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    長鑫儲存技術有限公司(CXMT)已經開始生產基於 19nm 工藝的計算機儲存器,且該公司至少制定了兩條以上的 10nm 級製程的路線圖,計劃在未來生產各種型別的動態隨機儲存器(DRAM)。

    為了提升產量,長鑫儲存還計劃建造另外兩座晶圓廠。作為中國製造 2025 專案的一部分,其有望支撐全球一半左右的 DRAM 需求。

    (題圖 via AnandTech)

    總部位於安徽合肥的 CXMT,目前擁有 3000 多名員工,下設一座擁有 65000 ㎡ 潔淨室的晶圓廠。其前身為合肥睿力積體電路(Innotron Memory),自 2016 年成立以來,該公司一直致力於多個專案。

    目前長鑫儲存的月產能約為 2 萬片晶圓,但隨著該公司訂單量的增長,產量也將逐漸提升。預計到 2020 年底,其 10nm 級工藝技術的產能為 12 萬片晶圓(12 英寸),媲美 SK 海力士在中國無錫的工廠。

    CXMT 表示,其 77% 員工都是從事研發相關工作的工程師。藉助來自奇夢達的 IP 授權,該公司已順利完成了早期積累。

    CXMT 正在使用其 10G1 技術(19 nm 工藝)來製造 4 Gb 和 8 Gb DDR4 儲存器晶片,目標在 2020 年第一季度將其商業化並投放市場,該技術將用於在 2020 下半年製造的 LPDDR4X 儲存器。

    從路線圖來看,CXMT 還規劃了針對 DDR4、LPDDR4X、DDR5、以及 LPDDR5 的 10G3(17 nm 工藝)產品。儘管目前尚無法撼動業內老牌競爭對手,但該公司相當重視創新工藝的研發和產能的擴張。

    預計 CXMT 10G5 工藝將使用 HKMG 和氣隙位線技術,並在遠期使用柱狀電容器、全能柵極電晶體、以及極紫外光刻(EUVL)工藝。

    儘管該公司計劃於 2019 年初開始生產 DDR4 記憶體,但新路線圖已經推遲了一年。最後,該公司還計劃再建兩座 DRAM 晶圓廠。

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