注1：在任何情況下不要讓帶有遊離氯的水與複合膜元件接觸，如果發生這種接觸，將會造成膜元件效能下降，而且再也無法恢復其效能，在管路或裝置殺菌之後，應確保送往反滲透膜元件的給水中無遊離氯時，應透過化驗來確證，應使用酸溶液來中和殘餘氯，並確保足夠的接觸時間以保證反應完全。
注2：在反滲透膜元件擔保期內，建議每次滲透膜清洗應與公司協商後進行，至少在第一次清洗時，公司的現場服務人員應在現場。
注3：在清洗溶液中應避免使用陽離子表面活性劑，因為如果使用可能會造成膜元件的不可逆轉的汙染。
1.反滲透膜元件的汙染物
在正常執行一段時間後，反滲透膜元個會受到在給水中可能存在的懸浮物質或難溶物質的汙染，這些汙染物中最常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、矽沉積物及有機或生物沉積物。
汙染物的性質及汙染速度與給水條件有關，汙染是慢慢發展的，如果不早期採取措施，汙染將會在相對短的時間內損壞膜元件的效能。定期檢測系統整體效能是確認膜元件發生汙染的一個好方法，不同的汙染物會對膜元件效能造成不同程度的損害。
表1列出了常見汙染物對膜效能的影響。
2.汙染物的去除
汙染物的去除可透過化學清洗和物理沖洗來實現，有時亦可透過改變執行條件來實現，作為一般的原則，當下列情形之一發生時應進行清洗。
2.1在正常壓力下如產品水流量降至正常值的10～15%。
2.2為了維持正常的產品水流量，經溫度校正後的給水壓力增加了10～15%。
2.3產品水質降低10～15%。鹽透過率增加10～15%。
2.4使用壓力增加10～15%
2.5RO各段間的壓差增加明顯(也許沒有儀表來監測這一跡象)。
3.常見汙染物及其去除方法：
3.1碳酸鈣垢
在阻垢劑新增系統出現故障時或加酸系統出現而導致給水PH升高，那麼碳酸鈣就有可能沉積出來，應儘早發現碳酸鈣垢沉澱的發生，以防止生長的晶體對膜表面產生損傷，如早期發現碳酸鈣垢，可以用降低給水PH值至3.0～5.0之間執行1～2小時的方法去除。對沉澱時間更長的碳酸鈣垢，則應採用RT-818A清洗液進行迴圈清洗或通宵浸泡。
注：應確保任何清洗液的PH值不要低於2.0，盃則可能會RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，最高的PH不應高於11.0。查使用氨水來提高PH，使用硫酸或鹽酸來降低PH值。
3.2硫酸鈣垢
RT-818B清洗劑是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。
3.3金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。
3.4矽垢
對於不是與金屬化物或有機物共生的矽垢，一般只有透過專門的清洗方法才能將他們去除，有關的詳細方法請與公司聯絡。
3.5有機沉積物
有機沉積物(例如微生物粘泥或黴斑)可以使用RT-818C清洗劑去除，為了防止再繁殖，可使用經海德能公司認可的殺菌溶液在系統中迴圈、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，最好採用消毒處理，請與公司會商以確定適宜的殺菌劑。
3.6清洗液
清洗反滲透膜元件時建議採用RT-818系列RO膜系統清洗劑。確定清洗前對汙染物進行化學分析十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據。
對於無機汙染物建議使用RT-818A。對於硫酸鈣及有機物汙染建議使用RT-818B。對於嚴重有機物汙染建議使用RT-818C。所有清洗可以在最高溫度為攝氏40℃以下清洗60分鐘，所需用品量以每100加侖(379升)中加入量計算，配製清洗液時按比例加入藥品及清洗用水，應採用不含遊離氯的反滲透產品水來配製溶液並混合均勻。
清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側迴圈，此時膜元件仍裝壓力容器內而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。
清洗反滲透膜元件的一般步驟：
1.用泵將乾淨、無遊離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鐘。
2.用乾淨的產品水在清洗箱中配製清洗液。
3.將清洗液在壓力容器中迴圈1小時或預先設定的時間，對於8英寸或8.5英寸壓力容器時，流速為35~40加侖/分鐘(133~151升/分鐘)，對於6英寸壓力容器流速為15~20加侖/分鐘(57~76升/分鐘)，對於4英寸壓力容器流速為9~10加侖/分鐘(34~38升/分鐘)。
4.清洗完成以後，排淨清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿乾淨的產品水以備下一步沖洗。
5.用泵將乾淨、無遊離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鐘。
6.在沖洗反滲透系統後，在產品水排放閥開啟狀態下執行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常需15~30分鐘)。
