美國裝置含量只佔10%就干涉供貨商經營行為斷供華為，那麼佔比更大的控股資本的權益就受到損害，這個是比壟斷還要嚴重的罪行，可按壟斷罪十倍處罰。美國搞的技術封鎖侵犯別國資本權益、干擾平民得到優質資訊服務的生活，涉嫌反人類罪，應當承擔鉅額賠償

晶片的製造少不了ASML生產的光刻機，其中目前最先進的當屬ASML旗下的EUV光刻機，比如麒麟990 5G晶片就是使用了7nm euv工藝，由臺積電代工製造，未來也會有更多的PC晶片和手機晶片使用這一工藝。但是很多人可能沒有想到，如今連記憶體顆粒生產也都要用上EUV光刻機了。

EUV光刻機的單價不菲，一臺就要上10億美元，當然，這類光刻機的前期研發和設計也是三星、臺積電和Intel共同參與的，如今後者都購入了數量不等的EUV光刻機用於生產各類晶片。然而記憶體顆粒為了提升儲存密度，也必須及時使用最先進的半導體工藝，在三星之後，SK海力士也準備購買EUV光刻機。

SK海力士作為全球第二大記憶體顆粒供應商，目前已經在研發1x nm工藝的記憶體，內部代號“南極星”，具體節點大概在15nm，預計會引入EUV光刻機生產。而三星將從第四代10nm記憶體顆粒或部分高階14nm記憶體顆粒開始全面匯入EUV光刻機生產，進度明顯比SK海力士要快。

對於記憶體顆粒來說，相比之前的深紫外光刻機，EUV光刻機可以減少多重曝光工藝，提升工藝精度和良品率，從而可以減少生產時間、降低成本，並提高效能。因此，儘管EUV光刻機10億美元一臺的初期成本很高，維護費用也不可小覷，但是可以通過後期的記憶體顆粒大批量生產來攤薄成本，長遠來看也有利於記憶體的降價。