工業能力是一個國家國防實力和經濟實力的基礎，而光刻機是現代工業體系的關鍵部分，不過目前荷蘭光刻機是最有名的，出口到全球各國，口碑很好。那光刻機是誰發明的？主要用途有哪些呢？

　　1959年，世界上第一架電晶體計算機誕生，提出光刻工藝，快捷半導體研製世界第一個適用單結構矽晶片，1960年代，仙童提出CMOSIC製造工藝，第一臺IC計算機IBM360，並且建立了世界上第一臺2英寸積體電路生產線，美國GCA公司開發出光學圖形發生器和分佈重複精縮機。

　　光刻機是積體電路製造中最精密複雜、難度最高、價格最昂貴的裝置，用於在晶片製造過程中的掩膜圖形到矽襯底圖形之間的轉移。積體電路在製作過程中經歷材料製備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機械研磨等多個工序，其中以光刻工序最為關鍵，因為它是整個積體電路產業製造工藝先程序度的重要指標。

　　目前，全球最頂尖的光刻機生產商是荷蘭ASML、Nikon、Canon和上海微電子（SMEE），其中ASML實力最強，因此全球多數國家都願意去這家公司進口光刻機。

目前世界上最大的光刻機制造商是荷蘭ASML；1984年ASML從飛利浦獨立出來，專門致力於研發光刻技術，得益於近乎完美的德國機械工藝以及世界頂級光學廠商德國蔡司鏡頭，再加上美國提供的光源，ASML迅速發展，到如今佔到了全球光刻機總銷售收入的78%；