基礎研究要，實用機器也要。這樣才能齊頭並進，加快發展。再說中國不是沒人才，是如何公平公正，發揮人才主動能動性。各人在學校唸的專業就不一樣。政府單位要培養關照他她們。不能讓某些小人因妒忌埋沒他她們。

不要等別人卡脖子的時候才想起人才問題，培養人才，出人才也不是短期見效的，即使有人才也得有配套執行機制去調動人的積極性。

先搞光刻機，這是人們當前需求和必要用的，對撞機是研究人類不知的未知的原子，是人類不先急用的，我贊同先搞光刻機。

搞光刻機的人不會研究對撞機，反之，研究對撞機的人不去搞光刻機。兩個領域，兩個部門，兩批人馬，各行其事，各司其職。

光刻機砸錢也不行，主要是人家已經申請了無數的專利，你幾乎無路可走，所以急也沒用，只能慢慢找新辦法，或者等人家的專利過期以後再做

當然選擇光刻機！對撞機技術成熟，只是錢的問題，而在中國錢從來不是什麼問題！但光刻機不同，是人類造物的巔峰成就，不是有錢就能搞定的！

一臺頂級的EUV光刻機有3萬多個零件，13個系統組成，而且對誤差要求非常之高，精工王者的日本也不能搞定，最先進的EUV光刻機只有荷蘭能夠生產。

目前中國最先進的光刻機來自於上海微電子，量產90nm製程工藝的光刻機，而荷蘭ASML的光刻機可以實現5nm製程工藝，有至少15年~20年的差距。中國的中芯國際早在2018年就成功預訂了一臺荷蘭ASML的光刻機，然而受到了西方國家的各方面的“阻力”，至今未收到這臺光刻機。

不管是高精尖領域，還是我們日常的生活領域，都離不開電子裝置，這些裝置中，晶片作為最重要的組成部分，是不可缺少的，雖說90nm能滿足一些場景，但是高階領域90nm的晶片根本就不夠看的，就不用說未來科技應用領域了。

沒有高階光刻機，自主生產高階晶片就是黃粱美夢，國家科技發展也將受制於人，所以當下，國家在光刻機制造技術上是非常非常重視的，因為這關係到整個基礎科學體系的發展。在未來科技競爭中，光刻機、晶片製造能力絕對是關鍵所在。

楊振寧先生一直致力於推動中國基礎物理學科的研究，但一直是反對建造對撞機的，網友們對是否建造對撞機也都有所討論，但相比於光刻機來說，對撞機的重要性已不足為道了。與其將上千億的資金，投入到對撞機的建造上，還不如投錢解決當下卡脖子的問題。

如果二選一的話，不管是從重要性還是需求緊急性上來說，對撞機根本無法跟光刻機相提並論。