真空度高，則真空鍍膜質量較好。各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子，以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由於源或靶的不斷改進，大大擴大了制膜材料的選用範圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜製備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被塗覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固並沉積的方法即為真空鍍膜。擴充套件資料製備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現象，實現物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻緻密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射範圍寬、可沉積厚膜、可製取成分穩定的合金膜和重複性好等優點。同時，物理氣相沉積技術由於其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為最終的處理工藝用於高速鋼和硬質合金類的薄膜刀具上。由於採用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削效能，人們在競相開發高效能、高可靠性裝置的同時，也對其應用領域的擴充套件，尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深入的研究。化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，藉助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上製出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。