中芯國際想買到外國最強光刻機指望不上。

求人不如求己。

光刻機要中國科技自己解決。

中國已經有了極紫外光刻機還在實驗階段即將量產了。

3奈米晶片工藝不要急於求成要穩中求進只有穩才更有力。

中芯國際如果獲得最強光刻機，有可能在三年內趕上3奈米嗎？為何？

沒有可能。

首先更正很多人的一個不太準確的觀點，就是有了EUV光刻機，就能夠成功做出5nm、3nm，光刻機只是一個裝置，想要突破5nm/3nm工藝，需要裝置，還需要在技術方面的積累。

工藝製程的發展一直是沿著65nm/40nm/28nm/22nm/5nm/3nm這樣的程序在向前，也就是說每一代工藝之間是有聯絡的，這也就是為什麼晶片代工行業的這些巨無霸都是從落後製程一點點的向前走，基本上不可能從什麼技術積累都沒有，一下子就直接進入了3nm製程這種事情。

現在全球晶片代工領域第一的臺積電也是一步一步，經過30幾年的發展，一步一步的走到3nm這個工藝節點。

中芯國際現在最先進的工藝是14nm，這中間還有12nm/10nm/7nm/5nm這麼多代的工藝製程需要跨越，3年的時間根本不可能。

從資金的角度來看，中芯國際也並不是特別的充足，投資一條3nm的產線，真的需要鉅額資金的投入，中芯國際現在的營收以及利潤還不足以支撐這麼大筆的投資。

對現在的中芯國際來講，擴大28nm產線，提升利潤率，是重中之重了。

中芯國際如果獲得euv光刻機，也不可能在三年內趕上三奈米，為何呢？以中芯國際現在，只能生產14奈米以上的晶片，和三奈米有著3到4代的差距，如按照臺積電速度的推進，起碼要八年，但中國加快了晶片的發展速度，再怎麼著也要五年的時間吧？這樣已經很快了，果然希望我們早點生產出好的晶片，但生產晶片是一個遵循科學客觀的發展規律，要循序漸進。