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看似僅2nm的誤差,但從技術和材料,製作二藝上來講,5nm的難度是一個坎,但我深信,既然精度標準和資料是人制定的,那實際製作生產的技術,材料,工藝也一定會被人類克服和製作成功。
看似僅2nm的誤差,但從技術和材料,製作二藝上來講,5nm的難度是一個坎,但我深信,既然精度標準和資料是人制定的,那實際製作生產的技術,材料,工藝也一定會被人類克服和製作成功。
中國現在有幾家生產光刻機的生產廠家
中國生產光刻機的廠家
1、上海微電子裝備有限公司
2、中子科技集團公司第四十五研究所國電
3、合肥芯碩半導體有限公司
4、先騰光電科技有限公司
5、無錫影速半導體科技有限公司(LED)
其實做光刻機的主要工藝差不多,但是7nm的光刻機升級到5nm,就需要一些新的工藝來實現,需要的工藝精度也更高。有些工藝只需要升級現有裝置就可以提高奈米精度,但是精度一旦提高到一定程度,必須要突破傳統工藝,才能實現。我們國家,目前還達不到這個水平,現在90奈米的光刻機是可以生產的,90奈米升級到65奈米相對容易些,但是再向上升,其工藝就變了。
光刻機屬於集人類智慧與大成的裝置,我們起步晚材料與工藝技術受國外限制,有錢也不賣給我們。即使我們買來了相關裝置,也沒有能力仿造,這是一個整體工藝技術無法突破造成的。希望不久的將來,我們有我們自己的技術。