峰高指衍射峰頂點到背景線之間的高度; 峰面積則指峰在背景線以上部分的總面積,也稱積分強度.在進行定量計算時,用積分強度(峰面積)更加準確,因為峰寬會受到樣品晶粒尺寸大小影響,從而影響到峰高.比方說某一混合物中含有材料A,含量固定,則A的峰面積應當是一樣的,但A晶粒尺寸小時由於峰寬化,峰高自然會比晶粒尺寸大的情況下要矮.

首先要區別是什麼物質的XRD圖譜，比如單晶、多晶（粉末）等. 峰高：對多晶來說，峰高由同方向排列的晶面分佈數量(texture)決定，即：若所有晶粒為同方向排列，則此時各個晶面的峰高要大於無規律排列的晶粒. 而同一圖譜中不同峰高則是由每個峰對應的晶面數量決定. 另外，如果樣品不為純晶體，而同時存在非晶體的情況下，不同XRD影象同一位置角度對應的 峰高不同則反映了晶體成分的多少. 晶體化程度越高，相應的峰越高.峰寬：一般分析最多的數值是FWHM(半峰全寬). 峰寬受很多因素影響：從儀器角度說，因素為所用X射線的波長分佈，即使是單色X射線也不完全只有唯一確定波長； 從多晶樣品角度說，FWHM和晶粒大小成反比，即，晶粒直徑越小對應的FWHM越大, 具體計算可以參考Scherrer equation.峰面積：也稱為integral intensity. 這個值同樣不是由某單一值決定，和樣品本身相關的量有：該峰對應晶面的數量，晶胞體積，晶粒體積，structure factor等.以上只是粗略說明，具體情況還是需要具體分析.