中國產光刻機量產機型可實現90nm製程工藝，但是近期傳來好訊息今年年將下線28nm節點浸沒式光刻機，同時該光刻機通過多重曝光可生產11nm製程晶片，如果更換精度更高的套件可生產製程更高的晶片。

最先進量產機型為90nm製程，只能用於低端領域代工

目前國內生產光刻機的廠商很多，但最先進的上海微電子，能量產90nm光刻機，具體型號為 SSA600/20，屬於IC前道光刻機，可用於8寸線或12寸線生產線的大規模生產。量產機型從技術角度上來說只是低端光刻機，遠不如荷蘭ASML光刻機，即便是日系廠商尼康、佳能的光刻機也比我們強。

這樣的光刻機現階段只能用於一些對製程要求不高的晶片生產，如果想供貨給中芯等代工廠生產製程先進的晶片是不行的，即便是麒麟710A這樣的低端手機晶片也無法生產。

在十三五規劃中有一項科技領域的標誌性專案，也就是研製28nm節點浸沒式光刻機併產業化，這個專案由上海微電子承擔，而今年是十三五規劃的最後一年，這就意味著到今年年底中國光刻機水平將再上一個臺階，雖然和ASML有差距，如果至少可以達到中等水平。

目前業內已經有傳出訊息，這臺最新光刻機具體型號為SSA/800-10W，年末基本可以沒懸念的正式下線。該光刻機採用ArF光源，使用1.9nm套刻精度的工件臺通過多重曝光可實現11nm製程，如果是更高的1.7nm套刻精度最高可實現7nm製程。

結合2019年末上海微電子公開的最新前道光刻機外觀設計專利，基本上可以認為該訊息靠譜。

當然下線並不代表量產，後續還得看穩定性和良品率，正式量產肯定還得有段時間，預估最快也得2021年，晚的話不排除到2022年。

努力追趕荷蘭ASML，中國產EUV光刻機正在研發中

28nm浸沒式光刻機可以讓我們通過多重曝光實現最高7nm製程的工藝，但這和荷蘭ASML最先進的光刻機相比差距不小，人家的EUV光刻機以不需要通過多重曝光就能直接生產7nm，乃至5nm、3nm製程的晶片。

為此，我們研發機構也正在努力研製EUV光刻機，這類光刻機最核心的EUV曝光目前正由長春光機抓緊研發中。

隨著國內半導體產業近期不斷受到打壓，光刻機的重要性愈發的凸顯出，這個晶片生產最重要的裝置，如果我們有自己的先進裝置，整個產業鏈受到美國的干擾就會小很多。

國內最先進的晶片代工廠是中芯國際，可以實現14nm晶片的量產，7nm正在加速研發，華為的中低端晶片可以交付給中芯國際來生產，但是7nm、5nm晶片只能由臺積電生產，目前的問題就在這裡，美國將會全力阻撓臺積電為華為“供貨”。

現在，中芯國際需要更先進的光刻機才能實現更先進晶片的生產，早在2018年中芯國際就向ASML訂購了一臺先進光刻機，售價高達1.2億美元，但是由於多方原因，至今這臺機器都未能運回國內，這也導致中芯國際與臺積電的差距逐漸擴大。

所以，上海微電子作為目前中國唯一的光刻機制造廠商，必須全力支援中芯國際和華為。上海微電子需要加快研發進度，加大科研資金投入力度，擴充科研團隊，全力追趕ASML，努力縮小差距，最終還要超過ASML。目前，中國擁有全球最大的半導體市場，也有大量的資金，還需要大力度引進行業頂尖人才，各方面發力研製中國產頂尖光刻機，一舉打破國外技術壟斷。

    中國產光刻機90nm製程工藝，荷蘭ASML光刻機7nm製程工藝，按照專家的說法，至少有15年的差距。製程工藝的差距，主要體現了中國和西方發達國家在精密製造領域的差距。

    目前，光刻機市場幾乎被荷蘭ASML、日本尼康和佳能、上海微電子四家所壟斷。在這裡面又分為三個梯隊，荷蘭ASML壟斷了高階光刻機市場份額，日本尼康和佳能處於中端市場，同時競爭低端市場，而上海微電子只有低端市場。

    上海微電子（SMEE）成立於2002年，成立之初到荷蘭ASML參觀見學，被調侃“即使把圖紙和元件全部給你們，你們也裝配不出來”。上海微電子經過自力更生，硬是打了國外公司的臉，2007年研製成功了90nm製程工藝的光刻機。

    世界最先進的光刻機廠商是荷蘭的ASML，7nm EUV光刻機只有荷蘭ASML能夠生產。中國大陸的晶圓代工廠中芯國際，大部分使用的ASML的高階光刻機，已經量產14nm工藝晶片，突破了N+1、N+2工藝，然而後續的先進製程工藝仍然需要EUV光刻機。中芯國際早在2018年就成功預定了EUV光刻機，然而受到各方面因素的阻撓，至今未收貨。

    從2007年，上海微研製成功90nm製程，至今13年過去了，上海微仍然停留在量產90nm製程工藝光刻機，這是為什麼呢?

