·MS.Polymorph Predictor
Polymorph是一個演算法集，目的是測定晶體的低能多晶型。此方法可以與實驗衍射資料相關聯或者僅僅使用材料的化學結構來實現此目的。 晶體的多晶型可能會導致不同的性質，因此判斷哪種晶型更加穩定或者接近穩定態勢非常重要的。在處理過程中微小的改變都會導致穩定性的大幅度變化。 Polymorph中的相似性挑選和聚類演算法允許使用者將相似模型歸類，從而節省計算時間。
·MS.Morphology
從晶體的原子結構來模擬晶體形貌。可以預測晶體外形，研發特殊效果的摻雜成分，控制溶劑和雜質的效應。
·MS.X-Cell
已申請專利的X-Cell是一種全新、高效、綜合、易用的指標化演算法，它使用消光決定（extinction-specific）的二分法方法對引數空間進行詳盡無遺的搜尋，最終給出可能的晶胞引數的完整清單。在許多情況下顯示出比DICVOL、TREOR 和 ITO更高的成功率。X-Cell可以很好的處理粉末衍射指標化中的許多難點，如樣品含有雜質相、峰位重疊、零點偏移、極端形狀的晶胞等。
·MS.Reflex
模擬晶體材料的X光、中子以及電子等多種粉末衍射圖譜。可以幫助確定晶體的結構，解析衍射資料並用於驗證計算和實驗結果。模擬的譜圖可以直接與實驗資料比較，並能根據結構的改變進行即時的更新。粉末衍射指標化演算法包括：TREOR90, DICVOL91, ITO and X-cell。結構精修工具包括Rietveld精修和Pawley精修。。
·MS.Reflex Plus
在Reflex標準功能的基礎上加入已被廣泛驗證的Powder Solve技術，提供了一套可以從高質量的粉末衍射資料確定晶體結構的完整工具。包括粉末指標化、Pawley精修、解結構以及Rietveld精修。結構的全域性搜尋過程可以選用Monte Carlo模擬退火和Monte Carlo並行回火兩種演算法之一，求解過程中同時考慮到了優先取向的影響。
·MS. Reflex QPA
利用粉末衍射資料及Rietveld方法進行定量相分析的強大工具，可以透過多相樣品的粉末衍射圖判定不同組成成分相對比例的。用於化學品或醫藥工業中有機或無機材料組成成分的確定。
量子力學
·MS.DMol3
獨特的密度泛函（DFT）量子力學程式，是唯一可以模擬氣相、溶液、表面及固體等過程及性質的商業化量子力學程式，應用於化學、材料、化工、固體物理等許多領域。可用於研究均相催化、多相催化、半導體、分子反應等，也可預測諸如溶解度、蒸氣壓、配分函式、溶解熱、混合熱等性質。可計算能帶結構、態密度。基於內座標的演算法強健高效，支援平行計算。MS4.0版本中加入了更方便的自旋極化設定，可用於計算磁性體系。4.0版本起還可以進行動力學計算。
·MS.CASTEP
先進的量子力學程式，廣泛應用於陶瓷、半導體以及金屬等多種材料。可研究：晶體材料的性質（半導體、陶瓷、金屬、分子篩等）、表面和表面重構的性質、表面化學、電子結構（能帶及態密度、聲子譜）、晶體的光學性質、點缺陷性質（如空位、間隙或取代摻雜）、擴充套件缺陷（晶粒間界、位錯）、成分無序等。可顯示體系的三維電荷密度及波函式、模擬STM影象、計算電荷差分密度。MS4.0版本中加入了更方便的自旋極化設定，可用於計算磁性體系。4.0版本起還可以計算固體材料的紅外光譜。
·MS.NMR CASTEP
透過第一原理DFT理論預測NMR化學位移和電場梯度張量。方法適於計算包括有機分子、陶瓷和半導體在內的眾多型別材料的分子、固體、表面的NMR位移。
·MS.VAMP
半經驗的分子軌道程式，適用於有機和無機的分子體系。可快速計算分子的多種物理和化學性質，其計算的速度和精度介於基於力場的分子力學方法和量子力學的第一原理方法。快速的VAMP程式可以為DFT程式提供了良好的初始結構以便進行精確的結構最佳化。經DFT最佳化好的結構可以用VAMP來計算各種性質和光譜。VAMP還可以向分子動力學模擬提供引數。MS4.0 版本引入了ZINDO哈密爾敦函式，可計算包含過渡金屬的有機金屬體系的紫外光譜。
