工業水冷機是鐳射裝置重要的輔助裝置之一，它提供水迴圈冷卻鐳射器、切割頭等重要光學元件。

隨著鐳射技術的發展,鐳射在工業、醫療、國防等領域中廣泛應用,半導體鐳射器(LD)由於具有輸出光束質量好、轉換效率高、使用壽命長等優點,逐漸成為固態鐳射器的一個重要種類。

水冷機溫度精度原因有：

1）半導體鐳射器自身產生的熱量嚴重影響著出光波長、輸出功率等輸出特性,進而影響半導體鐳射器的控制精度和使用壽命,因此需要對半導體鐳射器的溫度變化進行嚴格控制。

2）鐳射器、切割機等對使用環境要求比較高，室溫與鐳射器使用過程中溫差超過7℃就會產生結露，容易燒壞光學器件。

鐳射裝置的正常執行需要一定的溫度條件，如鐳射切割機，鐳射主體需要低溫冷卻，QBH切割頭需要高溫冷卻(相對前面的低溫而言)。因此，溫控精度高的工業冷水機更利於鐳射器出光，從而降低能耗和熱影響，提高生產效率。

　　當然，除了溫控溫度外，水流量和水壓也會對鐳射裝置產生影響。畢竟，鐳射器是由很多精密元器件組成的裝置，不能受到外力的衝撞，否則會損壞。而冷卻出水是直接作用於鐳射器的，它將鐳射器的熱量帶走，接著將高溫的熱水迴流到冷卻裝置水箱進行降溫，如此迴圈，達到為鐳射裝置冷卻的作用。因此，冷卻出水的水流量以及水壓的穩定性就十分重要