基片結合較好；

　　4、濺射所獲得的薄膜純度高、緻密度好、成膜均勻性好；

　　5、濺射工藝可重複性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜；

　　6、能夠精確控制鍍層的厚度，同時可透過改變引數條件控制組成薄膜的顆粒大小；

　　7、不同的金屬、合金、氧化物能夠進行混合，同時濺射於基材上；

　　8、易於實現工業化。

　　但磁控濺射也存在著一些問題，主要有：

　　1、磁控濺射所利用的環狀磁場迫使二次電子跳欄式地沿著環狀磁場轉圈。相應地，環狀磁場控制的區域是等離子體密度最高的部位。在磁控濺射時，可以看見濺射氣體——氬氣在這部位發出強烈的淡藍色輝光，形成一個光環。處於光環下的靶材是被離子轟擊最嚴重的部位，會濺射出一條環狀的溝槽。環狀磁場是電子運動的軌道，環狀的輝光和溝槽將其形象地表現了出來。磁控濺射靶的濺射溝槽一旦穿透靶材，就會導致整塊靶材報廢，所以靶材的利用率不高，一般低於40％；

　　2、等離子體不穩定；

　　3、不能實現強磁性材料的低溫高速濺射，因為幾乎所有的磁通都通不過磁性靶子，所以在靶面附近不能加外加強磁場。

　　伴隨著磁控濺射技術的快速發展以及對高質量靶材的迫切需求，北京金源新材科技公司運用先進的制靶理念並不斷改進位制靶技術以滿足使用者對高品質靶材的需求，使使用者在在鍍膜過程中最大限度的發揮磁控濺射技術的優點，克服技術缺陷，最終制備出成分均勻、效能優異的薄膜。

磁控濺射生產出來的金屬膜，優點很多，比如具有高畫質晰、高隔熱、低反光的特點。

尤其是它是透過反射熱量而非吸收熱量來達到隔熱的目的，所以車輛如果長時間暴曬在太陽底下，貼磁控濺射膜車隔熱效果要優於奈米陶瓷膜。

當然它缺點也明顯，很貴就是它的缺點。

還有就是金屬膜容易氧化，也會影響到手機等訊號的接收，這就是有時候貼了金屬膜車內會丟訊號、ETC識別不出的原因（溫馨建議，不要全車玻璃都貼金屬膜，像ETC需要留口子）。