可以使用壓印技術製造高質量的影象感測器微透鏡，其可以建立濾光器和光子帶隙結構以使TV和LED更亮。使用壓印技術是目前製造這些裝置最經濟的方法。磁碟驅動器製造商正在研究用於製作圖案媒體的印記技術。小磁點可以取代當今磁記錄材料的均勻層。磁碟製造商Komag最近受到EV的壓力。印刷技術許可證，並希望擴大儲存容量高於每盤160Gb，而EV Luesebrink認為，到2007年儲存行業將使用壓花來開始批次生產。
生物工業是另一個潛在的市場，Schumaker說大學正在使用壓印光刻來建立一個圖形表面，細胞不能在特定方向上生長或生長。早稻田大學和日本醫療器械公司正在開發一種A細胞對準裝置，該裝置使用壓印裝置快速分析液體並識別特定的靶細胞。
壓印光刻技術生存能力的最佳證明是Nanonex，這是一家在紐澤西州有四年曆史的私營公司，已將該技術商業化。 Nanonex由普林斯頓大學的Stephen Chou教授創立，最近開始使用他自己的印記裝置生產各種光學裝置，包括用於改善DVD和CD上光訊號的光碟。 Nanonex執行長Baron Weinbaum沒有透露誰購買了這些產品，但聲稱這些產品正在運送給客戶。
儘管取得了這些進步，但使用昂貴的光刻技術的半導體行業似乎不願接受這種革命性的技術，並且投資於日益困難的向下看的光學光刻技術，光刻裝置，ASML，尼康和佳能的市場領導者並未對此表示興趣。印記技術，但有些人認為這不一定是這種情況，就像EV的Luesebrink說：“我確信光學光刻公司正致力於這項技術。”
壓印光刻技術在半導體制造領域仍存在爭議，可以理解的是，他們對不成熟的技術保持謹慎態度。 “沒有比半導體制造商的經理更保守了，”分子印記的Schumaker說。 “他不敢拿300萬美元的設施阻止它。”
飛思卡爾半導體先進光刻研究經理Bernie Roman認為，使用壓印光刻技術製造高密度晶片是一項重大挑戰。他補充說：“我們認為這不是最佳解決方案。” VLSI研究分析師里斯託·普哈卡（Richardo Puhakka）問及壓印光刻技術在半導體行業中需要多長時間，他回答說：“從那天開始，它還有很長的路要走，也許它根本不會發生。”
為什麼不能實現呢？ Puhakka說，最根本的原因是壓花工具和要製造的材料需要接觸。 “與矽晶片有一些接觸，這是半導體行業的一個禁忌。”接觸壓花在30年前被廣泛使用，但它逐漸變得更好。消除了光學光刻方法。
其他原因包括難以獲得高質量模板以及需要其他工具來實現電路各層之間的對齊，儘管模板是最具挑戰性的模板。 “沒有人開始真正將模板商業化，”惠普的威廉姆斯說，他們的模板是由勞倫斯伯克利實驗室製作的。這是一個“雞蛋，雞蛋和雞”的問題。他說，模板的稀缺導致技術發展緩慢，模板製造商不願在市場變大之前擴大投資。
Toppan Photomasks首席技術專家Franklin Kalk表示，他的公司生產有限的壓印光刻模板，但檢查缺陷的過程非常困難。 “我們不想在電子束檢測工具上花費數百萬美元。早期。”在真正的工業化之前，印刷光刻似乎還有很長的路要走。
可以使用壓印技術製造高質量的影象感測器微透鏡，其可以建立濾光器和光子帶隙結構以使TV和LED更亮。使用壓印技術是目前製造這些裝置最經濟的方法。磁碟驅動器製造商正在研究用於製作圖案媒體的印記技術。小磁點可以取代當今磁記錄材料的均勻層。磁碟製造商Komag最近受到EV的壓力。印刷技術許可證，並希望擴大儲存容量高於每盤160Gb，而EV Luesebrink認為，到2007年儲存行業將使用壓花來開始批次生產。
生物工業是另一個潛在的市場，Schumaker說大學正在使用壓印光刻來建立一個圖形表面，細胞不能在特定方向上生長或生長。早稻田大學和日本醫療器械公司正在開發一種A細胞對準裝置，該裝置使用壓印裝置快速分析液體並識別特定的靶細胞。
壓印光刻技術生存能力的最佳證明是Nanonex，這是一家在紐澤西州有四年曆史的私營公司，已將該技術商業化。 Nanonex由普林斯頓大學的Stephen Chou教授創立，最近開始使用他自己的印記裝置生產各種光學裝置，包括用於改善DVD和CD上光訊號的光碟。 Nanonex執行長Baron Weinbaum沒有透露誰購買了這些產品，但聲稱這些產品正在運送給客戶。
儘管取得了這些進步，但使用昂貴的光刻技術的半導體行業似乎不願接受這種革命性的技術，並且投資於日益困難的向下看的光學光刻技術，光刻裝置，ASML，尼康和佳能的市場領導者並未對此表示興趣。印記技術，但有些人認為這不一定是這種情況，就像EV的Luesebrink說：“我確信光學光刻公司正致力於這項技術。”
壓印光刻技術在半導體制造領域仍存在爭議，可以理解的是，他們對不成熟的技術保持謹慎態度。 “沒有比半導體制造商的經理更保守了，”分子印記的Schumaker說。 “他不敢拿300萬美元的設施阻止它。”
飛思卡爾半導體先進光刻研究經理Bernie Roman認為，使用壓印光刻技術製造高密度晶片是一項重大挑戰。他補充說：“我們認為這不是最佳解決方案。” VLSI研究分析師里斯託·普哈卡（Richardo Puhakka）問及壓印光刻技術在半導體行業中需要多長時間，他回答說：“從那天開始，它還有很長的路要走，也許它根本不會發生。”
為什麼不能實現呢？ Puhakka說，最根本的原因是壓花工具和要製造的材料需要接觸。 “與矽晶片有一些接觸，這是半導體行業的一個禁忌。”接觸壓花在30年前被廣泛使用，但它逐漸變得更好。消除了光學光刻方法。
其他原因包括難以獲得高質量模板以及需要其他工具來實現電路各層之間的對齊，儘管模板是最具挑戰性的模板。 “沒有人開始真正將模板商業化，”惠普的威廉姆斯說，他們的模板是由勞倫斯伯克利實驗室製作的。這是一個“雞蛋，雞蛋和雞”的問題。他說，模板的稀缺導致技術發展緩慢，模板製造商不願在市場變大之前擴大投資。
Toppan Photomasks首席技術專家Franklin Kalk表示，他的公司生產有限的壓印光刻模板，但檢查缺陷的過程非常困難。 “我們不想在電子束檢測工具上花費數百萬美元。早期。”在真正的工業化之前，印刷光刻似乎還有很長的路要走。