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    在公佈 2019 年 1 季度業績的同時,SK 海力士也宣佈了產能提升的計劃。

    除了加大初代 10nm 製造工藝(1x nm)的產量,這家電子巨頭還計劃在今年下半年啟用第二代 10nm DRAM 製造工藝(又名 1Y nm)。

    這樣的策略,可保障該公司在轉型期內增加 DRAM 產品的供應,最終為降低成本和推出下一代記憶體做好準備。

    【資料圖,來自:SK Hynix,via AnandTech】

    據悉,首批採用 SK 海力士 1Y nm 製造工藝的產品,將是其 8Gb DDR4-3200 記憶體顆粒。與採用 1X nm 製程的產品相比,新工藝可讓 8Gb DDR4 的晶片尺寸縮小 20%、功耗降低 15% 。

    此外,SK 海力士即將推出的 8Gb DDR4-3200 顆粒有兩項重要的改進:4 相時鐘方案、以及 Sense 放大器控制技術。

    前者可提升訊號強度,保障在搞資料傳輸速率下的穩定性;後者降低了電晶體尺寸縮小時,可能發生資料錯誤的可能性。

    實際上,SK 海力士向 10nm DRAM 製造工藝轉進的速度,已經遠遠落後於美光和三星,其早就開始出貨第二代 10nm 製程的產品。

    自 2018 年以來,SK 海力士一直掙扎於初代 10nm DRAM 的製造,直到最近才有所緩解。讓人鬆口氣的是,該公司終於要在 2019 下半年正式出貨第二代 10nm DRAM 了。

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