萊特萊德為您介紹半導體超純水裝置各系統技術優勢：

　　1、可去除源水中的懸浮物。能最大限度地清除汙垢，提高出水水質和延長工作週期。

　　2、可以去除水中的遊離餘氯、除臭、除油、去色、吸附有機物雜質，保證反滲透膜的進水水質。

　　3、採用先進的反滲透技術，利用壓力差原理去除水中的鹽類，裝置的脫鹽率可達到99%左右。

　　4、主要有不鏽鋼、炭鋼和有機玻璃鋼。

市面上超純水裝置價格一般在15萬—25萬左右。超純水裝置一般採取EDI工藝加上反滲透的原理製取超純水，所制超純水用於微電子工業，半導體工業超純水裝置，EDI作為製取超純水的裝置、作為反滲透裝置後的二次除鹽裝置，可以製取出高達10-18.2MΩ.CM。因此超純水裝置廣泛用於微電子工業，半導體工業，發電工業，製藥行業和實驗室；超純水裝置也可以作為製藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發電廠的鍋爐補給水，以及發電工業、製藥行業和實驗室。超純水裝置的EDI工藝系統選用透過一次反滲透除鹽後的水作為進水，再透過EDI模組內離子交換樹脂進行二次除鹽，這樣可以使純水製作程序接連化，它代替了傳統DI混合樹脂床製作去離子水的辦法，防止運用酸鹼再生；大量削減酸鹼本錢投入的一起也可以有用防止環境汙染，經活性碳過濾後的水再進入RO反滲透裝置。

超純水裝置的效能優勢：

1、超純水裝置可連續、穩定地生產高品質純水，無需因樹脂再生而停機；

2、超純水裝置無汙染物排放，既環保又省去了廢液處理的投資；

3、超純水裝置結構緊湊，佔地面積小，節省空間，同時還具有節能優點；

4、超純水裝置現場安裝、除錯指導，

5、超純水裝置日常維護操作簡單，勞動強度低；

6、超純水裝置脫鹽率大於99.9%，效率遠遠高於雙級反滲透和單純的離子交換。

超純水裝置的應用領域：

1、電廠化學水處理超純水裝置

2、電子、半導體、精密機械行業超純水

3、超純水裝置用於食品、飲料、飲用水的製備

4、超純水裝置製取精細化工用水

5、製藥工業工藝用超純水裝置

6、其他行業所需的超純水製備

反滲透膜的孔徑通常為10A到100A之間，所以它可以去掉95%以上的離子態雜質。反滲透膜的孔徑的不同，價格也會有所不同，根據原水水質及超純水的應用領域具體設計超純水裝置。

電子半導體行業用超純水裝置特點有:

1、產水要求符合電子級水標準，出水電阻率可達到15兆歐以上，完全滿足半導體行業用水需求；

2、能夠連續穩定的製備品質優良的超純水，裝置自動化程度更高；

3、裝置結構相對緊湊，佔地面積小，能為企業節省更多空間；

系統性能設計優勢，操作、維護均簡易方便，故障率低，兼顧安全、節能等多方面的考慮，充分保證出水符合企業用途。