臺積電前不久試產了7nm EUV工藝，預計明年大規模量產，三星今天宣佈量產7nm EUV工藝，這意味著EUV工藝就要正式商業化了，而全球最大的光刻機公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。ASML公司日前釋出2018年Q3季度財報，當季營收27.8億歐元，淨利潤6.8億歐元，出貨了5臺EUV光刻機，全年預計出貨18臺，明年將增長到30臺，而且明年下半年會推出新一代的NXE:3400C型光刻機，生產能力從現在的每小時125晶圓提升到155片晶圓以上，意味著產能提升24%。

根據ASML公司的Q3季度財報，ASML的裝置銷售營收20.81億歐元，安裝管理服務等業務營收6.95億歐元，當季營收27.76億歐元，同比增長13.4%，環比增長1%，不過毛利率達到了48.1%，同比增加5.2個百分點，環比也增加了4.8個百分點。

Q3季度的光刻機銷售中，南韓公司佔比33%，臺灣公司佔比30%，大陸公司佔比18%，前一個季度中大陸公司佔比是19%，不過Q3季度中臺灣公司佔比從18%增長到了30%，南韓公司佔比從35%降至33%。

在單機過億歐元的EUV光刻機方面，Q3季度ASML出貨了5臺EUV光刻機，上個季度出貨7臺EUV光刻機，預計Q4季度出貨6臺EUV光刻機，全年出貨的數量將達到18臺，而2019年EUV光刻機預計出貨數量達到30臺。

明年除了EUV光刻機數量大漲之外，ASML公司明年下半年還將推出進一步改進的NXE:3400C光刻機，WPH（每小時處理的晶圓數量）產能將提升到155片，而現在的NXE:3400B型EUV光刻機的產能在合作伙伴的工廠中已經實現了125 WPH的產能，NXE:3400C的產能預計再提升24%，這對改善EUV工藝的產能很有幫助。

不過EUV光刻工藝今年正式量產只是一個開始，EUV光刻工藝目前離成熟還早呢，155 WPH的產能可喜可賀，但是現在的沉浸式光刻機的產能可達250 WPH，而且能以250W的光源長時間穩定執行，這些都是EUV光刻機暫時做不到的。

EUV光刻機是晶片製造行業的未來，沒有EUV我們就無法研發出7nm以下的製造工藝。

EUV光刻機的產量一直是非常有限的，這是因為EUV的光源製造難度過大，到目前為止這個光源的功率都只能勉強達到要求下限的250W，距離英特爾的要求1000W還相差甚遠。

2015年，EUV系統在延期13年之後終於商用，但當年的出貨量只有3臺，2016年，EUV的出貨量也不過4臺。去年，EUV的唯一生產商ASML只能生產12臺EUV裝置。今年的產量大概是24臺左右。顯而易見，他們的產能是一個巨大的問題，以至於連三星，臺積電和英特爾的訂單都沒有全部交付完成。

現在，包括東芝，海力士，鎂光等記憶體快閃記憶體廠商也開始安裝全新的EUV光刻機，國內的紫光半導體也成功訂購一臺，ASML必須提升產量，要不然整個半導體行業都會停滯不前。