以最先進的荷蘭ASML製造的EUV極紫外光刻機為例，美國大概佔了20%。

可別小看這20%的技術，這就是美國的底氣，這就是為什麼美國說不可以將光刻機賣給中國，荷蘭就得乖乖聽話！

2018年4月，中芯國際向荷蘭ASML訂購了一臺EUV光刻機，用於7nm及以下的先進工藝，價格超過1.2億歐元（約10億人民幣），預計2019年底交貨，2020年正式安裝。

2019年11月，有媒體報道，該訂單受到美國政府關切，ASML將延後對中芯國際出貨。ASML迴應稱：“ASML出口EUV到中國需取得荷蘭政府的出口許可，該出口許可於今年到期，ASML已經於到期前重新進行申請，目前正在等待荷蘭政府核准。”從中我們不難看出，美國政府對荷蘭政府和ASML公司的干涉。

截至現在，2020年6月，中芯國際2年前訂購的ASML EUV極紫外光刻機，仍然沒有交貨，中芯國際也因此陷入了技術瓶頸。

一臺高階光刻機的零部件達到上10萬個，供應商數百家。ASML公開的關鍵技術零部件供應商主要集中在歐美，其中前17大供應商主要集中在歐盟，美國，日本以及中國臺灣。

美國佔了9家，

臺灣佔了4家，

日本佔了3家，

德國佔了1家。

Intel是荷蘭ASML的大股東，2012年Intel向ASML投資25.38億歐元用於購買15％的股權，臺積電投資8.38億歐元購買5％的股權，三星電子投資5.03億歐元購買3％的股權。ASML在目前的光刻機市場可以說是處於壟斷地位，高階光刻機都是他生產的，曾經的競爭對手尼康（對，就是賣相機那個）早已不是對手(DRAM企業還有用的)。事實上荷蘭的ASML是一個非常高等級的組裝廠，融合了整個西方的技術精華。

高階的EUV光刻機就長這樣，一臺售價約1億歐元，別嫌貴，你還買不到。

ASML主要的美國客戶就是Intel，而Intel是ASML的大股東，你讓ASML不賣給Intel，這明顯不可能。

光刻機你從名字就能看出，光照是核心，這個光照的核心是由光源和鏡頭組成的，看下光刻機的工作原理圖。ASML的光源採用的是美國Cymer公司的技術，這家公司在2012年被ASML以26億美元收購，另外一個核心技術就是鏡頭，ASML一直採用的是蔡司的鏡頭，2016年ASML公司宣佈斥資20億美元（現金11億美元收購卡爾蔡司SMT子公司24.9%的股份，其它為研發費用投入）入股卡爾蔡司公司，雙方將合作研發EUV光學系統。

Intel為了防止ASML一家獨大，還扶持過尼康，然而尼康問題太多最後放棄了，直接入股ASML。

中國的上海微電子（SMEE）也在做光刻機，但是差距實在是差的太大了，根本看不到追趕的希望，別說ASML，連尼康的尾氣都看不到。荷蘭沒有任何能力與美國抗衡。

已知重要的EUV光源和反射鏡是美國提供的。而且是最為重要的部件，平常來說反射鏡知道的並不多，多是知道以蔡司的鏡頭。

EUV極紫外光：液態的微米錫滴在高功率的鐳射脈衝照射下激發等離子。具體是什麼玩意普通人真的就不知道了。

光源是cymer的,荷蘭微晶片裝置製造商ASML將斥資19.5億歐元(約合25億美元)，收購其關鍵的光學技術提供商Cymer,雖然收購了，但是生產還是在美國本土，收購只是ASML整合機器更快。

