真空鍍膜機的正確操作步驟

一、電控櫃的操作

1、玻璃真空鍍膜機開水泵、氣源

2、開總電源

3、開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小於10後，再進入下一步操作。約需5分鐘。

4、開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小於2為止，約需20分鐘。

5、觀察渦輪分子泵讀數到達250以後，關予抽，開前機和高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度後才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以後才能開電子槍電源。

二、DEF-6B電子槍電源櫃的操作

1、總電源

2、真空鍍膜裝置同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：汽車玻璃鍍膜按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘後延時及保護燈滅，若後門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。

3、開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

三、關機順序

1、關高真空表頭、關分子泵。

2、待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。

3、到50以下時，再關維持泵。 　

鍍膜機常見故障及處理方法

檢測不到掩膜夾具翻轉訊號：

1、檢查翻面訊號源位置

2、將翻面輸入訊號人工短接，使用翻面檢測功能，計算機能檢測到訊號時，證明問題在翻面控制開關上，根據情況做相應處理。檢測不到訊號首先檢查線路，然後更換控制卡。

掩膜夾具翻轉不穩定:

1、檢查翻板的初始位置是否符合時機

2、檢測翻面控制開關工作是否穩定，可用指標萬用表跟蹤監測。

3、檢查翻轉機構動作是否靈活可靠

4、檢查翻面訊號次數設定

5、檢查旋轉工作臺是否與鐘罩內壁有磨擦現象

6、檢測旋轉工作臺在轉動時的穩定性

在同一掩膜夾具頻率散差大:

1. 檢查晶片本身是否散差大

2. 檢查膜層修正板位置是否變動,重新調節修正板

3．檢查一下擋板在開、關時是否完全遮擋住鉬舟

4．檢查一下轟擊環是否完遮擋住鉬舟

5、檢查鉬舟使用是否符合要求，要採用圓形鉬舟

鍋與鍋之間頻率散差大:

1、觀察一下監控片是否存在跳頻現象

2、反覆測量統一監控片觀察振盪器的穩定性（不超過75Hz）

3、檢查冷卻水是否通暢

4、檢查鉬舟使用是否符合要求，要採用圓形鉬舟

5、監控片選用是否符合要求，建議採用我公司的監控片

鍍膜頻率不停止:

1、檢查頻率引數設定是否正確

2、鉬舟電流表是否有指示

3、鉬舟中是否有銀

4、監控片是否跳頻

5、修正係數是否錯誤

6、在出現非正常退後是否更換過監控片

測試不到頻率:

1、更換一下監控片

2、檢查一下測試彈片是否變形

3、用一隻5MHz的晶體直接插入振盪器輸入端測量頻率，若有頻率證明是探頭問題，若無頻率，用計數器測量一下振盪器輸出頻率是否異常，無正常輸出證明振盪器有問題，有正常輸出但計算機無顯示證明控制卡有問題

控制閥均不動作:

1. 檢查5V電源是否有輸出，是否接好

2. 檢查固態繼電器板上電源公共端是否有電

控制閥個別不動作

1、檢查相應的固態繼電器是否有輸出

未達到真空度就工作:

1、數字真空計出現不正常數字，且30秒內無變化，例如0.00-4（中國產真空計常見）現象

2、指標表在真空計開啟30秒後，黑色指標仍不擺動

監控片使用原則

1、監控片表面要清洗乾淨

2、監控片要隨用隨鍍，空氣中暴露12小時以上禁止使用

3、監控片及其表面存在存在缺陷的禁止使用

4、使用過程中要記錄好使用批次，嚴禁出現新舊混用

5、監控片反覆使用壽命為3次。

一、 實驗目的：

1． 瞭解真空技術的基本知識，以真空鍍膜機為例，掌握高真空的獲得與測量的基本原理及方法。

2． 學習掌握在玻璃基片上濺鍍單層高反射金屬膜的原理和操作方法。

3． 瞭解利用干涉法測量薄膜厚度的基本方法。

二、 實驗儀器：

JGP560B1型超高真空多功能磁控濺射鍍膜實驗系統裝置一套（包括機械泵、分子泵、熱耦真空計和電離真空計等）。

三、 實驗原理：

真空是指低於1個大氣壓的氣體空間。真空容器中的真空度是用氣體的壓強表示，真空度愈高，氣體壓強愈低，氣體分子愈稀少。（真空的劃分區域見講義P．155）真空技術被廣泛用於工業生產、科學實驗和近代尖端技術中，是高新技術領域中的關鍵手段之一。

