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1 # amgkf34101
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2 # 藍風24
風印一般是指印染加工後的紡織品在烘燥、存放過程中所產生的一種染色疵點。風印處與正常染色光坯處相比,會在幾乎整個門幅的緯向呈現白色或色光萎暗的灰色長條影。該疵點在定型前看不出,定型後便會產生。
滌綸織物在連續化生產時(長車生產線)不易產生風印,而間歇式生產(高溫高壓溢流染色時)便易產生風印。滌綸面料的風印多數在布匹脫水開幅後、定型前這一環節產生,出現在堆布車存放時的往復摺疊印處。嚴重時會在緯向出現數十條,其間距正好是坯布往復摺疊的間距。
無漿的滌綸梭織面料或針織面料產生風印的原因
這類面料開幅後的擺放待定過程中,往復摺疊處暴露在空氣中,空氣的流動致使這些部位的水分首先揮發風乾。由於毛細管效應其他部位的自由水會湧向往復摺疊處。然而,紡絲和織造時加的抗靜電劑、潤滑劑及染色後處理時加的勻染劑、洗滌劑等,仍然會有少量殘留於面料及面料攜帶的自由水中,而這些助劑中多數為非離子助劑。同染料泳移的原理一樣,自由水湧向往復摺疊處時,溶於自由水中的殘留助劑也湧向了往復摺疊處。
隨著水分的進一步揮發,往復摺疊處的助劑濃度遠大於其他部位。高溫定型過程中,往復摺疊部位產生的分散染料熱遷移性(thor
風印一般是指印染加工後的紡織品在烘燥、存放過程中所產生的一種染色疵點。風印處與正常染色光坯處相比,會在幾乎整個門幅的緯向呈現白色或色光萎暗的灰色長條影。該疵點在定型前看不出,定型後便會產生。 滌綸織物在連續化生產時(長車生產線)不易產生風印,而間歇式生產(高溫高壓溢流染色時)便易產生風印。滌綸面料的風印多數在布匹脫水開幅後、定型前這一環節產生,出現在堆布車存放時的往復摺疊印處。嚴重時會在緯向出現數十條,其間距正好是坯布往復摺疊的間距。 無漿的滌綸梭織面料或針織面料產生風印的原因 這類面料開幅後的擺放待定過程中,往復摺疊處暴露在空氣中,空氣的流動致使這些部位的水分首先揮發風乾。由於毛細管效應其他部位的自由水會湧向往復摺疊處。然而,紡絲和織造時加的抗靜電劑、潤滑劑及染色後處理時加的勻染劑、洗滌劑等,仍然會有少量殘留於面料及面料攜帶的自由水中,而這些助劑中多數為非離子助劑。同染料泳移的原理一樣,自由水湧向往復摺疊處時,溶於自由水中的殘留助劑也湧向了往復摺疊處。 隨著水分的進一步揮發,往復摺疊處的助劑濃度遠大於其他部位。高溫定型過程中,往復摺疊部位產生的分散染料熱遷移性(thor?mo-migration)要明顯大於其他部位。分散染料熱遷移性的原因是纖維外層的助劑在高溫能產生溶解作用,染料從纖維內部透過毛細管遷移到纖維表層,使染料在纖維表面堆積,造成一系列影響。如色光變化、摩擦、水洗、汗漬、乾洗、耐曬等色牢度的下降。但致命的影響,是往復摺疊處與其他正常部位的嚴重色光差異,即風印。 上漿的滌綸梭織面料產生風印的原因 與無漿的滌綸梭織面料或針織面料相比,上漿的滌綸梭織面料染整工藝時間長,其紡絲、織造時使用的一些助劑絕大多數已去除。然而,染色和後處理過程中使用的助劑可能仍有少量殘留於面料及其攜帶的自由水中。另外,雖然退漿後已透過兩次熱洗及一次酸洗,但退漿時使用的燒鹼可能仍會少量殘留於滌綸纖維的單纖內部,乃至無定形區的內部。 同理,在面料定型前的堆放待定的過程中,自由水可攜帶殘鹼及助劑湧向往復摺疊處。此時,往復摺疊處的pH值偏鹼性明顯高於面料其他部位,這一點用萬用指示劑也得到了證實,助劑的濃度也大於其他部位。面料在高溫定型過程中,滌綸大分子鏈劇烈運動,OH—離子可隨水分子瞬間鑽入無定形區與分散染料反應。 分散染料在酸性條件(pH值5)均較穩定,在鹼性條件一般對分散染料有如下兩種影響:鹼性條件可使某些染料結構離解化,這種反應是可逆的,在中性或微酸性結構中會重新出現未離解化的結構。鹼對某些分散染料能起水解反應,經水解後,染料不僅色光改變,且親和力也不同。所以鹼對某些分散染料能起永久性破壞作用。 因此,上漿的滌綸梭織面料往復摺疊處的色變是pH值過高,分散染料的水解亦或離解化和助劑對分散染料的熱遷移的綜合效應引起。 避免滌綸織物產生風印的辦法 上述兩種面料在出缸後若能及時脫水、開幅、定型,一般都不會產生風印。若放置一段時間(約30小時)再定型就易產生風印。要想從根本上解決風印,須從產生風印的機理入手,把產生風印的因素降至最低限度。 紡織品產生風印的原因主要與染料有關。通常,少數還原染料、納夫妥染料和部分乙烯碸型活性染料及絕大多數直接染料由於染料本身對日曬和氧化的牢度較差,故能產生風印。某些活性染料由於對鹼的敏感性較強,若染色後布面鹼未除乾淨,在pH值大於8時(如活性翠蘭KN—G、活性豔橙G等)就容易產生風印。 定型發現有風印,而剩餘未定型的面料往復摺疊處高濃度的助劑或OH—離子,只是物理的吸附於纖維表面,不經過高溫定型助劑無法溶解無定形區的染料,OH—離子也無法進入纖維的無定形區與分散染料反應。因此,經過水洗或酸洗,往復摺疊處的高濃度的助劑和OH—根離子已經被稀釋,重新及時定型可避免風印。