梭式窯作為一種間歇性窯爐，具有佔地少、一次性投資少、生產靈活等優點，因而受到廣大的中小型陶瓷企業的青睞。在燒製陶瓷製品時，為了達到所需的產品質量或外觀要求，往往需要在燒製產品的不同溫度階段控制窯爐內具有不同的氣氛。窯內的氣氛分為三種，即氧化氣氛、還原氣氛、中性氣氛。噴入窯爐內的燃料在一定的溫度下與噴入窯內的空氣發生氧化反應，當空氣過量時，此時煙氣內還含有一定的遊離氧，窯內的氣氛為氧化氣氛；當剛好燃燒完全時，窯內的氣氛為中性氣氛；當空氣量不足時，此時窯內煙氣中還含有沒有完全燃燒的CO、H等成分，窯內的氣氛為還原氣氛。在梭式窯的燒成過程當中氣氛的控制對陶瓷生產質量的影響很大，特別是燒製青瓷時，要求在升到一定溫度後、高溫保溫階段以及在高溫冷卻時保持有一定濃度的還原氣氛。但是對於梭式窯來說，操作上較容易在高溫保溫階段產生氧化，原因是高溫保溫階段一般噴入窯內的燃料量不多，只要保證維持溫度不變即可，故無法保證足夠的還原氣氛，故即使在前期已經還原了的瓷片，亦會因還原氣氛不足而進行二次氧化。特別是在高溫冷卻時，由於要求降溫不能再噴入燃料，幾乎沒有什麼手段可保證還原氣氛或近中性氣氛。

發明內容

本發明的目的在於克服上述現有技術的缺點和不足，提供在高溫保溫尤其是高溫冷卻時可以保證還原氣氛，陶瓷燒成效果好的梭式窯可控制還原氣氛燒成陶瓷方法。

本發明的目的透過下述技術方案實現本梭式窯可控制還原氣氛燒成陶瓷方法，步驟包括升溫、乾燥、燒成、保溫、冷卻、出窯，在梭式窯溫度為500～1400℃，保溫30～60分鐘時，將盛有1～2升水的敞口容器置於梭式窯下方的吸火口處，敞口容器的面積不小於吸火口的垂直投影面積。

所述的敞口容器可以為任何形狀，但必須保證可以盛放足夠的水，其上部敞口可以為矩形、圓形、橢圓形、菱形、三角形等；其上部敞口的面積要足夠大，以保證有足夠的蒸發面積提供足夠的水蒸汽；敞口容器的材質可以是已知的任何材質，只要是在窯爐底部並能接收窯內火焰的高溫輻射不會發生軟化變形即可，如不鏽鋼、鋁、陶瓷等；放置於窯爐下面的位置也可以不固定，但要使水蒸汽可以很順利的被吸入窯內。

本發明的基本原理是在爐內高溫輻射的作用下，水被輻射加熱而加速蒸發，熱的水蒸汽上升而由吸火口處負壓吸入窯內，在窯內的高溫下水可以分解成氫和氧，氫具有很強的還原能力；同時因為水蒸汽的密度小於空氣的密度，更容易在吸火口處上升進入窯內，迫使外面的空氣不易進入窯內，有利於保持窯內的還原氣氛。

本發明與現有技術相比，具有如下優點和有益效果可以很好的避免燒製陶瓷時的高溫氧化問題，大大提高青瓷產品的質量，節約燃料、減少汙染；並且具有成本低，易操作等優點。