後面切割封裝難度會更大，再到後續應用，而且脫離實際成品率，例如100顆裡25顆成功嚴謹的定義，那麼75顆的虧損呢，得補充到25顆的價格裡去，耐用性如何，後續推廣時，會不會增加應用成本，例如焊接成本，還得用專門的貼片機，專門的錫料，買了一百顆焊廢了45顆

當某一種材料的物理極限達到了頂端，意味著這一材料特定的物理價值到此為止。也可以視作某一物體的量變界限最終結束。剩下的，就是人們將怎樣這樣的結果。是另尋其他的材料，還是在原材料上進行改造。另尋新材料可以理解。改造舊材料意味著什麼？改造，改變舊材料的物理結構，使之具有新機能的方式。不過，這只是一個百分百門外漢，僅僅是憑物質可以被改造，比如合金這樣的知識點想象出來的。這樣做肯定有難度，甚至是天大的難度。但最終是行不行，可不可以，能不能，這在今天的科技水平和能力，結果會是怎樣，不得而知。有人來解釋更好！

我來解答：電晶體和積體電路製作工藝需要多次光刻，光刻是為了在矽基片上作圖，多次光刻作圖就是影象套準，這個間距是7nm，小於這個值可能就套不準，圖形有重疊 器件就沒有效能了，

回答專業的話，大多數人看完還是一頭霧水！

7NM是電晶體閥的尺寸！

我打個形象一點的：一個電晶體就是衣櫃縮小成50NM……衣櫃門是7NM，門越薄開關更輕鬆、而且整個衣櫃尺寸也減小了！

晶片七奈米是指精密度。這種精度的製造其技術絕對世界一統的⋯。有人說民航發動機的精度還比不上晶片嗎？發動機強調的是安全第一，而晶片的精度強調商業價值，他們各有其特點。當然，又精又高可靠性當然好，但一般都不可能全部相容。

下圖是電晶體(mos管)的示意圖，其製程幾奈米指的是柵極(gate)的最小長度(length)，而不失寬度(width)，現在一般寬度都比長度大

（圖源來自於：《 5nm就到極限了嗎？談晶片工藝發展路向》）

這張圖其實已經很明顯的解釋了，什麼是nm工藝？你可以看到Gate，中文意思是門的意思，在這裡指的是柵極（Source：源極 ，Drain：漏極）。

那麼，我們所謂的7nm指的就是柵極的大小，也可以成為柵長，它的距離越短，比如28nm——14nm——7nm，這個尺寸越來越小，那麼我們如果實在同一片矽片，在上面可以放更多的電晶體（所以，7nm工藝是電晶體中的柵極的大小）。

摩爾定律

但是，因為科研人員不斷用替代材料，矽材料的優勢也在不斷降低！比如全新的III-V族化合物半導體、矽烯等等新的材料的使用，讓所謂的摩爾定律，也在被挑戰！

所以，未來可能會有更多的可能，只是我們還在等待而已。

7奈米工藝，指的是晶片製造過程中的光刻精度為7奈米。光刻精度也就是最小光刻寬度，通常可以理解為晶片圖形中的最小線條。實際晶片線條的大小，還要考慮套刻精度，即多次光刻之間對準的精確度的影響。

CPU等數字積體電路主要是處理數字訊號，更小的光刻精度可以生產更小的晶片單元，從而可起降低功耗，提高運算速率，減少晶片單位面積（從而降低成本）等作用。

應該是導線線路寬度7奈米吧？

不知道對不對。

外行人隨口一說(那尼)

晶片中的線路是通過極紫外光照射曝光，然後用蝕刻機腐蝕出一條溝槽，然後再向溝槽中注入導電材料，然後形成了一條導電線路，7奈米就是這個溝槽的寬度即導線線路寬度。

所謂ASML光刻機，其功能就是把設計好的電路圖"啪"一下對著晶片上的膠層曝個光，曝光後輪到蝕刻機幹活了。

華為海思就是專門設計這個電路圖的。

荷蘭阿斯麥光刻機裝置就是專門曝光的。

上海中微半導體裝置就是專門刻電路圖的。

江豐電子專門提供濺射靶材的。

臺積電就是專門加工晶片的，

長川科技是專門生產晶片封測裝置的。

長電科技是專門進行封裝測試的。

具體不懂，不過之前在哪看過，好像並沒有一個明確的規定，之前英特爾好像提出過一個公式，希望其他幾家用這個來命名，然而並沒有人鳥他。