注1：在任何情況下不要讓帶有遊離氯的水與複合膜元件接觸，如果發生這種接觸，將會造成膜元件效能下降，而且再也無法恢復其效能，在管路或裝置殺菌之後，應確保送往反滲透膜元件的給水中無遊離氯時，應透過化驗來確證，應使用酸溶液來中和殘餘氯，並確保足夠的接觸時間以保證反應完全。
注2：在反滲透膜元件擔保期內，建議每次滲透膜清洗應與公司協商後進行，至少在第一次清洗時，公司的現場服務人員應在現場。
注3：在清洗溶液中應避免使用陽離子表面活性劑，因為如果使用可能會造成膜元件的不可逆轉的汙染。
1.反滲透膜元件的汙染物
在正常執行一段時間後，反滲透膜元個會受到在給水中可能存在的懸浮物質或難溶物質的汙染，這些汙染物中最常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、矽沉積物及有機或生物沉積物。
汙染物的性質及汙染速度與給水條件有關，汙染是慢慢發展的，如果不早期採取措施，汙染將會在相對短的時間內損壞膜元件的效能。定期檢測系統整體效能是確認膜元件發生汙染的一個好方法，不同的汙染物會對膜元件效能造成不同程度的損害。
表1列出了常見汙染物對膜效能的影響。
2.汙染物的去除
汙染物的去除可透過化學清洗和物理沖洗來實現，有時亦可透過改變執行條件來實現，作為一般的原則，當下列情形之一發生時應進行清洗。
2.1在正常壓力下如產品水流量降至正常值的10～15%。
2.2為了維持正常的產品水流量，經溫度校正後的給水壓力增加了10～15%。
2.3產品水質降低10～15%。鹽透過率增加10～15%。
2.4使用壓力增加10～15%
2.5RO各段間的壓差增加明顯(也許沒有儀表來監測這一跡象)。
3.常見汙染物及其去除方法：
3.1碳酸鈣垢
在阻垢劑新增系統出現故障時或加酸系統出現而導致給水PH升高，那麼碳酸鈣就有可能沉積出來，應儘早發現碳酸鈣垢沉澱的發生，以防止生長的晶體對膜表面產生損傷，如早期發現碳酸鈣垢，可以用降低給水PH值至3.0～5.0之間執行1～2小時的方法去除。對沉澱時間更長的碳酸鈣垢，則應採用RT-818A清洗液進行迴圈清洗或通宵浸泡。
注：應確保任何清洗液的PH值不要低於2.0，盃則可能會RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，最高的PH不應高於11.0。查使用氨水來提高PH，使用硫酸或鹽酸來降低PH值。
3.2硫酸鈣垢
RT-818B清洗劑是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。
3.3金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。
3.4矽垢
對於不是與金屬化物或有機物共生的矽垢，一般只有透過專門的清洗方法才能將他們去除，有關的詳細方法請與公司聯絡。
3.5有機沉積物
有機沉積物(例如微生物粘泥或黴斑)可以使用RT-818C清洗劑去除，為了防止再繁殖，可使用經海德能公司認可的殺菌溶液在系統中迴圈、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，最好採用消毒處理，請與公司會商以確定適宜的殺菌劑。
3.6清洗液
清洗反滲透膜元件時建議採用RT-818系列RO膜系統清洗劑。確定清洗前對汙染物進行化學分析十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據。
對於無機汙染物建議使用RT-818A。對於硫酸鈣及有機物汙染建議使用RT-818B。對於嚴重有機物汙染建議使用RT-818C。所有清洗可以在最高溫度為攝氏40℃以下清洗60分鐘，所需用品量以每100加侖(379升)中加入量計算，配製清洗液時按比例加入藥品及清洗用水，應採用不含遊離氯的反滲透產品水來配製溶液並混合均勻。
清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側迴圈，此時膜元件仍裝壓力容器內而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。
清洗反滲透膜元件的一般步驟：
1.用泵將乾淨、無遊離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鐘。
2.用乾淨的產品水在清洗箱中配製清洗液。
3.將清洗液在壓力容器中迴圈1小時或預先設定的時間，對於8英寸或8.5英寸壓力容器時，流速為35~40加侖/分鐘(133~151升/分鐘)，對於6英寸壓力容器流速為15~20加侖/分鐘(57~76升/分鐘)，對於4英寸壓力容器流速為9~10加侖/分鐘(34~38升/分鐘)。
4.清洗完成以後，排淨清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿乾淨的產品水以備下一步沖洗。
5.用泵將乾淨、無遊離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鐘。
6.在沖洗反滲透系統後，在產品水排放閥開啟狀態下執行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常需15~30分鐘)。