(1)光刻膠

　　光刻膠是進行微細圖形加工，製造微電子器件和印製電路板的一種關鍵化學品，按反應機理及顯影原理，可分為正型光刻膠和負型光刻膠。按曝光光源可分為可見光刻膠和紫外光刻膠和輻射光刻膠。

　　(2)電子特種氣體

　　電子特種氣體主要用於電子工業加工的保護、摻雜、蝕刻、離子注入、氣相沉積等工序，包括純氣和純氣混和氣。

　　(3)電子封裝材料

　　電子封裝材料主要用於承載電子元器件及其相互聯線，起機械支援、密封環境保護、訊號傳遞、散熱和遮蔽等作用的基體材料。

　　(4)高純試劑

　　高純試劑，又稱工藝化學品或溼化學品，是大規模和超大規模積體電路製作過程中的關鍵性基礎化工材料，主要用於生產過程中的清洗、光刻、蝕刻和去膠等，其純度和潔淨度對於積體電路的成品率、電效能及可靠性均有十分重要的影響。

　　(5)平板顯示(FPD)專用化學品

　　平板顯示涵蓋液晶顯示(TFT-LCD)、等離子體顯示(PDP)、有機發光顯示(OLED)、電子紙顯示(E-Paper)等顯示技術。涉及的電子化學品主要包括玻璃基板、彩色濾光片、偏光片、掩膜版、熒光粉等。

　　(6)印製電路板材料及配套化學品

　　印製電路板材料及配套化學品包括電路基材、樹脂、油墨、抗蝕工藝用化學品、腐蝕劑及鍍敷化學品等。

　　(7)其他電子化學品

　　電子工業中涉及的電子化學品材料除上述大類外，還包括混成電路用化學品、電容器用材料、電器塗料、導電聚合物等其他電子電氣用化學品。