    上海微電子與荷蘭ASML光刻機領域的差距，反映了中國和西方發達國家在精密製造領域的差距，一臺頂級的光刻機，90%的關鍵零部件來自不同的發達國家，美國的光源和計量裝置、德國的鏡頭、瑞典的軸承、法國的閥件等等，根據所謂的《瓦森納協定》，這些頂級零部件對中國是禁運的。

    上海微電子是一家系統整合商，自己不生產關鍵零部件，所以做不出22nm以下的高階光刻機，也不是它的責任。訊息稱，上海微電子已經突破了28nm製程工藝的關鍵技術，然而受到供應鏈的影響，量產時間還未確定。

    就目前的形勢而言，只能做好中低端領域，慢慢培養國內供應鏈，逐步向中高階光刻機領域發展。

一般來說，我們會說上海微電子的前道光刻機生產的90nm的工藝是我們目前生產的主要技術，和我們設想的臺積電的5nm工藝確實有一定的差異。

很多人說我們的光刻機技術是被侷限於外國技術的壟斷，所以中國的光刻機發展困難。我的觀點並不認同，中國光刻機技術目前在市場上沒有大的突破，根源應該是我們的起步時間並不高。

我們總結幾個原因：

1.外國技術的限制可能只是前菜，雖然外國技術確實會讓我們難以招架技術的進步，但是我們並不能簡單的認為光刻機技術，一定是受限於外國技術。ASML的成功也確實是因為它能夠每年＞15%的研發投入。

2.ASML技術的不斷髮展，也是因為它拉攏股東，我認為這是核心。因為ASML能夠讓臺積電，英特爾，三星等等企業成為它的股東，這才是ASML能夠成功的核心。

3.合理利用全球化大生產，我們知道ASML能夠合理的利用國際的合理化大生產，能夠不斷的讓最好的技術作用到ASML中。

90nm，中芯國際的14nm是使用的荷蘭ASML的光刻機，除了荷蘭ASML以外，全世界包括中國美國日本在內，都卡在45nm的節點上！

中國晶片產業鏈”：

【上游半導體裝置】

1、刻蝕機：北方華創、中微公司

2、光刻機：上微集團、華卓清科

3、PVD：北方華創

4、CVD：北方華創、中微公司、瀋陽拓荊

5、離子注入：中科信、萬業企業

6、爐管裝置：北方華創、晶盛機電

7、檢測裝置：精測電子、華峰測控、長川科技

8、清洗機：北方華創、至純科技、盛美半導體

9、其他裝置：芯源微、大族鐳射、銳科鐳射

【上游半導體材料】

1、大矽片：滬矽產業、中環股份

2、靶材：江豐電子、阿石創、隆華科技、有研新材

3、高純試劑：上海新陽、江化微、晶瑞股份、巨化股份

4、特種氣體：雅克科技、華特氣體、南大光電

5、拋光材料：安集科技、鼎龍股份

6、光刻膠：南大光電、飛凱材料、容大感光、晶瑞股份

7、其他材料：神工光伏、菲利華、石英股份

【中游代工】華虹半導體、粵芯半導體、華潤微電子

【下游封測】長電科技、通富微電、華天科技、晶方科技、深科技

【下游設計】

1、CPU：中科曙光、瀾起科技、中國長城

2、GPU：景嘉微

3、FPGA：紫光國微、上海復旦

4、指紋識別：匯頂科技、兆易創新

5、攝像頭晶片：韋爾股份、格科微、匯頂科技

6、儲存晶片：兆易創新、國科微、北京君正

7、射頻晶片：卓勝微、三安光電、紫光展瑞

8、數字晶片：晶晨股份、樂鑫科技、瑞芯微、全志科技

9、模擬晶片：聖邦股份、韋爾股份、匯頂科技、

10、功率晶片：斯達半導、士蘭微、捷捷微電、晶豐明源

90奈米，上海微電子的SSA600

希望今年28奈米能突破，不是一個西貝貨，上海微電子SSA800

說7，14奈米的建議多看幾遍教材。。

自從美國加大力度針對華為在晶片上的封鎖之後，大家對於華為的前景也是非常的擔心，那麼在asml不提供光刻機，臺積電也因為種種原因不再為華為提供晶片生產的話，華為該怎麼辦？

目前臺積電關於5nm的晶片客戶就兩家華為和蘋果，如果臺積電加足馬力給華為留出一個月到兩個月的滿負荷生產，那麼華為在未來一到兩年內都是有充足的晶片使用的。不然的話只能依靠中芯國際的努力了，總體的差距還是有的。

很榮幸能夠回答這個問題。近期，因為美國要對華為進行升級打壓，要限制所有給華為代工晶片的公司，在給華為生產晶片時，必須得獲取美國授權。因此，臺積電能不能繼續給華為代工晶片，成了非常關鍵的問題，而中國的中芯國際跟臺積電比還有很大差距，主要原因就是沒有先進的EUV光刻機。那麼，中國產光刻機現在是什麼樣的水平呢，能生產多少nm晶片呢？

那麼，大家覺得對中國目前光刻機的發展是怎麼看的，有什麼好的建議嗎？

目前中國產光刻機上海微電子最高只能實現90納米制程，其實中國早在60年代就研製出光刻機且技術先進，那時候光刻機巨頭荷蘭ASML還沒誕生，直到70年代ASML仍然是小後輩。

1970年中國科學院開始研製計算機輔助光刻掩膜工藝。

1972年中武漢無線電元件三廠編寫完成《光刻掩膜版的製造》報告

1980年清華大學研製成功第四代分散式投影光刻機，光刻精度達到三微米，接近當時國際主流水平。

1980年後，中國放棄電子工業的自主攻關，光刻機等科技計劃被迫下線。武漢無線電元件三廠於1994年破產改制賣副食。

目前國內華為找的替代物件是中芯國際，目前中芯國際為華為生產的14nm的麒麟710A晶片已經完成交付，但是最近華為向臺積電追加的7億美元的7nm和5nm製程的晶片，目前中芯國際還生產不了，目前國內的造芯技術落後行業保守估計在5年，美國也是吃準了中國目前還造不了最新納米制程的晶片，才卡華為脖子限制臺積電交付華為！然而，目前利好訊息就是中央向中芯國際注資200億，來加快國內晶片的發展生產！造芯是一條艱難無比的道路，但是中國必須要走，這樣才不會受制於人！