光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光來製作一個圖形（工藝）；

在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“複製”到矽片上的過程。

通俗易懂來講光刻機就是個“投影儀”，把我們想要的影子投影到幕布上。

晶片那麼精細，是怎麼生產出來的呢？用刀刻？用水衝？都不行，因為晶片太精細了，動輒幾十nm的線條，日常沒有什麼材料能做成這麼精細的刻刀。所以我們就想了一個辦法，用光線來刻，這也就是光刻機。

怎麼個用光刻法呢？

我們都用過膠捲相機吧，膠片平日裡是黑色的，不能見光的，一旦見光就會變白，我們也找了一種一見光就“易溶解”的特殊膠片。當我們想要在晶片上刻一個圓圈的時候，我們就在晶片上塗上這種特殊膠片，拿一個圓圈光照上去，再經過一些列後續處理，我們在這個晶片上就做出了一個圓圈圖形了對吧。

光刻機就是用這種膠片來刻出圖形的。剩下的問題是，我們怎麼把一種我們想要的特定圖形打到膠片上呢？

我們見過老式投影儀吧，原理跟皮影戲是一樣的，做一個“剪紙”，拿燈光一照，這個剪紙就映在幕布上了。我們也想辦法在光刻機裡做了這樣的“剪紙”，拿光源一照，這個剪紙就映在膠片上了。

以上就是光刻機的通俗理解。就是這麼簡單