能發射鐳射的裝置。1954年製成了第一臺微波量子放大器，獲得了高度相干的微波束。1958年A.L.肖洛和C.H.湯斯把微波量子放大器原理推廣應用到光頻範圍，並指出了產生鐳射的方法。1960年T.H.梅曼等人制成了第一臺紅寶石鐳射器。1961年A.賈文等人制成了氦氖鐳射器。1962年R.N.霍耳等人創制了砷化鎵半導體鐳射器。以後，鐳射器的種類就越來越多。按工作介質分，鐳射器可分為氣體鐳射器、固體鐳射器、半導體鐳射器和染料鐳射器4大類。近來還發展了自由電子鐳射器，其工作介質是在週期性磁場中運動的高速電子束，鐳射波長可覆蓋從微波到X射線的廣闊波段。按工作方式分，有連續式、脈衝式、調Q和超短脈衝式等幾類。大功率鐳射器通常都是脈衝式輸出。各種不同種類的鐳射器所發射的鐳射波長已達數千種，最長的波長為微波波段的0.7毫米，最短波長為遠紫外區的210埃，X射線波段的鐳射器也正在研究中。除自由電子鐳射器外，各種鐳射器的基本工作原理均相同，裝置的必不可少的組成部分包括激勵（或抽運）、具有亞穩態能級的工作介質和諧振腔（ 見光學諧振腔）3部分。激勵是工作介質吸收外來能量後激發到激發態，為實現並維持粒子數反轉創造條件。激勵方式有光學激勵、電激勵、化學激勵和核能激勵等。工作介質具有亞穩能級是使受激輻射占主導地位，從而實現光放大。諧振腔可使腔內的光子有一致的頻率、相位和執行方向，從而使鐳射具有良好的定向性和相干性。1鐳射工作物質 是指用來實現粒子數反轉併產生光的受激輻射放大作用的物質體系，有時也稱為鐳射增益媒質，它們可以是固體（晶體、玻璃）、氣體（原子氣體、離子氣體、分子氣體）、半導體和液體等媒質。對鐳射工作物質的主要要求，是儘可能在其工作粒子的特定能級間實現較大程度的粒子數反轉，並使這種反轉在整個鐳射發射作用過程中儘可能有效地保持下去；為此，要求工作物質具有合適的能級結構和躍遷特性。 2激勵(泵浦)系統 是指為使鐳射工作物質實現並維持粒子數反轉而提供能量來源的機構或裝置。根據工作物質和鐳射器運轉條件的不同，可以採取不同的激勵方式和激勵裝置，常見的有以下四種。①光學激勵(光泵)。是利用外界光源發出的光來輻照工作物質以實現粒子數反轉的，整個激勵裝置，通常是由氣體放電光源（如氙燈、氪燈）和聚光器組成。②氣體放電激勵。是利用在氣體工作物質內發生的氣體放電過程來實現粒子數反轉的，整個激勵裝置通常由放電電極和放電電源組成。③化學激勵。是利用在工作物質內部發生的化學反應過程來實現粒子數反轉的，通常要求有適當的化學反應物和相應的引發措施。④核能激勵。是利用小型核裂變反應所產生的裂變碎片、高能粒子或放射線來激勵工作物質並實現粒子數反轉的。 3光學共振腔 通常是由具有一定幾何形狀和光學反射特性的兩塊反射鏡按特定的方式組合而成。作用為：①提供光學反饋能力，使受激輻射光子在腔內多次往返以形成相干的持續振盪。②對腔內往返振盪光束的方向和頻率進行限制，以保證輸出鐳射具有一定的定向性和單色性。共振腔作用①，是由通常組成腔的兩個反射鏡的幾何形狀（反射面曲率半徑）和相對組合方式所決定；而作用②，則是由給定共振腔型對腔內不同行進方向和不同頻率的光，具有不同的選擇性損耗特性所決定的。分類 鐳射器的種類是很多的。下面，將分別從鐳射工作物質、激勵方式、運轉方式、輸出波長範圍等幾個方面進行分類介紹。 