最近諸多新聞都有提到光刻機：臺積電去美國建廠，華為被美國打壓，中芯國際訂購的ASML高階光刻機無法交貨等等。

光刻機被譽為”人類工業CROWN上的明珠“，有人總結光刻機集成了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟體、影象識別領域頂尖技術的產物。簡單看，光刻機包含大概10萬多個零件，而汽車為多少呢？5000左右。

眾所周知，荷蘭ASML是全球光刻機的老大，比如可以製備7奈米的EUV光刻機，市場份額100%，全世界市場只有一家。所以想做7奈米或者更精細晶片，必須採用ASML的高階光刻機，至今中芯國際採購的高階光刻機還沒拿到荷蘭的出口許可，要知道同時臺積電已經拿到了十幾臺，而我們與臺積電在晶片製備的的差異，高階精密裝置是主要原因。為什麼我們拿不到裝置呢？是價格1億美元一臺太貴麼？當然不是，我們不差錢，主要是打壓華為的那位在背後運作。

而原子彈並不是商品，它不用考慮買賣，不要考慮換代更新，不用考慮市場等等，相對更加單一，並且從經驗來看，已經有幾個國家都掌握了原子彈技術包括中國，而光刻機，全球只有荷蘭一家。

我們製備出來了原子彈，而且是幾十年前，但是我們今天卻被光刻機卡著脖子。

從技術上講，兩者都是非常非常的難，不好比較。

從知識技術獲取難度講，光刻機更難。

美國的曼哈頓計劃從1942年6月開始，集中了當時西方國家除納粹德國外最優秀的核科學家，動員了10萬多人蔘加，歷時3年，耗資20億美元，於1945年7月16日成功地進行了世界上第一次核爆炸。

核物理和原子彈技術經過百年的發展，各種知識非常完善，並且公開的裝置技術很多，還有成熟的民用核領域。曾有國外神童根據圖書館和網路上的公開資訊，從網路上購買裝置，DIY出來了一個像模像樣的原子彈！

高階光刻機號稱世界上最精密的儀器，現在最貴報價已達1.2億美元一臺，堪稱現代光學工業之花，製造難度非常大，全世界只有少數幾家公司能夠製造，主要以荷蘭ASML、日本Nikon和日本Canon三大品牌為主，其中ASML的鏡頭來自德國。

現在國內已經制造出來了越來越先進的光刻機，國家光電實驗室也已經實現 9nm線寬光刻，雖然和國際上ASML仍然有一定差距，但是追趕步伐越來越快。

就在美國商務部宣佈對華為制裁措施升級之時，5月15日中芯國際公告稱，國家積體電路基金二期和上海積體電路基金二期將對中芯南方進行新一輪增資擴股，分別注資15億美元和7.5億美元，合計約為160億元人民幣，本次注資後，中芯南方註冊資本將由35億美元增加至65億美元。

在美國的步步緊逼下，國內科技企業研製出高階光刻機，只需假以時日。

回答這個問題之前，我們首先要搞明白：為什麼我們需要光刻機？因為要造晶片，沒錯，我們自己能不能造光刻機？答案是可以，22nm。世界最先進的光刻機精度是多少：5nm，這17nm就是中國和最先進技術的差距。沒錯，確實有差距，但絕對不是差到邊際的那種。

再回過頭來看，我們是否真的需要5nm的光刻機？有人說需要，很需要，因為被國外壟斷了，所以我們國家也要有。但是我想說，隨著科技的不斷髮展，原有的積體電路技術已經到了極限（學過物理的人應該知道，原子間是有作用力的，你不可能無限靠近；與此同時，晶片中原子間的距離越短，則同樣面積內所能提供的計算量就越大），所以我們可以清楚地知道本身人類的積體電路技術已經開始到了極限（要知道晶片世界第一的intel自己都承認10nm都搞不定），現在看到的5nm並不是真的原子間距離5nm，而是世界晶片集團偷換概念以後推出的產品而已，具體他的實際柵極距離是多少呢？48nm。

驚不驚喜，意不意外，說白了，現在所謂的最先進的光刻技術，只不過是商家為了推銷自身產品而對原先定義進行的修改而已，我們承認差距，但絕不能妄自菲薄。再回到這個問題，我們真的需要那麼先進的光刻機嗎？還是需要，是的，因為社會進步我們的技術也要提高，那我換個角度問一下，我們手中的各種晶片真的物盡其用了嗎？沒有，事實上，我們日常生活中的各類晶片（一般的，不是指特別高階的）基本可以應付我們絕大部分的需求。但有人問，為什麼我的手機越來越卡呢？很抱歉的告訴你，因為別人想讓你換手機了（手機的軟體商會在系統軟體執行時以你看不到的方式逐漸修改你的手機執行，讓你覺得卡，然後換手機。這個事不是我說的，蘋果自己都承認過，因為手機商要保證自己的手機更換率在三年左右）。

也有人說為了國家軍事安全戰略，我們需要更先進的光刻機，我只能回覆一個字：扯。你自己去看看美軍所使用的晶片是什麼時候的，2000年左右晶片。軍用晶片根本不需要像民用晶片一樣滿足各種功能，因此軍事安全這塊就可以排除。

