化學研磨原理:
化學研磨也而已稱為化學拋光,原理是使用浸泡工件並加熱的做法,將徽觀表面的凸起部位透過化學腐蝕溶解消除掉,同未加工前對比,表面凹凸差變小從而使表面更趨於平滑的化學反應。
化學研磨的目的:
1:處理後的工件表面光滑細密,表面的亮度比機械拋光更好,可接受異形件,任何部件均可處理,使用工藝簡捷,效果超過電解(研磨)拋光。
2:表面機械力產生的硬化層被化學藥水溶解掉,產生的應力消除,最佳化電焊效能,被機械切削,內壁吸附力變小。
3:比機械拋光更好,其顯露和倒伏的毛刺可完全剔除,內壁不產生電弧火花,不鏽鋼配件顯示面光滑平整。
表面被鈍化,鐵元素溶解的多從表面熔解,配件表面的平整性顯著提高並賈強,增加不鏽鋼弓箭表面的抗氧化性,標面亮度,光滑性和衛生性都可明顯踢高。
4:可達不鏽鋼配件鏡面光澤,凹凸性降低,,反射能高,流動性更快。
5:表面徽觀凸起處根據研磨時間長短可減薄研磨掉0.01~0.04mm左右,工件表面粗糙度加大,折射度接近鏡面程度,Ra≤0.05um
6:可以達到整平表面,清除毛刺毛邊的作用。
7:化學研磨拋光已經打到美國標準,另外XPS等檢測結果也符合半導體SEMI標準。
異形工件也可以,不需要通電極,任何部位均可處理,使用方便並且公義效果優於電解拋光。
化學研磨原理:
化學研磨也而已稱為化學拋光,原理是使用浸泡工件並加熱的做法,將徽觀表面的凸起部位透過化學腐蝕溶解消除掉,同未加工前對比,表面凹凸差變小從而使表面更趨於平滑的化學反應。
化學研磨的目的:
1:處理後的工件表面光滑細密,表面的亮度比機械拋光更好,可接受異形件,任何部件均可處理,使用工藝簡捷,效果超過電解(研磨)拋光。
2:表面機械力產生的硬化層被化學藥水溶解掉,產生的應力消除,最佳化電焊效能,被機械切削,內壁吸附力變小。
3:比機械拋光更好,其顯露和倒伏的毛刺可完全剔除,內壁不產生電弧火花,不鏽鋼配件顯示面光滑平整。
表面被鈍化,鐵元素溶解的多從表面熔解,配件表面的平整性顯著提高並賈強,增加不鏽鋼弓箭表面的抗氧化性,標面亮度,光滑性和衛生性都可明顯踢高。
4:可達不鏽鋼配件鏡面光澤,凹凸性降低,,反射能高,流動性更快。
5:表面徽觀凸起處根據研磨時間長短可減薄研磨掉0.01~0.04mm左右,工件表面粗糙度加大,折射度接近鏡面程度,Ra≤0.05um
6:可以達到整平表面,清除毛刺毛邊的作用。
7:化學研磨拋光已經打到美國標準,另外XPS等檢測結果也符合半導體SEMI標準。
異形工件也可以,不需要通電極,任何部位均可處理,使用方便並且公義效果優於電解拋光。