4按工作物質分類 根據工作物質物態的不同可把所有的鐳射器分為以下幾大類：①固體（晶體和玻璃）鐳射器，這類鐳射器所採用的工作物質，是透過把能夠產生受激輻射作用的金屬離子摻入晶體或玻璃基質中構成發光中心而製成的；②氣體鐳射器，它們所採用的工作物質是氣體，並且根據氣體中真正產生受激發射作用之工作粒子性質的不同，而進一步區分為原子氣體鐳射器、離子氣體鐳射器、分子氣體鐳射器、準分子氣體鐳射器等；③液體鐳射器，這類鐳射器所採用的工作物質主要包括兩類，一類是有機熒光染料溶液，另一類是含有稀土金屬離子的無機化合物溶液,其中金屬離子（如Nd）起工作粒子作用，而無機化合物液體（如SeOCl）則起基質的作用；④半導體鐳射器，這類鐳射器是以一定的半導體材料作工作物質而產生受激發射作用，其原理是透過一定的激勵方式(電注入、光泵或高能電子束注入)，在半導體物質的能帶之間或能帶與雜質能級之間，透過激發非平衡載流子而實現粒子數反轉，從而產生光的受激發射作用；⑤自由電子鐳射器，這是一種特殊型別的新型鐳射器，工作物質為在空間週期變化磁場中高速運動的定向自由電子束，只要改變自由電子束的速度就可產生可調諧的相干電磁輻射，原則上其相干輻射譜可從X射線波段過渡到微波區域，因此具有很誘人的前景。5按激勵方式分類 ①光泵式鐳射器。指以光泵方式激勵的鐳射器，包括幾乎是全部的固體鐳射器和液體鐳射器，以及少數氣體鐳射器和半導體鐳射器。②電激勵式鐳射器。大部分氣體鐳射器均是採用氣體放電（直流放電、交流放電、脈衝放電、電子束注入）方式進行激勵，而一般常見的半導體鐳射器多是採用結電流注入方式進行激勵，某些半導體鐳射器亦可採用高能電子束注入方式激勵。③化學鐳射器。這是專門指利用化學反應釋放的能量對工作物質進行激勵的鐳射器，反希望產生的化學反應可分別採用光照引發、放電引發、化學引發。④核泵浦鐳射器。指專門利用小型核裂變反應所釋放出的能量來激勵工作物質的一類特種鐳射器，如核泵浦氦氬鐳射器等。 6按運轉方式分類 由於鐳射器所採用的工作物質、激勵方式以及應用目的的不同，其運轉方式和工作狀態亦相應有所不同，從而可區分為以下幾種主要的型別。①連續鐳射器，其工作特點是工作物質的激勵和相應的鐳射輸出，可以在一段較長的時間範圍內以連續方式持續進行，以連續光源激勵的固體鐳射器和以連續電激勵方式工作的氣體鐳射器及半導體鐳射器，均屬此類。由於連續運轉過程中往往不可避免地產生器件的過熱效應，因此多數需採取適當的冷卻措施。②單次脈衝鐳射器，對這類鐳射器而言，工作物質的激勵和相應的鐳射發射，從時間上來說均是一個單次脈衝過程，一般的固體鐳射器、液體鐳射器以及某些特殊的氣體鐳射器，均採用此方式運轉，此時器件的熱效應可以忽略，故可以不採取特殊的冷卻措施。③重複脈衝鐳射器，這類器件的特點是其輸出為一系列的重複鐳射脈衝，為此，器件可相應以重複脈衝的方式激勵，或以連續方式進行激勵但以一定方式調製鐳射振盪過程,以獲得重複脈衝鐳射輸出,通常亦要求對器件採取有效的冷卻措施。④調鐳射器,這是專門指採用一定的開關技術以獲得較高輸出功率的脈衝鐳射器，其工作原理是在工作物質的粒子數反轉狀態形成後並不使其產生鐳射振盪 (開關處於關閉狀態)，待粒子數積累到足夠高的程度後，突然瞬時開啟 開關，從而可在較短的時間內（例如10～10秒）形成十分強的鐳射振盪和高功率脈衝鐳射輸出（見技術"" class=link>鐳射調 技術）。⑤鎖模鐳射器，這是一類採用鎖模技術的特殊型別鐳射器，其工作特點是由共振腔內不同縱向模式之間有確定的相位關係，因此可獲得一系列在時間上來看是等間隔的鐳射超短脈衝（脈寬10～10秒）序列，若進一步採用特殊的快速光開關技術，還可以從上述脈衝序列中選擇出單一的超短鐳射脈衝（見鐳射鎖模技術）。