·MS.Polymorph Predictor
Polymorph是一個演算法集，目的是測定晶體的低能多晶型。此方法可以與實驗衍射資料相關聯或者僅僅使用材料的化學結構來實現此目的。 晶體的多晶型可能會導致不同的性質，因此判斷哪種晶型更加穩定或者接近穩定態勢非常重要的。在處理過程中微小的改變都會導致穩定性的大幅度變化。 Polymorph中的相似性挑選和聚類演算法允許使用者將相似模型歸類，從而節省計算時間。
·MS.Morphology
從晶體的原子結構來模擬晶體形貌。可以預測晶體外形，研發特殊效果的摻雜成分，控制溶劑和雜質的效應。
·MS.X-Cell
已申請專利的X-Cell是一種全新、高效、綜合、易用的指標化演算法，它使用消光決定（extinction-specific）的二分法方法對引數空間進行詳盡無遺的搜尋，最終給出可能的晶胞引數的完整清單。在許多情況下顯示出比DICVOL、TREOR 和 ITO更高的成功率。X-Cell可以很好的處理粉末衍射指標化中的許多難點，如樣品含有雜質相、峰位重疊、零點偏移、極端形狀的晶胞等。
·MS.Reflex
模擬晶體材料的X光、中子以及電子等多種粉末衍射圖譜。可以幫助確定晶體的結構，解析衍射資料並用於驗證計算和實驗結果。模擬的譜圖可以直接與實驗資料比較，並能根據結構的改變進行即時的更新。粉末衍射指標化演算法包括：TREOR90, DICVOL91, ITO and X-cell。結構精修工具包括Rietveld精修和Pawley精修。。
·MS.Reflex Plus
在Reflex標準功能的基礎上加入已被廣泛驗證的Powder Solve技術，提供了一套可以從高質量的粉末衍射資料確定晶體結構的完整工具。包括粉末指標化、Pawley精修、解結構以及Rietveld精修。結構的全域性搜尋過程可以選用Monte Carlo模擬退火和Monte Carlo並行回火兩種演算法之一，求解過程中同時考慮到了優先取向的影響。
·MS. Reflex QPA
利用粉末衍射資料及Rietveld方法進行定量相分析的強大工具，可以透過多相樣品的粉末衍射圖判定不同組成成分相對比例的。用於化學品或醫藥工業中有機或無機材料組成成分的確定。
量子力學
·MS.DMol3
獨特的密度泛函（DFT）量子力學程式，是唯一可以模擬氣相、溶液、表面及固體等過程及性質的商業化量子力學程式，應用於化學、材料、化工、固體物理等許多領域。可用於研究均相催化、多相催化、半導體、分子反應等，也可預測諸如溶解度、蒸氣壓、配分函式、溶解熱、混合熱等性質。可計算能帶結構、態密度。基於內座標的演算法強健高效，支援平行計算。MS4.0版本中加入了更方便的自旋極化設定，可用於計算磁性體系。4.0版本起還可以進行動力學計算。
·MS.CASTEP
先進的量子力學程式，廣泛應用於陶瓷、半導體以及金屬等多種材料。可研究：晶體材料的性質（半導體、陶瓷、金屬、分子篩等）、表面和表面重構的性質、表面化學、電子結構（能帶及態密度、聲子譜）、晶體的光學性質、點缺陷性質（如空位、間隙或取代摻雜）、擴充套件缺陷（晶粒間界、位錯）、成分無序等。可顯示體系的三維電荷密度及波函式、模擬STM影象、計算電荷差分密度。MS4.0版本中加入了更方便的自旋極化設定，可用於計算磁性體系。4.0版本起還可以計算固體材料的紅外光譜。
·MS.NMR CASTEP
透過第一原理DFT理論預測NMR化學位移和電場梯度張量。方法適於計算包括有機分子、陶瓷和半導體在內的眾多型別材料的分子、固體、表面的NMR位移。
·MS.VAMP
半經驗的分子軌道程式，適用於有機和無機的分子體系。可快速計算分子的多種物理和化學性質，其計算的速度和精度介於基於力場的分子力學方法和量子力學的第一原理方法。快速的VAMP程式可以為DFT程式提供了良好的初始結構以便進行精確的結構最佳化。經DFT最佳化好的結構可以用VAMP來計算各種性質和光譜。VAMP還可以向分子動力學模擬提供引數。MS4.0 版本引入了ZINDO哈密爾敦函式，可計算包含過渡金屬的有機金屬體系的紫外光譜。