根據臺積電《2019年企業社會責任報告》資料，臺積電在三大科學園區，竹科、中科和南科三個廠區的合計用水量每天要超過15萬噸。這樣的水量，如果全都用水車載水，每天要多少車次呢？是8,000車次。

我們以竹科廠區舉例，廠區的臺積電工廠每天的用水量達到了5.7萬噸，佔到了整個廠區的三分之一還多，如果一輛水車每趟能運水20噸，那也每天需要運水2,850車次。聽上去是不可能完成的任務，對不對？而且如果產出5奈米，或是2奈米晶片，用水量還會更高，比如，臺積電規劃在竹科的2奈米新廠，計劃每日用水量更高達12萬噸，超過現有用水量的兩倍。

保證良率清洗晶圓很關鍵

那麼，晶圓生產，為什麼要用這麼多水呢？首先，我們先了解一個概念，晶圓良率，我們知道，每一片晶圓上，都同時製造數量很多的晶片，這些晶片中測試合格的晶片和整片晶圓上的有效晶片的比值就是這個晶圓良率。

關於，晶圓生產為什麼用很多水，臺積電的官網上是這樣介紹的，半導體零配件的清洗成果對晶圓良率的影響非常大。零配件如果表面脆弱、或者是有細微分子殘留，將會成為晶圓生產過程的汙染源，尤其邁入高階製程後，一些過去沒有影響良率的細微分子，也因為製程線徑縮小，成為影響品質的關鍵。

也就是說，半導體零配件的清洗要用到很多水，我們可以想像，如果這個水的純淨度不夠，那很多非常細小的細微分子，可能沒法清洗乾淨，就會影響到晶圓品質。

早在2013年時，臺灣媒體就曾經介紹過，為了提高12吋晶圓廠的製程良率，以往是每25片晶圓集中清洗，後來就改成一片片單獨清洗，大幅提高良率。

在去年12月時，臺灣媒體的一篇報導中也提到了晶圓製程中的用水量，文章說，半導體生產過程，需要使用大量乾淨程度是自來水1,000倍的超純水。而以往晶圓廠需要用上1,400到1,600加侖的自來水，才可能轉化為1,000加侖的超純水。如果在一片12吋晶圓上製造積體電路，需要使用大約2,200加侖的水，包括1,500加侖的超純水，所以晶圓廠是「用水怪獸」。

根據2015年英特爾企業的報告，該公司一年的用水量高達90億加侖，相當於75,000個美國家庭的正常用水量。不過到2017年，參考Intel的技術，轉化出1,000加侖的超純水已經僅用1,100加侖的自來水。與以往相比，節水量已經不小。

降雨量奇低，工業節水計劃已經啟動。但晶片製造過程中清洗化學物等步驟都需要大量用水，以臺積電為例、手頭訂單滿載的巨頭，紛紛啟用備份計劃，主要手段就是預定水車。