⑥單模和穩頻鐳射器，單模鐳射器是指在採用一定的限模技術後處於單橫模或單縱模狀態運轉的鐳射器，穩頻鐳射器是指採用一定的自動控制措施使鐳射器輸出波長或頻率穩定在一定精度範圍內的特殊鐳射器件，在某些情況下，還可以製成既是單模運轉又具有頻率自動穩定控制能力的特種鐳射器件（見鐳射穩頻技術）。⑦可調諧鐳射器，在一般情況下，鐳射器的輸出波長是固定不變的，但採用特殊的調諧技術後，使得某些鐳射器的輸出鐳射波長，可在一定的範圍內連續可控地發生變化，這一類鐳射器稱為可調諧鐳射器（見鐳射調諧技術）。7按輸出波段範圍分類 根據輸出鐳射波長範圍之不同，可將各類鐳射器區分為以下幾種。①遠紅外鐳射器，輸出波長範圍處於25～1000微米之間, 某些分子氣體鐳射器以及自由電子鐳射器的鐳射輸出即落入這一區域。②中紅外鐳射器，指輸出鐳射波長處於中紅外區(2.5～25微米)的鐳射器件,代表者為CO分子氣體鐳射器(10.6微米)、 CO分子氣體鐳射器（5～6微米）。③近紅外鐳射器,指輸出鐳射波長處於近紅外區（0.75～2.5微米）的鐳射器件，代表者為摻釹固體鐳射器（1.06微米）、CaAs半導體二極體鐳射器(約 0.8微米)和某些氣體鐳射器等。④可見鐳射器，指輸出鐳射波長處於可見光譜區（4000～7000埃或0.4～0.7微米）的一類鐳射器件，代表者為紅寶石鐳射器（6943埃）、 氦氖鐳射器（6328埃）、氬離子鐳射器（4880埃、5145埃）、氪離子鐳射器（4762埃、5208埃、5682埃、6471埃）以及一些可調諧染料鐳射器等。⑤近紫外鐳射器，其輸出鐳射波長範圍處於近紫外光譜區（2000～4000埃），代表者為氮分子鐳射器(3371埃)氟化氙(XeF)準分子鐳射器（3511埃、3531埃）、 氟化氪(KrF)準分子鐳射器(2490埃)以及某些可調諧染料鐳射器等⑥真空紫外鐳射器,其輸出鐳射波長範圍處於真空紫外光譜區(50～2000埃）代表者為（H）分子鐳射器 (1644～1098埃)、氙(Xe)準分子鐳射器（1730埃）等。⑦X射線鐳射器, 指輸出波長處於X射線譜區（0.01～50埃）的鐳射器系統，目前軟X 射線已研製成功，但仍處於探索階段8鐳射器的進展及其應用鐳射器的發明是20世紀科學技術的一項重大成就。它使人們終於有能力駕駛尺度極小、數量極大、運動極混亂的分子和原子的發光過程，從而獲得產生、放大相干的紅外線、可見光線和紫外線（以至X射線和γ射線）的能力。鐳射科學技術的興起使人類對光的認識和利用達到了一個嶄新的水平。 由於鐳射器具備的種種突出特點，因而被很快運用於工業、農業、精密測量和探測、通訊與資訊處理、醫療、軍事等各方面，並在許多領域引起了革命性的突破。比如，人們利用鐳射集中而極高的能量，可以對各種材料進行加工，能夠做到在一個針頭上鑽200個孔；鐳射作為一種在生物機體上引起刺激、變異、燒灼、汽化等效應的手段，已在醫療、農業的實際應用上取得了良好效果；在通訊領域，一條用鐳射柱傳送訊號的光導電纜，可以攜帶相當於2萬根電話銅線所攜帶的資訊量；鐳射在軍事上除用於通訊、夜視、預警、測距等方面外，多種鐳射武器和鐳射制導武器也已經投入實用。 今後，隨著人類對鐳射技術的進一步研究和發展，鐳射器的效能和成本將進一步降低，但是它的應用範圍卻還將繼續擴大，並將發揮出越來越巨大的作用。
