靶材就是目標材料。用於高能鐳射武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的鐳射與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。用於物理鍍膜中的濺鍍，主要有金屬靶材和陶瓷靶材。

　　【什麼是濺射靶材】

　　磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，較之較早點的蒸發鍍膜方式，其很多方面的優勢相當明顯。作為一項已經發展的較為成熟的技術，磁控濺射已經被應用於許多領域。

　　【應用領域】

　　1：微電子領域

　　2：平面顯示器用靶材

　　3：儲存技術用靶材

　　靶材材料的技術發展趨勢與下游應用 產業的薄膜技術發展趨勢息息相關，隨著應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進，靶材技術也應隨之變化。如Ic製造商.近段時間致力於低電阻率銅佈線的開發， 預計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發將刻不容緩。另外，近 年來平面顯示器(F P D)大幅度取代原 以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場.亦將大幅增 加ITO靶材的技術與市場需求。此外在儲存技術方面。

　　濺射靶材主要應用於電子及資訊產業，如積體電路、資訊儲存、液晶顯示屏、鐳射儲存器、電子控制器件等;亦可應用於玻璃鍍膜領域;還可以應用於耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

　　【W-Ti靶材】

　　尺寸為:

　　矩形靶材:L800mm×W200mm×H 客戶自選厚度。(為國際上同類產品最大尺寸)

　　圓形靶材:Ф460mm×H 客戶自選厚度(為國際同類產品最大尺寸)

　　密度 ≥ 99.9%TD，

　　純度 ≥ 99.995%

　　鎢-鈦(W-Ti)膜以及以鎢-鈦(W-Ti)為基的合金膜是高溫合金膜，具有一系列不可替代的優良效能。W-Ti 合金因具有穩定的熱機械效能、低的電子遷移率、高的抗腐蝕效能和化學穩定性使其很容易作為佈線擴散阻擋層，特別是適合在高電流和高溫的環境下使用。