-
1 # LeoGo科技
-
2 # Lscssh科技官
中國產光刻機具體中國產率說實在的我不清，但一定不會很高！
現有量產機型中國產化率不高首先光刻機所需要的零配件非常多，數以萬計，同時對精度要求也相當高，即便是荷蘭ASML也是全球採購才能製造。以中國現在的裝置製造水平想要完全使用中國產配件生產光刻機是不現實的，根本做不到！
目前國內最先進的量產機型上海微電子的90nm光刻機主要零配件還是以進口為主，不誇張的說這機型就是照著人家ASML的光刻機給模仿出來的。
核心子系統全部自研突破但在過去的幾年中，中國光刻機整體的水平還是在快速上升，尤其是光刻機中的一些核心子系統（提升光刻機的整體效能這些子系統不可或缺），這些核心相關裝置我們都在自主研發，並且已經取得了重大突破，甚至部分領域成為全球第二、第三。
雙工件臺：工件臺主要用來讓光刻機對晶圓進行蝕刻曝光，是最核心裝置之一！雙工件臺可以大幅度提高光刻機生產效率以及精度，一個專用於執行製造，另一個則進行前期準備工作。荷蘭是第一個研發出雙工件臺的廠商，而我們則是全球第二，目前由北京華卓精科生產，早前研發時有清華團隊一起參與。
準分子鐳射光源：這也是相當重要的部分，此係統由中科院光電研究院組織上光所，廣電所、安光所、長光所等機構一同研發（下圖為原理機），具體生產製造則是由科益虹源這家鐳射裝置製造商負責。這個領域內之前僅有美日兩家企業能生產準分子鐳射光源，目前我們算是第三家。
以上可以看出中國對光刻機是非常重視的，以上各個子系統基本屬於中國2008年時啟動的02專項（極大規模積體電路製造裝備及成套工藝）專案，由中科院牽頭組織一批研究機構攻關光刻機的核心子系統。
而且有些配件事實上並非一定要中國產化，一些大路貨產品使用的原則是哪裡便宜又好用就用誰的。就比如圓珠筆芯這種玩意，根本沒必要去自主研發，這東西廠商研發出來對國內廠商來說利潤太小了，而且從技術角度出發並無太大價值。
現階段光刻機最重要的光學系統、曝光光源等相繼被攻克，這基本也意味著中國光刻機的中國產化和整體水平將會有一個較大的提升。最新訊息顯示，上海微電子的28nm光刻機將於年底下線，這也是中國十三五規劃的重要專案之一。
雖然我們現在和荷蘭光刻機的水平差距不小，但相信未來我們一定能趕上！
-
3 # 浩子哥科技賦能
咱們國內光刻機的配件中國產化率大約百分之六七十，遠比荷蘭阿斯麥ASML的“荷蘭化率”要高很多！
荷蘭阿斯麥ASML的荷蘭配件佔比也就10%左右一個頂尖的光刻機，需要數萬個零配件，不可能在同一個國家或地區完成採購！
想要研製出最頂尖的光刻機，並非阿斯麥ASML或尼康或佳能或上海微電子完成了某項重大技術突破，就可以搞定全新的光刻機的？
至少需要數十個行業裡面的數百家全球頂尖的零配件製造公司，共同發力，齊頭並進，才有機會！
就好像咱們國內的光刻機制造領域，上海微電子已經實現了90nm光刻工藝，正在進行下一階段的攻堅！
儘管近年來陸續傳來好訊息，可上海微電子依然未能造出新一代光刻機！譬如說，中科院光電所已經通過驗收的“超分辨光刻裝備研製”，已經實現了22nm光刻分辨力；可光刻機的研製又豈是單個技術突破就能輕易造出來的？
……
光刻機的配件中國產化率達到60-70%？前不久，安芯半導體先後出貨了兩臺光刻機；
……
相對於安芯半導體，上海微電子在光刻機制造領域的綜合技術水平和出貨量都是要高出很多的！
上海微電子的光刻機有很多種，技術水平低/光刻工藝落後的光刻機的中國產化率也許遠高於百分之六七十，技術水平高/光刻工藝先進的光刻機中國產化率，也許還要遠低於百分之六七十！