能發射鐳射的裝置。1954年製成了第一臺微波量子放大器，獲得了高度相干的微波束。1958年A.L.肖洛和C.H.湯斯把微波量子放大器原理推廣應用到光頻範圍，並指出了產生鐳射的方法。1960年T.H.梅曼等人制成了第一臺紅寶石鐳射器。1961年A.賈文等人制成了氦氖鐳射器。1962年R.N.霍耳等人創制了砷化鎵半導體鐳射器。以後，鐳射器的種類就越來越多。按工作介質分，鐳射器可分為氣體鐳射器、固體鐳射器、半導體鐳射器和染料鐳射器4大類。近來還發展了自由電子鐳射器，其工作介質是在週期性磁場中運動的高速電子束，鐳射波長可覆蓋從微波到X射線的廣闊波段。按工作方式分，有連續式、脈衝式、調Q和超短脈衝式等幾類。大功率鐳射器通常都是脈衝式輸出。各種不同種類的鐳射器所發射的鐳射波長已達數千種，最長的波長為微波波段的0.7毫米，最短波長為遠紫外區的210埃，X射線波段的鐳射器也正在研究中。除自由電子鐳射器外，各種鐳射器的基本工作原理均相同，裝置的必不可少的組成部分包括激勵（或抽運）、具有亞穩態能級的工作介質和諧振腔（ 見光學諧振腔）3部分。激勵是工作介質吸收外來能量後激發到激發態，為實現並維持粒子數反轉創造條件。激勵方式有光學激勵、電激勵、化學激勵和核能激勵等。工作介質具有亞穩能級是使受激輻射占主導地位，從而實現光放大。諧振腔可使腔內的光子有一致的頻率、相位和執行方向，從而使鐳射具有良好的定向性和相干性。1鐳射工作物質 是指用來實現粒子數反轉併產生光的受激輻射放大作用的物質體系，有時也稱為鐳射增益媒質，它們可以是固體（晶體、玻璃）、氣體（原子氣體、離子氣體、分子氣體）、半導體和液體等媒質。對鐳射工作物質的主要要求，是儘可能在其工作粒子的特定能級間實現較大程度的粒子數反轉，並使這種反轉在整個鐳射發射作用過程中儘可能有效地保持下去；為此，要求工作物質具有合適的能級結構和躍遷特性。 2激勵(泵浦)系統 是指為使鐳射工作物質實現並維持粒子數反轉而提供能量來源的機構或裝置。根據工作物質和鐳射器運轉條件的不同，可以採取不同的激勵方式和激勵裝置，常見的有以下四種。①光學激勵(光泵)。是利用外界光源發出的光來輻照工作物質以實現粒子數反轉的，整個激勵裝置，通常是由氣體放電光源（如氙燈、氪燈）和聚光器組成。②氣體放電激勵。是利用在氣體工作物質內發生的氣體放電過程來實現粒子數反轉的，整個激勵裝置通常由放電電極和放電電源組成。③化學激勵。是利用在工作物質內部發生的化學反應過程來實現粒子數反轉的，通常要求有適當的化學反應物和相應的引發措施。④核能激勵。是利用小型核裂變反應所產生的裂變碎片、高能粒子或放射線來激勵工作物質並實現粒子數反轉的。 3光學共振腔 通常是由具有一定幾何形狀和光學反射特性的兩塊反射鏡按特定的方式組合而成。作用為：①提供光學反饋能力，使受激輻射光子在腔內多次往返以形成相干的持續振盪。②對腔內往返振盪光束的方向和頻率進行限制，以保證輸出鐳射具有一定的定向性和單色性。共振腔作用①，是由通常組成腔的兩個反射鏡的幾何形狀（反射面曲率半徑）和相對組合方式所決定；而作用②，則是由給定共振腔型對腔內不同行進方向和不同頻率的光，具有不同的選擇性損耗特性所決定的。分類 鐳射器的種類是很多的。下面，將分別從鐳射工作物質、激勵方式、運轉方式、輸出波長範圍等幾個方面進行分類介紹。 