反射鏡：EUV用的是13.5nm的光波長，無法透過目前用的透鏡材料，因此EUV系統為全反射。包括EUV的光罩（掩模）也是用反射結構。

第五代EUV光刻機：ASML光刻機可以使用波長為13.5奈米的極紫外光（EUV），實現14奈米、10奈米、和7納米制程的晶片生產，而透過技術升級，也可以實現9奈米，8奈米，6奈米，5奈米，4奈米乃至3奈米等製程的晶片生產。獲取波長為13.5nm的光是實現EUV光刻的一個重要步驟。鐳射等離子體（Laser-produced Plasma）極紫外光源（LPP-EUV光源）由於其功率可拓展的特性，成為了EUV光刻最被看好的高功率光源解決方案。

英特爾也是大股東，整個EUV專案也是美國國家實驗室聯合做處理啊的，ASML有一個非常奇特的規定，那就是隻有投資ASML，才能夠獲得優先供貨權，意思就是要求自己的客戶要先投資自己才行。這樣奇特的合作模式使得ASML獲得了大量的資金，包括英特爾、三星、海力士都在ASML中有相當可觀的股份，其中英特爾投資的金額十分驚人，高達25.13億歐元。

技術寡頭是技術結構政治鏈的位置 與多少無關 猶如金融寡頭的小資本駕馭大資金 小的設局資本玩轉大的無序機構 一樣

其實，沒有美國推波助瀾的話，有沒有EUV光刻技術還兩說。在1997年，英特爾和美國牽頭成立了EUV LLC聯盟。

而EUV LLC聯盟的研發實力也是相當的雄厚，有著勞倫斯利弗莫爾，勞倫斯伯克利，桑迪亞三大美國國家實驗室。

還有著IBM，AMD，機車羅拉等高科技公司的加盟。在該聯盟內部，有著上百位頂尖科學家來研發EUV技術。假如說，在EUV技術上沒有取得突破的話，也是絕對不可能的,畢竟投入了大量的人力物力。

而ASML也正好在1997年加入了EUV LLC聯盟，並獲得了大量的相關的技術。在之後可以一舉超越尼康和佳能，成為獨攬EUV光刻機技術的企業。

而在ASML製造的EUV光刻機中，大約有55%以上的部件或者專利或者技術來自於美國。因為這是ASML公司，加入EUV LLC時對美國的承諾。

畢竟沒有美國的同意，現在可以製造EUV光刻機的企業或許也會換一家。也就是說，在EUV光刻機的技術發展上，美國佔據著主導地位。由此可見，在EUV技術上美國還是走在世界前列。畢竟，美國掌握著大量的，與EUV光刻機相關的技術或者專利。

而在EUV光刻機中，主要有光源，光刻，電子束檢測等來自美國。

像反光鏡，掩膜臺等主要來自德國，日本，南韓，英國，中國，歐洲。

其中包括最重要的波長為13.5奈米的光源，不過製造該光源的Cymer公司已經被ASML所收購了，成為ASML公司的一員。也就是說，在ASML收購Cymer公司之後，在光源這一塊，已經實現了自己自足，從理論上來說沒必要再受美國的制約。當然了，至於Cymer公司最終是誰說了算，還很難說。

畢竟可以研發出適合EUV光刻機使用的光源，並非是只有Cymer公司一家，還有日本的高能物理研究所，Gigaphoton公司；美國的Lyncean公司。也就是說，在EUV光刻機光源這一塊上，ASML並無法做到一家獨大。

有了光源之後還是不行的，畢竟光刻機是要製造出完整的晶片。而Brion公司就是研究晶片在製造過程中的奈米級掩膜修復，晶片設計，晶片製造缺陷檢測和矯正等難題的。在2007年，ASML也收購了該公司。

在微鐳射系統上，也是來自矽谷光刻集團的，也是被ASML給收購了。從理論上來看，該公司也屬於ASML。同Cymer公司一樣，矽谷光刻集團究竟誰說了算，也是個未知數。

所以說，儘管ASML收購了光源，檢測，微鐳射等相關的製造公司，但是技術依然被美國控制著。否則，在美國禁止向中國出口先進的EUV光刻機時，ASML也無法拒絕了。

現階段來看，在EUV光刻機技術上，還真沒有哪國可以超過美國。即便是EUV光刻機整合大廠ASML，也要用到較多的美國部件。