說這麼多，不是說我們不需要光刻機，我們需要，但不是那麼急迫。事實上，這是一個系統的內容，不僅包含了光刻機、自身晶片工藝、主機板、作業系統等等多項內容的工程專案，而不是單單一個光刻機就能解決的事情。所以將光刻機和原子彈放在一起比較，我認為是不合適。我們沒有光刻機，至少我們現在生活影響不大，但如果我們沒有原子彈，美國的航母早就在中國沿海耀武揚威了，國家可以舉國之力造原子彈，但國家不會舉國之力造光刻機，這不僅涉及到系統工程，還包含了市場因素（之前網上盛傳，說中國造不出圓珠筆鋼珠，結果一鋼爐60噸甩出來，瑞士那個公司倒閉了）。我們中中國人，承認自己的差距，清楚的認識到自己的差距，而不是妄自菲薄，誠惶誠恐，認識到差距，找到差距的原因，並且充滿信心的不斷完善自己，我相信我們未來一定可以走得更好。

先說怎麼造核彈，兩條路，鈾彈或者鈽彈，鈾彈又可以分為槍式和內爆式，槍式不適合鈽彈，因為會早炸。

初級材料獲取方面，鈾礦雖然受管控，但搞到足夠的量也不是不可能，但，肯定會被人盯上，哪怕挖自家地裡的。

然後，化學提純得到比較純淨的六氟化鈾，上離心機，N遍之後，得到足夠濃度的六氟化鈾235，還原得到單質U235，鑄造成塊，組裝，如果玩槍式的話可以不玩試爆，世界上第一發槍式原子彈直接就實戰了，這玩意兒鐵定能炸，穩的很。內爆式的話把握低一點，多搞點常規實驗也能達到極高的首發成功率。

ASML的EUV光刻機80%的部件不是自產，大量的部件來自歐美各個國家。每個主要的部件都涉及一條產業鏈，中國在主要技術上取得相應突破並不難，難得是所有的部件都做得比歐美要好。只要某些部件不夠好，效能就會打折扣，那麼競爭力何在？憑什麼能夠用它來賺錢？對了，大部分高科技部件都是對華禁售的。新的技術依然在演進中，很難說EUV光刻機就是光刻的終點，如果花費巨大投入用20年搞出了一樣的光刻機，技術又革新了，那麼這些投入不就打了水漂？沒有人說得清楚，下一個技術是什麼，是不是需要相同的技術儲備。但以過往的經驗來看，EUV光刻機可以盈利的視窗期也就20到30年，錯過了這個視窗期也就談不上用它賺錢了。

光刻機中國不是不能搞，而是很多專利被西方註冊了，就算偷偷的複製出來也不能大規模的使用。所以就要繞過這些專利再做出相同的這點就很難。還有，當國家力量要做一樣東西時，這一切就都不是問題了。

據說一個理科研究生當今有裝置材料就可製造出核彈，相比光刻機其難度無可比性，正因為現己不是密祕所以嚴格控制擁核。

光刻機更難。

原子彈研發的難度，就好像我們抬槍射擊一個標靶。這個標靶有很多環，我們可以一槍槍的打，脫靶就是研發失敗，只有正中靶心，才是獲得真正原子彈，點開科技樹。將射擊選手看做各國國家，有些國家，用了98K+8倍鏡，有些國家，用了馬克沁，子彈是潑出去的，有些國家，對著標靶用雙管老獵槍，甚至是燧發槍，他們只能用有限的子彈一顆顆的試驗。但是，終歸只要你有子彈，並且充裕，你總能打到靶心。只是說，如果你用燧發槍擊中了人家狙擊槍打中的目標，你很不容易，很偉大。

而光刻機，是一溜十多個標靶，你要同時擊穿靶心才行。一般需要是個人，但是，也許也可以這樣：

原子彈是單一基礎科學推動的，知道基本裂變，然後將能量集中釋放，你不需要去把控能量，你只要瞭解當量。但是光刻機，關鍵是多學科基礎科學推動，更要命的，你必須精準。

都不難搞，看誰搞了！如果我們聯通世界利用全世界人才，這兩個東西算個屁啊？如果我們的思維倒退到上世紀六七十年代，鴕鳥一樣把頭埋在大糞裡，什麼都要自力更生艱苦奮鬥，很明顯，屁都搞不出來！

原子彈什麼概念，一個國家去搞十年才研究出來！舉全國之力去研究，涉及的行業也是非常廣泛！光刻機沒有難度，主要的光線系統，看看為啥尼康和佳能做舊知道！難得手機精度，中國也可以做就是沒有那麼高精度！什麼時候我們也能做精密鏡頭再說吧！話說回來，搞光刻機美國可能罵你，可能找人孤立尼，經濟制裁你！不要高原子彈你看看，拿就是打死你！

原子彈的難度在於不准你搞！光刻機的難度在於不准你虧。光刻機涉及多項冷門行業的技術，大部分研發都沒有多大市場，經濟效益不理想，所以願意去研發參入競爭的小。如果把他當成原子彈來看待，不計成本，我認為光刻機並不比原子彈難。