當今世界科技分五大領域：新能源、新材料、航空航天、資訊科技、生物工程。晶片技術跨新材料與資訊科技領域，軍事用途屬細分子行業。關於這方面的資訊，可查詢一下中科院官網，或《科技日報》。

這個要說起來就複雜了，當今現代武器系統，首先要求智慧化、網路化，其主要核心問題就是要讓武器系統能先敵發現、先敵攻擊、還要打的準，還要把戰場敵情分享給友鄰部隊，讓恰當的武器攻擊合適的目標，這一切都需要晶片技術做支援。

科技時代，戰爭也科技化。一切高階戰爭機器，都離不開復雜的計算，而晶片是承擔複雜計算的物理載體。

作為國家安全防禦的一環，武器必須掌握在國家手裡。

但，這些武器的晶片都是別的國家造的，那麼本國無論如何都會有個疑問，這些武器可靠嗎？他們真的沒有在晶片裡留下後門？

不說戰時敵人控制自己的武器反打自己，就所有高科技武器都癱瘓了也受不了啊，那可就直接回到解放前了。

作為邏輯硬體的晶片，天生就是被懷疑的物件，這種懷疑甚至比晶片本身有後門還可怕。

所以，必須要有讓自己放心的晶片。

如果用社會機構來類比晶片在人工智慧的話：晶片是人工智慧裡的靈魂和政治局裡的中常委+科學院的常委+企業集團裡的一/二把手。

晶片相當於裝置的大腦，用在現代生活的方方面面，可以說沒有晶片，九零後就洗洗睡了吧，這是一個普通生活上的比喻。武器更是複雜，沒有晶片飛機導彈軍艦等就是廢銅爛鐵，就像人的大腦壞死，軀體再好也是植物人

