canon光刻機的工作原理是經過矽片表面清洗、烘乾、旋塗光刻膠、乾燥、曝光、去膠、清洗、轉移等很多道工序完成的。

光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。

光刻機是幹什麼用的？如字面意思，就是把我們想要的晶片，再透過設計師設計出規格之後用光學技術刻在晶圓上，其實和洗相片的意思有點接近，用光學技術把各種各樣形式的電路刻在晶圓從而使之後的工藝順著刻出來的樣子繼續加工。一片晶元以12寸為例大概可以生產成品幾百到幾千不等的小晶片，而不是要將手機那麼小的晶片一片一片刻出來的，如果真這樣那效率太慢了光刻機是晶片產業中*昂貴且技術難度**的機臺，好幾億一臺都是隨便的。因為它是整塊晶片的主題和框架。

光刻機的工作原理是要經過矽片表面清洗、烘乾、旋塗光刻膠、乾燥、對準曝光、去膠、清洗、轉移等眾多工序完成的。經過一次光刻的晶片還可以繼續塗膠、曝光。越複雜的晶片，線路圖的層數就越多，而且也需要更精密的曝光控制過程。

光刻機一般是用在鐳射上，下面以在玻璃上刻蝕圖形為基礎，介紹光刻機的工作原理：

1、清洗玻璃並烘乾，首先準備一塊玻璃，玻璃的大小可以根據需要裁減，然後將玻璃清洗乾淨烘乾，備用。

2、在玻璃上塗覆光刻膠，光刻膠有正性和負性之分。

3、乾燥，採用固化乾燥機讓玻璃揮發液體成分，乾燥的目的是為了玻璃進一步加工的需要。

4、曝光，曝光的方式有很多種，比如鐳射直寫、透過掩模板同時曝光等都可以。

5、去膠，去膠的方法也很多，比如放在刻蝕劑中，用正性膠的話，被光照到的地方就會被溶解，沒有光照到的地方光刻膠保留下來，到這裡就已經在光刻膠上刻蝕出了所需圖形。

6、清洗，去膠結束後，對玻璃進行清洗。

7、轉移，轉移的方法也有很多，可以採取離子束轟擊，光刻膠和玻璃同時被轟擊等等，光刻膠被轟擊完後，暴露出來的玻璃也被轟擊，就把光刻膠上的圖形轉移到玻璃上。這樣就完成了。