到過國外考察，就會發覺企業都是小而精。因為受到原始資本的限制，所以都是小企業，而要在競爭中要生存，就必需做到精而極致。中國在計劃經濟時代，發展的企業是大而全，產品面廣而不精。這就是一些專業的好產品分佈在全世界各地的社會基礎。再有，造就歷史的是人材，光刻機在荷蘭是因為創造光刻機的人材在荷蘭。

導讀： 航空發動機一直被譽為人類頂尖工業CROWN上的明珠。但和光刻機比起來，尤其是最頂尖光刻機還是要遜色三分的，航發是在極端高溫高壓下挑戰材料和能量密度的極限，而光刻是在比頭髮絲還細千倍的地方挑戰鐳射波長和量子隧穿的極限。更難得的是，相比於高靠性的航空發動機，光刻機的可靠性更為嚴苛！前者保證了每天十萬架飛機在天空安全翱翔，後者在全球工廠每秒鐘刻出上千億個電晶體分毫不差。這相當於坐在一家超音速飛機上給另一臺超音速飛機上的繡花針穿線！那麼為什麼荷蘭光刻機也就是ASML這麼厲害呢？

光刻機原理： 光刻機的原理其實像幻燈機一樣簡單，就是把光透過帶電路圖的掩膜(Mask，後來也叫光罩)投影到塗有光敏膠的晶圓上。早期60年代的光刻，掩膜版是1:1尺寸緊貼在晶圓片上，而那時晶圓也只有1英寸大小。日本廠商： 60年代末，日本的尼康和佳能開始進入這個領域，畢竟當時的光刻不比照相機複雜。得益於日本經濟的騰飛！80年代是日本半導體最風光的時候，本土幾乎每家大公司大財閥都進入了半導體業。這給尼康和佳能雙雄帶來巨大的後盾，尼康和佳能佔據絕對的市場和技術優勢。

荷蘭廠商高階光刻機巨頭ASML：後來者ASML打破了這個局面，ASML最早是飛利浦分離的出來的，但是和大家想象的那樣子還是不同的，飛利浦在實驗室裡研發出stepper的原型，但是不夠成熟。因為光刻市場太小，飛利浦也不能確認它是否有商業價值，去美國IBM等談了一圈沒人願意合作。飛利浦差點就把光刻機這個業務斃掉了，這時候有家荷蘭小公司叫ASM International的老闆Arthur Del Prado聽說了有這麼回事，主動要求合作。但這家代理出身的公司只有半導體前後道的經驗，對光刻其實不太懂，飛利浦猶豫了一年時間，最後勉強同意了設立50:50的合資公司。1984年4月1日ASML成立的時候，只有31名員工。

ASML崛起：1986年半導體市場大滑坡（三星半導體就虧了3億美元），導致美國一幫光刻機廠商都碰到嚴重的財務問題。ASML體量還小，所以損失不大，還可以按既有計劃開發新產品。同期，尼康和佳能的新產品開發就暫時停滯了。 半導體領域的原生驅動力是摩爾定律。摩爾定律其實應該被叫做摩爾預言，這個預言中間還改過一次。戈登摩爾博士1965年最早的預言是積體電路密度每年翻倍，而1975年他自己改成每兩年翻倍,有人說，這是人類歷史上最偉大的“自我實現的預言”，因為英特爾就是照著這個預言一路狂奔數十年，直到光刻技術被卡在193nm,英特爾也成了網友說了十多年的“牙膏廠”。為了實現摩爾定律，光刻技術就需要每兩年把曝光關鍵尺寸(CD)降低30%-50%。根據瑞利公式：CD=k1*(λ/NA)，我們能做的就是降低波長λ，提高鏡頭的數值孔徑NA，降低綜合因素k1。2002年臺積電的林本堅博士在一次研討會上提出了浸入式193nm的方案，隨後ASML在一年的時間內就開發出樣機，充分證明了該方案的工程友好性。浸入式光刻成功翻越了157nm大關，直接做到半週期65nm。加上後來不斷改進的高NA鏡頭、多光罩、FinFET、Pitch-split、波段靈敏的光刻膠等技術，浸入式193nm光刻機一直做到今天的7nm(蘋果A12和華為麒麟980，當然也包括A13和990)。而此時的尼康和佳能因為選擇了太過超前的技術路線，難以量產.。光刻機就像印鈔機，材料成本可以忽略不計，而時間就像金子一樣珍貴。因此，尼康和佳能就此被擋在高階光刻機的門外。到了2009年ASML已經市佔率近7成，高階光刻機領域市場佔有率幾近100%遙遙領先。