人類過多地使用氯氟烴類化學物質（用CFCs表示）是臭氧層被破壞的主要原因。氯氟烴是一種人造化學物質，1930年由美國的杜邦公司投人生產。

在第二次世界大戰後，尤其是進入20世紀60年代以後，氯氟烴大量用作氣溶膠、製冷劑、發泡劑、化工溶劑等。另外，哈龍類物質（用於滅火器）、氮氧化物也會造成臭氧層的損耗。

而CFCs物質的非同尋常的穩定性使其在大氣同溫層中很容易聚集起來，其影響將持續一個世紀或更長的時間。在強烈的紫外輻射作用下，它們光解出Cl原子和Br原子，成為破壞臭氧的催化劑（1個氯原子可以破壞10萬個臭氧分子）。

擴充套件資料：

一、臭氧層破壞對生物圈的影響

由於臭氧層中臭氧的減少，致使照射到地面的太Sunny紫外線增強。其中波長為240～329nm的紫外線對生物細胞具有很強的殺傷作用，對生物圈中的生態系統和各種生物，包括人類，都會產生不利的影響。

首先，紫外輻射增強使患呼吸系統傳染病的人增加；受到過多的紫外線照射還會增加面板癌和白內障的發病率。此外，紫外線的增強對植物、水生生態系統也有潛在的危險，會使城市內的煙霧加劇，使橡膠、塑膠等有機材料加速老化，使油漆褪色等。

二、機理

1、氟氯烴化合物

儘管耗竭的機理仍在不斷的爭論和探索中，但人們普遍認為主要是由人類活動產生的大量氮氧化物、氟氯烴化合物及其他痕量氣體進入臭氧層所造成，氟氯烴化合物是致使其耗竭的禍首（尤其是氟里昂）。它們可長期、穩定地存在於高空，經光解產生活性氯自由基（C仭ぃ┘奧妊踝雜苫–?#8320;·），再起催化劑作用使臭氧（O儯┎歡蝦乃稹?

2、其他化合物