4按工作物質分類 根據工作物質物態的不同可把所有的鐳射器分為以下幾大類：①固體（晶體和玻璃）鐳射器，這類鐳射器所採用的工作物質，是透過把能夠產生受激輻射作用的金屬離子摻入晶體或玻璃基質中構成發光中心而製成的；②氣體鐳射器，它們所採用的工作物質是氣體，並且根據氣體中真正產生受激發射作用之工作粒子性質的不同，而進一步區分為原子氣體鐳射器、離子氣體鐳射器、分子氣體鐳射器、準分子氣體鐳射器等；③液體鐳射器，這類鐳射器所採用的工作物質主要包括兩類，一類是有機熒光染料溶液，另一類是含有稀土金屬離子的無機化合物溶液,其中金屬離子（如Nd）起工作粒子作用，而無機化合物液體（如SeOCl）則起基質的作用；④半導體鐳射器，這類鐳射器是以一定的半導體材料作工作物質而產生受激發射作用，其原理是透過一定的激勵方式(電注入、光泵或高能電子束注入)，在半導體物質的能帶之間或能帶與雜質能級之間，透過激發非平衡載流子而實現粒子數反轉，從而產生光的受激發射作用；⑤自由電子鐳射器，這是一種特殊型別的新型鐳射器，工作物質為在空間週期變化磁場中高速運動的定向自由電子束，只要改變自由電子束的速度就可產生可調諧的相干電磁輻射，原則上其相干輻射譜可從X射線波段過渡到微波區域，因此具有很誘人的前景。5按激勵方式分類 ①光泵式鐳射器。指以光泵方式激勵的鐳射器，包括幾乎是全部的固體鐳射器和液體鐳射器，以及少數氣體鐳射器和半導體鐳射器。②電激勵式鐳射器。大部分氣體鐳射器均是採用氣體放電（直流放電、交流放電、脈衝放電、電子束注入）方式進行激勵，而一般常見的半導體鐳射器多是採用結電流注入方式進行激勵，某些半導體鐳射器亦可採用高能電子束注入方式激勵。③化學鐳射器。這是專門指利用化學反應釋放的能量對工作物質進行激勵的鐳射器，反希望產生的化學反應可分別採用光照引發、放電引發、化學引發。④核泵浦鐳射器。指專門利用小型核裂變反應所釋放出的能量來激勵工作物質的一類特種鐳射器，如核泵浦氦氬鐳射器等。 6按運轉方式分類 由於鐳射器所採用的工作物質、激勵方式以及應用目的的不同，其運轉方式和工作狀態亦相應有所不同，從而可區分為以下幾種主要的型別。①連續鐳射器，其工作特點是工作物質的激勵和相應的鐳射輸出，可以在一段較長的時間範圍內以連續方式持續進行，以連續光源激勵的固體鐳射器和以連續電激勵方式工作的氣體鐳射器及半導體鐳射器，均屬此類。由於連續運轉過程中往往不可避免地產生器件的過熱效應，因此多數需採取適當的冷卻措施。②單次脈衝鐳射器，對這類鐳射器而言，工作物質的激勵和相應的鐳射發射，從時間上來說均是一個單次脈衝過程，一般的固體鐳射器、液體鐳射器以及某些特殊的氣體鐳射器，均採用此方式運轉，此時器件的熱效應可以忽略，故可以不採取特殊的冷卻措施。③重複脈衝鐳射器，這類器件的特點是其輸出為一系列的重複鐳射脈衝，為此，器件可相應以重複脈衝的方式激勵，或以連續方式進行激勵但以一定方式調製鐳射振盪過程,以獲得重複脈衝鐳射輸出,通常亦要求對器件採取有效的冷卻措施。④調鐳射器,這是專門指採用一定的開關技術以獲得較高輸出功率的脈衝鐳射器，其工作原理是在工作物質的粒子數反轉狀態形成後並不使其產生鐳射振盪 (開關處於關閉狀態)，待粒子數積累到足夠高的程度後，突然瞬時開啟 開關，從而可在較短的時間內（例如10～10秒）形成十分強的鐳射振盪和高功率脈衝鐳射輸出（見技術"" class=link>鐳射調 技術）。⑤鎖模鐳射器，這是一類採用鎖模技術的特殊型別鐳射器，其工作特點是由共振腔內不同縱向模式之間有確定的相位關係，因此可獲得一系列在時間上來看是等間隔的鐳射超短脈衝（脈寬10～10秒）序列，若進一步採用特殊的快速光開關技術，還可以從上述脈衝序列中選擇出單一的超短鐳射脈衝（見鐳射鎖模技術）。