本實驗採用JGP560B1型超高真空多功能磁控濺射鍍膜裝置，它包括下述三大部分：

1． 真空的獲得（真空系統）

本實驗高真空獲得分兩步實現。首先由機械泵透過不斷改變泵內吸氣空腔的容積而趕走氣體的方法，把系統的真空度從大氣壓開始抽到20Pa左右的低真空；在此基礎上，啟動分子泵使其開始工作，渦輪分子泵利用高速旋轉的轉子碰撞氣體分子並把它們驅向出氣口，再由機械抽除，從而使被抽系統進一步獲得10-4∽10-5Pa的高真空。

2． 真空的測量

測量真空度的裝置稱為真空計或真空規.先利用熱耦真空計測量低真空,當熱偶真空計達滿度即10-1Pa後,再利用電離真空計(DL-7程控真空計)監測高真空,其測量範圍為10-1--10-6Pa。

3． 真空鍍膜

真空鍍膜就是在高真空條件下，使固體表面澱積上一層金屬或介質的薄膜。真空鍍膜的方法常用的有兩種：真空蒸發法和濺射法。

本實驗採用磁控濺射法鍍膜。鍍膜室內裝有磁控靶。當真空度達到約10-4Pa，再充入氬氣達到３Pa左右，接通電源，使稀薄氣體發生輝光放電，產生大量離子，這些離子撞擊靶面，將靶材原子濺出穿過工作空間而澱積在玻璃基片上形成薄膜。

四、 實驗內容與步驟：

1． 熟悉鍍膜機的結構和儀器的操作規程（詳細見講義末頁）嚴格按照操作規程操作。清洗好基片。

2． 放入樣品

（1）．檢查系統所有的閥門和電源開關,讓其全部處於關閉狀態。

（2）．開啟放氣閥V6，慢開旁抽閥V5，通入乾燥空氣，給分子泵和靶通水。

（4）．清洗濺射室，放好清洗過的玻璃基片，手動大法蘭蓋，找正位置按“降”鈕，慢慢下降蓋好。

（5）．關閉V6和V5。

3． 抽真空

（1）．開機械泵，慢開旁抽閥V5，對濺射室直接抽氣。

（2）．開熱偶真空計，顯示到20Pa左右，關V5開電磁閥DF，依次開分子泵，開閘板閥G（不能開得過死）。

（3）．當熱偶真空計滿度0．1Pa（數碼顯示為1.E-1）時,方可開DL-程控真空計(高真空計),抽真空達10-4Pa。

（4）．上述（2）（3）兩項實驗過程中，應詳細記錄各時刻的低、高真空計的示值，作出被抽容器（濺射室）的抽氣曲線（即容器中壓強隨時間變化的曲線），以0．1Pa開始記錄，並分析各狀態真空度變化的機理。

4． 真空鍍膜

（1）．關閉高真空計，開啟氣路閥V3（慢開），低真空計顯示值≤20Pa後開V1、V2和流量計，同樣≤20Pa，穩定後，開氣源，關小閘板閥G，使低真空計顯示3Pa左右。

（2）．設定計算的控制狀態進行鍍膜

①設定初始狀態和鍍膜時間，初狀態與計算機上顯示的狀態相同 例將（a）樣品6，及(b)上檔板孔對準B靶

②操作計算機使a,b同時轉到A靶，卡住檔板b,樣品1轉到A靶與孔對齊

（3）啟動勵磁電源。先確認電壓、電流調節旋鈕處於零位，然後按電源“開”鈕，緩慢調節電源、電流旋鈕，使勵磁電源逐漸增大到起輝所需值，但不得超過3A，待起輝後將電流適當調小，以免燒壞線圈。

（4）啟動直流電源，調節至所需功率，電磁靶起輝濺射。

（5）用計算機控制鍍膜時間和更換基片。

（6）．列表記錄鍍膜過程的物理條件和引數（即真空度、質量流量、工作電壓、電流或工作功率和鍍膜時間）。

5． 停止鍍膜和關機

（2）．關氣源，依次開閘板閥G，關流量計（先調至0位再關），關V3（V1、V2都得關），約抽10—20分鐘。

（3）．關（兩）真空計，關閘板閥G，關分子泵，過5—10分鐘關電磁閥DF，關機械泵。

（4）．按步驟1取出樣品，並按步驟3抽真空達10-3Pa,再按上一步關機。

（5）．關真空泵處的總電源、關水。

（6）．觀察鍍制膜層的質量，並對實驗結果進行分析。