2018年對英特爾來說是艱難的一年，遭遇了X86漏洞、CEO被炒、14nm產能不足等問題，不過對英特爾傷害最大的還是10nm工藝不斷延期，這嚴重損害了英特爾在先進工藝上領導者的形象。對於10nm工藝，英特爾官方的路線圖中還是2019年底出貨，首先用於FPGA，伺服器及PC處理器在2020年跟進10nm工藝。上週末主管英特爾工藝、製造業務的Murthy Renduchintala談到了英特爾的製程工藝路線圖，他提到英特爾的10nm工藝效能水平還是2014年的標準，也就是否認了10nm工藝縮水的可能，不過他也首次證實了英特爾7nm節點會使用EUV工藝，而且7nm工藝從10nm工藝中吸取了教訓，是兩個團隊開發的，7nm EUV工藝不會受到10nm工藝延期的影響。

根據英特爾早前所說，10nm工藝之所以難產的一個關鍵是它最初的指標定的太高了，相比14nm工藝，10nm工藝的電晶體密度是前者的2.7倍，也就是2.7x水平的縮放水平，遠高於業界2x的平均水平，這也導致10nm工藝製造困難，不斷延期，以致於早前有訊息稱英特爾在明年底量產的10nm工藝中會降低技術指標，更像是12nm工藝而非最初設定的10nm工藝，也就是說新的10nm工藝會“縮水”。

在上週的納斯達克39屆投資者會議上，英特爾高階副總Murthy Renduchintala談到了英特爾公司10nm、7nm等先進工藝的情況，首先來說10nm工藝——“英特爾的10nm工藝野心沒變”，Renduchintala這句話相當於否認了10nm工藝縮水的傳聞，他說與2014年設定的目標相比，10nm工藝在效能、密度及功耗上的指標保持不變。

官方這麼表態意味著明年底的10nm工藝在效能、密度等方面還會保持優勢，不過10nm工藝的生命週期可能不會很長，因為Murthy Renduchintala還談到了英特爾的7nm工藝，確認7nm節點他們會使用EUV工藝，在這點上英特爾之前的表態是即便沒有EUV工藝，他們也懂得如何製造7nm晶片，因為英特爾在多重曝光工藝上一直很強勢，但是現在看來7nm節點上他們也會跟臺積電、三星一樣開始依賴EUV光刻工藝。

根據Murthy Renduchintala所說，他們吸取了10nm工藝上的教訓，10nm及7nm工藝是兩個不同的團隊開發的，所以10nm延期不會影響7nm的進度，目前7nm EUV工藝正在路上，進展良好。

不過英特爾方面並沒有給出7nm EUV工藝具體的量產時間，臺積電、三星預計會在2019年量產7nm EUV工藝，但是對EUV工藝的利用依然還是初步的。