美國應該是有這個製造的潛在能力的，但它沒必要花費鉅額資金和精力去搞，荷蘭阿斯麥爾公司（ASML）是世界上目前唯一能夠製造最高階刻光機的廠家，美國為此提供了超過10000多個零配件，約佔整個零配件的25%，而且美國資本本身就是該廠家的股東之一。

美國作為全球科技創新能力最強的，並不是意味著所有高科技產品都需要自己製造，它可以通過對其他發達國家廠家的智慧財產權、技術、資本等入股的形式實現，而且它又是西方世界的“大哥”，對技術壟斷形成封鎖。高階光刻機技術並不是美國的，而是集合了西方主要發達國家的共同技術結晶誕生的。

因此，中芯國際曾經打算1.2億美元購買荷蘭阿斯麥爾生產的頂尖光刻機，在已經排隊等待數年後還是因為美國的出手而被迫暫停了。其實，也不僅僅是在光刻機方面對我們進行限制，西方整個的領先技術長期都是向我們封鎖的，軍用技術領域就更是不在話下，但我們靠自力更生也取得了不小的突破性成績。不過這種高精尖的技術想要取得重大突破絕不是短期內能夠解決的。

美國幾乎沒有光刻機制造商，連光刻機制造第三梯隊都未必進的去

美國擁有全球最全的半導體研發生態，擁有最多的半導體技術，但是卻幾乎沒有光刻機制造商！

難道美國放棄了光刻機制造領域嗎？

當然沒有！

美國掌控了眾多光刻機制造所需的半導體技術和半導體裝置，而且美企英特爾還持股了荷蘭阿斯麥ASML15%的股份！

英特爾、臺積電、三星均於2012年投資了阿斯麥ASML，成為了ASML的股東，分別持股15%、5%、3%，享有阿斯麥ASML先進光刻機的優先採購權！

2018年，中芯國際向ASML訂購了一臺EUV極紫外光刻機，採購價1.2億美元，遲遲未曾收到貨！

美國不缺光刻機供應，所以沒有咱們國家那麼急切地想要研製光刻機！

不過，即使美國傾盡全力，大概率也只能進入光刻機制造領域的第二梯隊，打造不出第二個ASML阿斯麥！

……

在全球光刻機市場，阿斯麥ASML是唯一一家掌控EUV極紫外光刻機的，壟斷了100%的高階市場；

尼康和佳能掌控了部分中端光刻機市場，而且已經宣佈放棄研製EUV極紫外光刻機！

咱們國家最先進的光刻機制造商是上海微電子，上海微電子生產的光刻機暫時只能用於代工90nm製程的晶片，屬於全球光刻機市場的第三梯隊，是全球低端光刻機領域的重要玩家！

多年前，很多歐美的半導體大牛說過，即使給咱們光刻機制造圖紙，咱們也搞不定？！

可咱們中國人是不屈不饒的，上海微電子也是爭氣啊，終於搞定了光刻機，驚掉了歐美一地下巴！

不過，上海微電子距離阿斯麥ASML，至少還有10-20年的差距，任重道遠！

……

其實美國現在以一己之力，基本上什麼都造不出來了，包括飛機，大炮和航母。但他是武林盟主啊，其他國家的東西(包括中國)，就是他的東西，隨用隨取。

沒有歐洲核子物理中心的建造，就不會帶動一批歐洲頂尖裝備製造業的登峰造極之作。光刻機只是歐洲一體化，科技合作產物，單獨一個荷蘭，它是搞不定的，歐洲一體化申根協定的簽署，讓歐洲的人財物的流通達到空前發展，產業配套、人才流動，為荷蘭阿斯邁稱霸全球光刻機制造墊定基礎。美中國人可不是成人之美的，技術上，它不會真心幫助歐洲，必須有所保留，阿斯邁的成功應該講是東亞的韓日臺與歐洲的合作產生，而美中國人，就是華爾街金融巨頭投資了這一合作分配。美中國人並不聰明伶俐，但善於管理，投資，從全球招募人才，收購技術。這為它保持霸權也起到決定性作用。

光刻機對於美國沒有多少難度，但是5奈米光刻機對於美國來說有難度的，單獨研製美國肯定也會耗費大量的人力財力還有時間才有可能突破，和我們現在一樣，我們可以單獨研發14奈米的光刻機，美國也一樣可以，我們可以有信心突破7奈米的光刻機研發，以美國的科技實力也應該可以，5奈米有難度，科技進步加上大量精力花費應該也可以，只是不知道什麼時候可以而已。

以美國的科技實力造出來應該是沒問題的。但美國不需要耗時耗力的去單獨製造，因為無論是配件還是整機，美國隨時都可以買到。那些東西都是美國的盟國製造的。所以美國的強大不僅僅是因為它個體的強大。還因為他同盟的強大。世界上所有的發達國家幾乎都是它的同盟，這一點也是任何與美國對抗的國家沒法比的。美國代表的是整個西方和發達國家。儘管它和一些西方國家也有一些矛盾，但只是一些內部矛盾，關鍵問題上他們還是保持一致的。

另外，最早的光刻機各種原理原型也是來自米國，比如:接觸式，接近式，投影式，圖形發射器，電子束，離子束，鐳射等等。要知道這麼多光刻機原型都來自米國，米國自然有製造光刻機的實力。只不過受制於無法自產高階鏡頭模組，米國現階段無法制造出先進的極紫外EUV光刻機而已。但是像90納米制程，28納米制程的光刻機還是可以製造出來的。米國可以製造出光刻機，但是現在完全沒有必要自己獨立製造。米國可以依靠強大的軍力，美元霸權地位，先進的科技來確保自己不會受制於人，歐洲各國也不敢反抗。所以說，米國只要保證有專利，制定標準，裝置應用於光刻機就行，根本沒必要獨立研發先進的光刻機。