二次曝光如何透過PS後期製作？

在PS軟體中，製作二次曝光，相當和簡單，只要兩個圖層兩疊加後，把邊緣在過渡下就OK了。

我以PS　CC2018　為例：

開啟兩張圖片

使用快速選擇工具把人物單獨摳出來。

用移動工具，把人像這張圖片放到風景中，並CTRL+T，自由變換，改變大小，

把圖層的模式改為柔光，

效果不明顯，可以CTRL+J，複製一個圖層

在更換一張其它圖片試試

調整大小，CTRL+T，把圖層的模式改為柔光。

圖層新增蒙板

用漸變工具，黑到無的漸變，把邊緣進行過渡

最後的效果圖就出來啦：

二次曝光如何透過PS後期製作？什麼是二次曝光

二次曝光，也是通常我們說的雙重曝光，是指在同一張底片上曝光兩次，成像兩次，形成一種虛幻的效果。這種拍攝方法在膠片時代就很受歡迎，在現在這個數碼時代，就更好實現了。實現雙重曝光的方法有兩種，一種是現在一些中高階相機都自帶雙重曝光功能，可以實現按兩次快門，出一張照片的效果。

另外一種就是用軟體來實現啦～下面說一下怎麼分別用ps和手機軟體snapseed來製作雙重曝光效果

1、將兩張素材匯入ps中

2、將上方的風光圖拖拽到人像照片上

2、將兩張圖對齊，然後將風光照的圖層模式改為【濾色】

3、這個時候會覺得照片的主題不明確，到底是突出人像還是突出風景呢？我們這張以突出人像為主，那麼就講風光照的圖層不透明度調低，主題就會更突出了。如果想突出風光，可以將人像圖層的不透明度調低即可。

這張二次曝光的照片就做好了～

1、將人畫素材匯入snapseed

2、選擇【工具】-【雙重曝光】工具

這張雙重曝光的照片就修好了

以上，希望對您有幫助～

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