⑥單模和穩頻鐳射器，單模鐳射器是指在採用一定的限模技術後處於單橫模或單縱模狀態運轉的鐳射器，穩頻鐳射器是指採用一定的自動控制措施使鐳射器輸出波長或頻率穩定在一定精度範圍內的特殊鐳射器件，在某些情況下，還可以製成既是單模運轉又具有頻率自動穩定控制能力的特種鐳射器件（見鐳射穩頻技術）。⑦可調諧鐳射器，在一般情況下，鐳射器的輸出波長是固定不變的，但採用特殊的調諧技術後，使得某些鐳射器的輸出鐳射波長，可在一定的範圍內連續可控地發生變化，這一類鐳射器稱為可調諧鐳射器（見鐳射調諧技術）。7按輸出波段範圍分類 根據輸出鐳射波長範圍之不同，可將各類鐳射器區分為以下幾種。①遠紅外鐳射器，輸出波長範圍處於25～1000微米之間, 某些分子氣體鐳射器以及自由電子鐳射器的鐳射輸出即落入這一區域。②中紅外鐳射器，指輸出鐳射波長處於中紅外區(2.5～25微米)的鐳射器件,代表者為CO分子氣體鐳射器(10.6微米)、 CO分子氣體鐳射器（5～6微米）。③近紅外鐳射器,指輸出鐳射波長處於近紅外區（0.75～2.5微米）的鐳射器件，代表者為摻釹固體鐳射器（1.06微米）、CaAs半導體二極體鐳射器(約 0.8微米)和某些氣體鐳射器等。④可見鐳射器，指輸出鐳射波長處於可見光譜區（4000～7000埃或0.4～0.7微米）的一類鐳射器件，代表者為紅寶石鐳射器（6943埃）、 氦氖鐳射器（6328埃）、氬離子鐳射器（4880埃、5145埃）、氪離子鐳射器（4762埃、5208埃、5682埃、6471埃）以及一些可調諧染料鐳射器等。⑤近紫外鐳射器，其輸出鐳射波長範圍處於近紫外光譜區（2000～4000埃），代表者為氮分子鐳射器(3371埃)氟化氙(XeF)準分子鐳射器（3511埃、3531埃）、 氟化氪(KrF)準分子鐳射器(2490埃)以及某些可調諧染料鐳射器等⑥真空紫外鐳射器,其輸出鐳射波長範圍處於真空紫外光譜區(50～2000埃）代表者為（H）分子鐳射器 (1644～1098埃)、氙(Xe)準分子鐳射器（1730埃）等。⑦X射線鐳射器, 指輸出波長處於X射線譜區（0.01～50埃）的鐳射器系統，目前軟X 射線已研製成功，但仍處於探索階段8鐳射器的進展及其應用鐳射器的發明是20世紀科學技術的一項重大成就。它使人們終於有能力駕駛尺度極小、數量極大、運動極混亂的分子和原子的發光過程，從而獲得產生、放大相干的紅外線、可見光線和紫外線（以至X射線和γ射線）的能力。鐳射科學技術的興起使人類對光的認識和利用達到了一個嶄新的水平。 由於鐳射器具備的種種突出特點，因而被很快運用於工業、農業、精密測量和探測、通訊與資訊處理、醫療、軍事等各方面，並在許多領域引起了革命性的突破。比如，人們利用鐳射集中而極高的能量，可以對各種材料進行加工，能夠做到在一個針頭上鑽200個孔；鐳射作為一種在生物機體上引起刺激、變異、燒灼、汽化等效應的手段，已在醫療、農業的實際應用上取得了良好效果；在通訊領域，一條用鐳射柱傳送訊號的光導電纜，可以攜帶相當於2萬根電話銅線所攜帶的資訊量；鐳射在軍事上除用於通訊、夜視、預警、測距等方面外，多種鐳射武器和鐳射制導武器也已經投入實用。 今後，隨著人類對鐳射技術的進一步研究和發展，鐳射器的效能和成本將進一步降低，但是它的應用範圍卻還將繼續擴大，並將發揮出越來越巨大的作用。