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侵潤式光刻機利用空氣到某一種介質的折射率差來縮短光源的波長,從而實現更短的波長和更精細的光刻,7nm和5nm的光刻機就是這樣做出來的。問題是臺積電的光刻機用的是什麼介質?
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回覆列表
  • 1 # 愛因斯坦也是民科二

    光是透過振動磁場來傳播能量的。但是,在振動的過程中會出現兩個不同層次的頻率,一個是磁場本身頻率,一個是光的頻率。舉個例子,擊鼓,聲存在兩個頻率,一個是鼓的頻率,而裡另一個就是擊打的鼓槌頻率。當,鼓的頻率遠高於鼓槌擊打的頻率,您會忽略鼓的頻率只聽到擊打頻率。

    但是,當鼓的頻率接近擊打頻率時,您會聽不出哪個是鼓頻率,哪個是擊打頻率。

    把上述原理用到提升光的頻率時也一樣。取一光傳播介質,使它本身的內部磁場頻率接近光頻,這樣在這介質裡傳播的光波長就由這兩個頻率疊加後會減半縮減。

    介質磁場頻率怎麼測?我這裡暫時提供諧振測量法。就是類似鐳射發生器的設定。

    至於具體什麼材料?鄙人孤陋寡聞,確實不知道。

  • 2 # 科技型文盲1

    二代光刻機用水作為調波介質,將175奈米波長折射為132奈米。是潮汕人林本堅方案。

    三代光刻機光源波長13.5奈米,理論上用水可以將波長縮至10奈米。但意義很有限,觸及光刻膠工作範圍下限。下下去就不是光的範圍。即,理論上可以用真空,也可以用水。具體取決於光刻膠效能。

    預期四代光刻機直接用10奈米光源,這將是光刻機最後的掙扎。剩下的,就只能想工藝方法。

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