磁控濺射鍍膜是種新型的物理氣相鍍膜方式，就是用電子槍系統把電子發射並聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片澱積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。
濺射靶材作為常用的鍍膜材料主要應用於電子及資訊產業，如積體電路、資訊儲存、液晶顯示屏、鐳射儲存器、電子控制器件等，亦可應用於玻璃鍍膜域，還可以應用於耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。利用濺射靶材製備的各種型別的濺射薄膜材料無論在半導體積體電路、太陽能光伏、記錄介質、平面顯示以及工件表面塗層等方面都得到了廣泛的應用，具體應用產業如下:
1、資訊儲存產業
隨著IT產業的不斷髮展，世界對記錄介質的需求量越來越大。記錄介質用靶材研究與生產成為大熱點。在資訊儲存產業中，使用濺射靶材製備的相關薄膜產品有硬碟、磁頭光碟等。製造這些資料儲存產品，需要使用具有殊結晶性與殊成分的高品質靶材常用的有鈷、鉻、碳、鎳、鐵、貴金屬、稀有金屬介質材料等。
2、積體電路產業
積體電路用靶材在球靶材市場佔較大份額.其濺射產品主要包括電互連線膜阻擋層薄膜、接觸薄膜光碟掩膜、電容器電膜、電阻薄膜等。其中薄膜電阻器是薄膜混合積體電路中用量多的元件.而電阻薄膜用靶材中Ni- Cr 合金的用量很大。
3、平面顯示器產業
平面顯示器產業包括：液晶顯示(LCD)、等離子體顯示器(PDP)、場致發光顯示器(E-L)、場發射顯示器(FED)。目前在平面顯示器市場中以液晶顯示(LCD)為主，廣泛應用於膝上型電腦顯示器、臺式電腦監視器到高畫質晰電視。目前，平面顯示器的薄膜多采用濺射成形。濺射用靶材主要有In2O3、SnO2、MgO、w、Mo、Ni、Cu、Cr等。
濺射靶材的產業鏈為：金屬提純—靶材製造—濺射鍍膜—終應用，其中超高純度靶材是濺射靶材的基礎，靶材製造和濺射鍍膜是關鍵的兩個環節。瞭解了濺射靶材的用途之後我們在來看看它的分類都有哪些？
三、濺射靶材分類
濺射靶材有很多分類，根據用途不同可分為半導體關聯陶瓷靶材、記錄介質陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等，根據應用域又分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電靶材、封裝靶材、其他靶材等
磁控濺射鍍膜是種新型的物理氣相鍍膜方式，就是用電子槍系統把電子發射並聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片澱積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。
濺射靶材作為常用的鍍膜材料主要應用於電子及資訊產業，如積體電路、資訊儲存、液晶顯示屏、鐳射儲存器、電子控制器件等，亦可應用於玻璃鍍膜域，還可以應用於耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。利用濺射靶材製備的各種型別的濺射薄膜材料無論在半導體積體電路、太陽能光伏、記錄介質、平面顯示以及工件表面塗層等方面都得到了廣泛的應用，具體應用產業如下:
1、資訊儲存產業
隨著IT產業的不斷髮展，世界對記錄介質的需求量越來越大。記錄介質用靶材研究與生產成為大熱點。在資訊儲存產業中，使用濺射靶材製備的相關薄膜產品有硬碟、磁頭光碟等。製造這些資料儲存產品，需要使用具有殊結晶性與殊成分的高品質靶材常用的有鈷、鉻、碳、鎳、鐵、貴金屬、稀有金屬介質材料等。
2、積體電路產業
積體電路用靶材在球靶材市場佔較大份額.其濺射產品主要包括電互連線膜阻擋層薄膜、接觸薄膜光碟掩膜、電容器電膜、電阻薄膜等。其中薄膜電阻器是薄膜混合積體電路中用量多的元件.而電阻薄膜用靶材中Ni- Cr 合金的用量很大。
3、平面顯示器產業
平面顯示器產業包括：液晶顯示(LCD)、等離子體顯示器(PDP)、場致發光顯示器(E-L)、場發射顯示器(FED)。目前在平面顯示器市場中以液晶顯示(LCD)為主，廣泛應用於膝上型電腦顯示器、臺式電腦監視器到高畫質晰電視。目前，平面顯示器的薄膜多采用濺射成形。濺射用靶材主要有In2O3、SnO2、MgO、w、Mo、Ni、Cu、Cr等。
濺射靶材的產業鏈為：金屬提純—靶材製造—濺射鍍膜—終應用，其中超高純度靶材是濺射靶材的基礎，靶材製造和濺射鍍膜是關鍵的兩個環節。瞭解了濺射靶材的用途之後我們在來看看它的分類都有哪些？
三、濺射靶材分類
濺射靶材有很多分類，根據用途不同可分為半導體關聯陶瓷靶材、記錄介質陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等，根據應用域又分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電靶材、封裝靶材、其他靶材等