氣體制備裝置一般分四大部分：發生裝置，淨化裝置（乾燥裝置），收集裝置，尾氣處理裝置。

一、氣體的發生裝置

一）固＋固（加熱）：適用於制O2、NH3、（CH4課本沒有）

二）固＋液體（不加熱）：適用於制CO2、H2 、H2S（SO2、NO2、NO課本沒有製法）

三）固＋液或液＋液（加熱）：適用於制C2H4、Cl2、SO2、乙酸乙酯、蒸餾（HCl課本沒有）

根據氣體溶解性（分子極性）和密度（相對分子量，與29比較）不同，把氣體的收集方法分為排液法（常為排水法）和排氣法（常為排空氣法）。裝置圖見下：

一）排液法：難溶或微溶於水且不與水發生化學反應的氣體。例如：H2、O2、CO、CH4、NO（只能用排液法收集）、CH2＝CH2、CH≡CH等。注：Cl2不用排水法收集，但可用排飽和食鹽水收集,CO2可以用排飽和NaHCO3收集。注意導管只能伸入集氣瓶內少許。

二）排氣法：不與空氣反應且密度與空氣相差較大的氣體；又可分為向上排空氣法和向下排空氣法。用排氣法收集氣體時，導氣管一定要伸入集氣瓶底部，把空氣盡量排出。為了減少空氣擴散，集氣瓶口可蓋上毛玻璃片；試管口輕輕塞上一小團疏鬆的棉花

（1）向上排空氣法：式量大於29的氣體。如O2、CO2、SO2、H2S、Cl2、NO2(只用排空氣)、HCl等;。

（2）向下排空氣法：式量小於29的氣體。如H2、CH4、NH3等;