國外：荷蘭ASML，日本尼康；國內：上海微電子。

1，荷蘭ASML；

ASML佔據80%以上的份額，在最先進的EUV光刻機，更是100%壟斷7nm奈米以上光刻機市場，獨此一家。

2，日本尼康Nikon；

得到Intel大力扶持以平衡ASML，而ASML獨步全球的工藝水平和穩定效能最終擊敗尼康，尼康則開始面向低端領域。

中國也有不少光刻機制造企業，但是製程都相對比較低。

1，上海微電子；

最新光刻機技術達到90奈米，已經成長為中國唯一的光刻機巨頭，在中國市場佔比超80%，低端市場幾乎被其壟斷。2021年，上海微電子有望完成28nm光刻機，並完成交付。

2，合肥芯碩；

是國內首家半導體直寫光刻裝置製造商，自主研發的ATD4000，已經實現最高200nm的量產。

3，無錫影速；

由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業，成功研製用於半導體領域的鐳射直寫/製版光刻裝置，已經實現最高200nm的量產。

國內有關技術研究也在不斷取得突破。

2018年8月，清華大學研發出了雙工作臺光刻機，使得中國成為全球第二個具備開發雙工作臺光刻機的國家；

2018年11月，中科院光電所成功研發紫外超分辨光刻機，光刻分辨力達到22奈米，結合雙重曝光技術後，未來可用於製造10奈米級別的晶片；

2019年4月，武漢光電國家研究中心，成功研製出9奈米光刻技術，使用遠場光學，雕刻最小線寬為9nm的線段，實現了從超解析度成像到超衍射極限光刻製造的重大創新。

上海微電子的光刻機技術即將達到28nm，雖然和ASML的5nm和3nm差距巨大，但是國家集中力量重點發展，一定會給“川建國”送去一個驚喜的。

光刻機屬於尖端技術裝備，能造的國家屈指可數，少之又少，除了大家所熟知的荷蘭，還有日本、美國、德國，當然，中國也是能造的！

提到光刻機，許多人都以為只有荷蘭的ASML能造出來，其實不然， 能造光刻機的國家還有很多，只不過能造出最先進的光刻機的，目前確實只有荷蘭的ASML。所以，當大家都把目光聚焦於最先進的光刻機時，才會出現只有荷蘭ASML能造光刻機的這種錯覺。