玻璃鍍膜就是在玻璃表面塗渡一層或多層金屬膜或金屬化合物，以改變玻璃光學效能。
玻璃鍍膜的方法分為四類：化學沉積法、熱蒸發鍍、機械(包括噴塗和浸漬兩種方法)以及目前比較先進的磁控賤射鍍膜。這些技術的原理和裝置都不一樣，也不能互換。
鍍膜玻璃生產方法都是在玻璃表面塗以金、銀、銅、鋁、鎳、鐵錫等金屬，金屬氧化物或非金屬氧化物薄膜：或採用電浮法、等離子法，像玻璃表面層深入金屬離子以置換玻璃表面層原有的離子而形成的Sunny控制鍍膜。
鍍膜前清洗
鍍膜前清洗的主要汙染物是油汙、手印、灰塵等。由於鍍膜工序對鏡片潔淨度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。分為有機溶劑清洗和半水基清洗。
有機溶劑清洗採用的清洗流程如下：
有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉乾燥。
半水基清洗採用的清洗流程如下：
半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉乾燥
真空蒸發鍍膜是將被鍍零件和膜層材料，以一定的相對位置，放在一個真空空 間，採用一定的方法，使膜料氣化或昇華，形成具有一定動能的分子(原子或離子)，離開蒸發器飛向被鍍零件表面，在表面上澱積形成薄膜。真空蒸發包括三個主要系統：真空系統、蒸發系統、膜厚監控系統。其中真空系統由真空室、機械泵、分子泵（油擴散泵）、管道、閥門、真空測量裝置等部分組成。蒸發系統採用電子槍蒸發，其主要由燈絲、高壓線圈、偏轉線圈、坩堝等組成。膜厚監控系統採用光電極值法，其主要由光源、比較片、單色儀、光電倍增管、膜厚控制儀及穩流穩壓電源組成。
磁濺射是先對玻璃進行清洗，在高真空倉室的靶材賤射區經過靶材離子賤射而鍍膜的。
玻璃鍍膜就是在玻璃表面塗渡一層或多層金屬膜或金屬化合物，以改變玻璃光學效能。
玻璃鍍膜的方法分為四類：化學沉積法、熱蒸發鍍、機械(包括噴塗和浸漬兩種方法)以及目前比較先進的磁控賤射鍍膜。這些技術的原理和裝置都不一樣，也不能互換。
鍍膜玻璃生產方法都是在玻璃表面塗以金、銀、銅、鋁、鎳、鐵錫等金屬，金屬氧化物或非金屬氧化物薄膜：或採用電浮法、等離子法，像玻璃表面層深入金屬離子以置換玻璃表面層原有的離子而形成的Sunny控制鍍膜。
鍍膜前清洗
鍍膜前清洗的主要汙染物是油汙、手印、灰塵等。由於鍍膜工序對鏡片潔淨度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。分為有機溶劑清洗和半水基清洗。
有機溶劑清洗採用的清洗流程如下：
有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉乾燥。
半水基清洗採用的清洗流程如下：
半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉乾燥
真空蒸發鍍膜是將被鍍零件和膜層材料，以一定的相對位置，放在一個真空空 間，採用一定的方法，使膜料氣化或昇華，形成具有一定動能的分子(原子或離子)，離開蒸發器飛向被鍍零件表面，在表面上澱積形成薄膜。真空蒸發包括三個主要系統：真空系統、蒸發系統、膜厚監控系統。其中真空系統由真空室、機械泵、分子泵（油擴散泵）、管道、閥門、真空測量裝置等部分組成。蒸發系統採用電子槍蒸發，其主要由燈絲、高壓線圈、偏轉線圈、坩堝等組成。膜厚監控系統採用光電極值法，其主要由光源、比較片、單色儀、光電倍增管、膜厚控制儀及穩流穩壓電源組成。
磁濺射是先對玻璃進行清洗，在高真空倉室的靶材賤射區經過靶材離子賤射而鍍膜的。