CPU晶片是電腦的心臟，也是各種電子產品的要點，而晶片製造是中國之後佔領高科技制高點的要點。目前，中國的晶片主要靠進口，每年進口的晶片量和價值不菲，可以說未來戰爭打的就是矽戰爭，如果國外一旦切斷對中國輸出晶片，那中國的高科技產品面臨著無以為繼的境地。全球最大晶片光刻裝置市場供貨商阿斯麥(ASML)近日公佈2017第二季財報：營收淨額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統訂單，讓EUV光刻系統的未出貨訂單累積到27臺，總值高達28億歐元。公司現在年產12臺，2018年將增加到24臺，2019年達到年產40臺的產能。其中最高階的產品單價超1億美元，然而他們卻不賣給中國。到底是什麼光刻裝置這麼牛，為什麼又不能賣給中國呢？到底什麼光刻裝置這麼牛？先看影片瞭解一下沒wifi的可以直接閱讀文字，不影響。什麼是光刻機？光刻機是晶片製造的核心裝置之一，按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶片的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於LED製造領域的投影光刻機。用於生產晶片的光刻機是中國在半導體裝置製造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高階光刻機完全依賴進口，今年早些時候廈門企業就從荷蘭進口光刻機用於晶片生產。在高階光刻機上，除了龍頭老大ASML，尼康和佳能也曾做過光刻機，而且尼康還曾經得到過Intel的訂單。但是近些年，尼康在ASML面前被打的毫無還手之力，高階光刻機市場基本被ASML佔據——即便是尼康最新的Ar-F immersion 630賣價還不到ASML Ar-F immersion 1980D平均售價的一半，也無法挽回敗局。原因何在？一方面是Intel新CEO上臺後，不再延續與尼康的620D合同，這使得尼康失去了一個大客戶。另一方面，也和尼康自身技術實力不足有關，尼康的光刻機相對於ASML有不少瑕疵，在作業系統上設計的架構有缺陷，而且尼康的光刻機的實際效能和尼康官方宣傳的有不小差距，這使得臺積電、Intel、三星、格羅方德等晶圓大廠不可能為了省一點錢去賣有瑕疵的產品。目前，尼康的高階光刻機基本被ASML吊打，主流半導體產線中只有少數低階老機齡的光刻機還是尼康或者佳能，其他基本都是ASML的天下。某種程度上，尼康的光刻機也只能用賣的超級便宜來搶市場了。那麼，賣的到底有多便宜呢？用資料來說話，ASML的 EUV NXE 3350B 單價超過1億美元，ArF Immersion售價大約在7000萬美元左右。相比之下，尼康光刻機的單價只相當於ASML價格的三分之一。我是機械教授光刻機工作原理下面，簡單介紹一下圖中各裝置的作用：測量臺、曝光臺：是承載矽片的工作臺。鐳射器：也就是光源，光刻機核心裝置之一。光束矯正器：矯正光束入射方向，讓鐳射束儘量平行。能量控制器：控制最終照射到矽片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。光束形狀設定：設定光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性。遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到矽片。能量探測器：檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求，並反饋給能量控制器進行調整。掩模版：一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數十萬美元。掩膜臺：承載掩模版運動的裝置，運動控制精度是nm級的。物鏡：物鏡用來補償光學誤差，並將線路圖等比例縮小。矽片：用矽晶製成的圓片。矽片有多種尺寸，尺寸越大，產率越高。題外話，由於矽片是圓的，所以需要在矽片上剪一個缺口來確認矽片的座標系，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch。內部封閉框架、減振器：將工作臺與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，並維持穩定的溫度、壓力。在加工晶片的過程中，光刻機透過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後對映到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、鐳射刻蝕等工序。經過一次光刻的晶片可以繼續塗膠、曝光。越複雜的晶片，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。為什麼不賣給中國？作為積體電路製造過程中最核心的裝置，光刻機至關重要，晶片廠商想要提升工藝製程，沒有它萬萬不行。中國半導體工藝始終提升不上去，光刻機被禁售是一個主要因素。這麼昂貴的裝置，為什麼不賣給中國呢？這就要提到《瓦森納協定》。《瓦森納協定》又稱瓦森納安排機制，全稱為《關於常規武器和兩用物品及技術出口控制的瓦森納安排》，目前共有包括美國、日本、英國、俄羅斯等40個成員國（注：沒有中國）。儘管“瓦森納安排”規定成員國自行決定是否發放敏感產品和技術的出口許可證，並在自願基礎上向“安排”其他成員國通報有關資訊。但“安排”實際上完全受美國控制。當“瓦森納安排” 某一國家擬向中國出口某項高技術時，美國甚至直接出面干涉，如捷克擬向中國出口“無源雷達裝置”時，美便向捷克施加壓力，迫使捷克停止這項交易。不過這個協定對中國也不是完全禁售，只是禁售最新的幾代裝置。瓦森納協議每過幾年都會更新禁售列表，比如2010年90nm以下的裝置都是不允許銷售的，到2015年就改成65nm以下的了。發明創造高階光刻機完全依賴進口目前，光刻機領域的龍頭老大是荷蘭ASML，並已經佔據了高達80%的市場份額，壟斷了高階光刻機市場。日本尼康在高階光刻機上完全被ASML擊敗，即便尼康的ArF光刻機售價僅僅不到ASML的一半也無補於事。Intel、臺積電、三星用來加工14/16nm晶片的光刻機都是買自ASML，格羅方德、聯電以及中芯國際等晶圓廠的光刻機主要也是來自ASML。更關鍵的是，最先進的EUV光刻機全球僅僅ASML能夠生產，ASML在今年第三季度和第四季度出售的兩臺EUV光刻機售價都超過1億美元，落後EUV一代的ArF光刻機平均售價也在4000萬至5000萬歐元左右，從高企的報價和EUV光刻機全球僅此一家出售可以看出，光刻機的技術門檻極高，是人類智慧集大成的產物。相比之下，國內光刻機廠商則顯得非常寒酸，處於技術領先的上海微電子裝備有限公司已量產的光刻機中，效能最好的是能用來加工90nm晶片的光刻機，技術差距說是鴻溝都不為過。正是因此，國內晶圓廠所需的高階光刻機完全依賴進口。雖然中國在光刻機進口上受到種種限制，但壓抑太久遲早要爆發，歐美對中國的限制遲早成為中國發展中國產光刻機的磨刀石，特別是中國這樣的大國。最近傳來了新的好訊息，中科院光電所採用波長更為長的650奈米氦氖鐳射SP光刻機上實現了單次曝光光刻出22奈米的晶片，目前該光刻機還是首臺樣機，如果採用多次曝光技術的話，據信可獲得10奈米以下的晶片，這確實是中國光刻機領域的一大突破，也闖出了一匹黑馬。喜訊：近日，中國“極紫外光刻關鍵技術研究”專案驗收會在長春光學精密機械與物理研究所召開，現場在眾多評審專家的見證下，驗收通過了該專案取得的一系列成果，大大推進了中國極紫外光刻技術的研發。什麼是極紫外光刻？極紫外光刻機簡單說，極紫外光刻就是一種採用波長13.5nm極紫外光為工作波長的投影光刻技術，它代表了當前應用光學發展最高水平。而作為下一代光刻技術，被行業賦予了拯救摩爾定律的使命。CPU處理器中國中科院長春光機所自上世紀90年代就在此領域展開了相關研究，但受限於國外裝置技術封鎖，以及自身技術薄弱等原因，進展一直遠遠落後國外發展速度。2008年為了追趕國外技術水平，中國將32-22nmEUV光刻技術列為重要攻關任務，經過近8年的艱苦奮戰、潛心鑽研，中國才最終取得成功，順利打破了國外在該領域的技術封鎖。智慧手機光刻技術作為現代積體電路設計必不可少的裝置，以及最大的瓶頸，直接關係著CPU等電子晶片的發展和進步。正是因為中國在EUV光刻技術方面的滯後性，中國不得不從外國進口價格高昂的成品。推薦閱讀：據統計，中國連續多年從西方進口晶片已經超過1萬億人民幣，且這個趨勢還在不斷上漲，比如去年一整年就超過了1萬五千億，可以說積體電路已經成為中國國庫公帑流失以及國防經濟安全的巨大破洞。實驗生產晶片所以，此次長春光機所在EUV光刻技術方面取得重大突破，其意義已經不亞於電磁彈射，甚至堪比峨眉發動機。專家指出，相信進入十四五計劃後，中國的發展將不可阻擋，隨著國家對晶片領域大幅度投資和持續投入，相信中國的光刻機發展也將最終突破桎梏，其發展也將光明萬丈，前程似錦！