……
咱們國年的光刻機制造水平遠遠落後於荷蘭阿斯麥ASML，為何中國產化率反而高很多？
主要有兩點原因，一是因為咱們的光刻機的光刻工藝比較落後（90nm光刻工藝），對供應鏈技術水平要求不高；第二是因為咱們國家的製造業/供應鏈網太強大了，遠非荷蘭可比！
……
如果沒有（美國主導的）“瓦森納協定”制約著咱們，咱們也沒必要一定要提高中國產化率！
如今，“瓦森納協定”懸在頭上，美國商務部又隨時都可以出招！
咱們只能拼了命、咬緊牙，幹下去，一定要實現中國產化！
……
-
4 # 歷史環形社
光刻機，被譽為是比原子彈還難以研發的高階機器。
曾經代表全球一流水準的光刻機廠家有三家，他們分別是尼康、佳能和阿斯麥，而阿斯麥是後起之秀，在2005年之前三家的技術差距都不是很大，當年的極紫外光刻機還沒有被研發出來，由於投入太大，尼康和佳能紛紛放棄高階光刻機的研發，正當阿斯麥想要放棄的時候，他的客戶們都不答應了，紛紛注資數十億美元，這才有了全球絕無分號的頂尖光刻機廠家。
中國目前可以製造光刻機的廠商是上海微電子（SMEE），也是目前國內唯一的光刻機制造廠商。上海微電子成立於2002年，而ASML成立於1984年，可以說我們光刻機的研發起步晚了近20年，但是上海微電子成立以來發展較快，正在全力追趕荷蘭ASML。
-
5 # 閉月羞花171
首先是規格和檔次的問題。人家就好比造了一臺賓士，而我們就象做了個兒童學前班的轎車模型！更談不上什麼國外零件多少的問題了。
-
6 # 松江畔的訴說
看了這麼多新聞，個人覺得阿斯麥爾的光刻機裡，基本沒有中國元件。
目前的ASML公司的光刻機25%技術配件來自於美國，這是為什麼美國如此霸氣，說不給華為用就不給，荷蘭要是不聽話，美國斷供他就廢了。
其次，像是蔡司這些公司也都是行業裡的頂尖公司，國內還有哪家公司能做到技術頂尖極致，而光刻機恰恰集成了全世界最先進的半導體技術。
所以個人覺得，光刻機有國內技術的可能性極低，甚至可以說基本沒有。
-
7 # 跪射俑
目前中國只能生產出90奈米的光刻機裝置，這也是生產中國產光刻機的最高技術水平，比ASML公司差不多有15年的差距。這一裝置的零件完全中國產化。
中國產光刻機發展緩慢，克服困難自己生產這些零部件，目前生產出來的光刻裝置已用到很多的中國產企業中。
中科院光電所研發出365奈米波長，曝光解析度達到22奈米的光刻機，是近紫外的光線，離極紫外還有一點差距。光刻機的波長決定了晶片工藝的大小，波長越短，造價越高。像ASML最先進的EUV極紫外光刻機，波長只有13.5奈米，可以生產10nm、7nm的晶片。
回覆列表
光刻機達到60%-70%中國產化，為何中國還擔心光刻機能力不足呢？
福建安芯半導體表示生產的光刻機，“目前我們尚不能完全自主研發，但通過改造、提升，實現了 60%至 70%的中國產化。”注意，這裡的福建安芯半導體實際上主要經營黃光裝置翻新、改造和安裝除錯，自主研發新黃光和蝕刻裝置的銷售以及技術支援。它們的光刻機實際上翻新機，雖然通過自由研發，可實際上還是國外光刻機的影子，我們只是改造和擔心而已。
而國際社會中，ASML的光刻機已經在生產7nm EUV光刻機，這種差異性，我覺得應該很引起我們的重視。
1.積極使用國際先進技術，通過採用比如美國Cymer，德國以及荷蘭等等全世界最新進的技術，都有利於光刻機的發展。
2.將股東擴大。通過將臺積電，英特爾，三星等等企業作為自己的股東。這一種政策，能夠獲得更多的技術和資金的支援。
3.創新發展模式。從來不固步自封，開放創新式的發展，讓ASML能夠立即獲得各大企業的認同。