隨著Globalfoundries公司無限期退出7nm及以下工藝研發，全球有能力研發先進工藝的只剩下英特爾、臺積電及三星，其中英特爾公司是過去幾十年中半導體工藝最強大的公司，但是現在他們的10nm工藝都延期到明年底，臺積電、三星的7nm已經或者即將量產。英特爾在製程工藝上的延期不只是影響10nm及未來的7nm工藝，更重要的是英特爾使用EUV光刻工藝也面臨不確定性，分析稱2021年底英特爾都不太可能用上EUV工藝，而臺積電、三星明年的7nm改進版工藝就會用上EUV工藝。

在EUV光刻機上，三星是最激進的一家，直接在7nm工藝上首發EUV工藝，但這也導致三星的7nm工藝難度高，進展比臺積電更慢，臺積電今年中就開始量產7nm晶片，三星的7nm EUV工藝預計要到明年初才能正式量產，而且客戶數量遠低於臺積電的50多家。

GF公司原本也在第二代7nm工藝上使用EUV工藝，不過他們現在退出了7nm工藝的研發、生產，EUV光刻機也用不上了，不知道會如何處理他們的EUV光刻機及之前的ASML光刻機訂單。

在EUV工藝上，英特爾還是最早投入研發資源的半導體公司之一，但是現在英特爾的不確定性也是最大的，前幾年英特爾還表態他們並不依賴EUV工藝，即便沒有EUV光刻機也懂得如何製造7nm工藝的晶片，這番豪言已經是2014年的事了。

現在英特爾最大的麻煩不是EUV光刻工藝，他們首先要解決的是10nm工藝的量產，將良率提高到可以接受的程度，在2019年底正式推出基於10nm工藝的處理器，而在2020年才有可能大規模生產出移動、桌面、伺服器版的10nm晶片。

英特爾的7nm工藝尚在研發中，英特爾透露的訊息非常少，此前只是表態稱7nm工藝上吸取了10nm工藝的教訓，不搞太浮誇的指標以便降低量產難度。至於EUV工藝，英特爾官方沒有正式表態呢，EETiems上週在報道中援引伯恩斯坦分析師Mark Li的訊息稱英特爾還在等待EUV技術更加成熟，在2021年底之前不會將EUV工藝納入到其工藝技術中去。

這個分析意味著英特爾至少要在三年後才能用上EUV工藝，即便2021年末真的推出了EUV工藝，那也意味著英特爾在這個技術進度上落後臺積電、三星公司兩年時間，儘管英特爾的決定可能更成熟一些，在新工藝技術問題沒解決之前上EUV工藝可能會引入額外的風險。

因為現在的EUV光刻機達不到英特爾的要求。英特爾希望EUV的光源能夠達到1000W，但現在只能做到250W。甚至有傳言說英特爾現在根本沒有EUV光刻機。